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美科学家使光刻技术实现20纳米工艺芯片新突破

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摘要美国威斯康星大学的科学家们已经开发出了一种用100纳米掩模刻制20纳米工艺芯片的技术,这将使摩尔定律出现一个意想不到的飞跃,同时有可能延长当前所使用的光刻技术的寿命。这种所谓的"亮度高峰(bright—peak)技术"

作者章从福

出处《半导体信息》 2004年第2期34-34,共1页 Semiconductor Information

关键词光刻技术掩模纳米工艺威斯康星大学摩尔定律 BRIGHT 纳米技术半导体生产感光性树脂晶体管数量

分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]

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半导体信息

2004年第2期

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