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应用材料公司宣布推出全新Centura?Avatar^(TM)刻蚀系统

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摘要今天,应用材料公司宣布推出全新的Ap-plied Centura Avatar刻蚀系统。该系统主要针对高深宽比刻蚀应用,如制造新兴的三维NAND存储结构。

出处《电子工业专用设备》 2012年第7期62-63,共2页 Equipment for Electronic Products Manufacturing

关键词应用材料公司系统刻蚀高深宽比存储结构 NAND

分类号 TN305 [电子电信—物理电子学]

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电子工业专用设备

2012年第7期

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