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离子束溅射和离子辅助淀积DWDM滤光片的膜厚均匀性 被引量:10

Uniformity of layer thickness of DWDM filters prepared by ion-beam sputtering and ion-assisted deposition
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摘要 用离子束溅射和离子辅助淀积技术制备DWDM滤光片的关键问题是必须获得优良的膜层厚度均匀性。采用实验修正膜层厚度修正板的办法获得了较好的均匀性分布 ,给出了实验配置、实验方法和实验结果 。 The uniformity of layer thickness of DWDM filters is a key point. An excellent uniformity distribution is achieved by means of using a thickness trimming mask. Experimental setup, method and results of uniformity of layer thickness are presellted and discussed.
出处 《光学技术》 CAS CSCD 2001年第5期410-412,共3页 Optical Technique
关键词 离子束溅射 DWDM滤光片 厚度均匀性 离子辅助沉积 光学薄膜 ion beam sputtering DWDM filter uniformity of layer thickness
  • 相关文献

参考文献2

  • 1顾培夫编著..薄膜技术[M].杭州:浙江大学出版社,1990:272.
  • 2顾培夫,薄膜技术,1990年,131页 被引量:1

同被引文献53

引证文献10

二级引证文献38

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