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氮化镓材料专利计量分析及启示 被引量:3

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摘要 氮化镓(Gallium Nitride,GaN)基半导体材料是继硅和砷化镓基材料后的新一代半导体材料,被称为第3代半导体材料。氮化镓材料由于具有禁带宽度大、击穿电场高、介电常数小、电子饱和漂移速度高、抗辐射能力强和良好的化学稳定性等独特的特性,在光电子器件和高温、高频大功率电子等微电子器件领域有广阔的应用前景。
出处 《新材料产业》 2015年第10期39-43,共5页 Advanced Materials Industry
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参考文献4

二级参考文献67

  • 1李效白.SiC和GaN电子材料和器件的几个科学问题[J].微纳电子技术,2004,41(11):1-6. 被引量:6
  • 2伊晓燕,郭金霞,马龙,王立彬,陈宇,刘志强,王良臣.倒装结构大功率蓝光LEDs的研制[J].光电子.激光,2006,17(6):693-696. 被引量:10
  • 3张国义,陆敏,陈志忠.高亮度白光LED用外延片的新进展[J].物理,2007,36(5):377-384. 被引量:8
  • 4钟继.超高亮度发光二极管芯片切割技术[J].半导体技术,2007,32(7):606-609. 被引量:2
  • 5Mishra U K, Shen Likun, Kazior T E, et al. GaN-based RF power devices and amplifiers [C]. Proceedings of the IEEE, 2008, 96: 287-305. 被引量:1
  • 6Bandic Z Z, Bridger P M, Piquette E C, et al. High voltage (450 V) GaN Schottky rectifiers [J]. Appl Phys Lett, 1999, 74(9): 1266-1268. 被引量:1
  • 7Zhang A P, Johnson J W, Ren F. Lateral AlxGa1-xN power rectifiers with 9.7 kV reverse breakdown volt- age [J]. Appl Phys Lett, 2001, 78(6): 823-825. 被引量:1
  • 8Zhou Y, Wang D, Ahyi C, et al. High breakdown voltage Schottky rectifier fabricated on bulk n-GaN substrate [J]. Solid-state Electronics, 2006, 50(11- 12) : 1744-1747. 被引量:1
  • 9Lee S C, Ha M Woo, Her J C, et al. High breakdown voltage GaN Schottky barrier diode employing floating metal rings on AlGan/GaN hetero-junction [C]. In Proceedings of the 17 International Symposium on Power Semiconductor Devices & ICes (ISPSD), 2005 : 247-250. 被引量:1
  • 10Kamada, Matsubayashi A, Nakagawa K, et al. High- voltage AIGaN/GaN Schottky barrier diodes on Si substrate with low-temperature GaN cap layer for edge termination [C]. In Proceedings of the 20 International Symposium on Power Semiconductor Deviees & IC's (ISPSD) ,2008: 225-228. 被引量:1

共引文献19

同被引文献28

引证文献3

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