期刊导航
期刊开放获取
cqvip
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
应用材料公司推出Centris^TM刻蚀系统,开启智能高产芯片制造新纪元
下载PDF
职称材料
导出
摘要
日前,应用材料公司宣布推出强大的Applied Centris^TM AdvantEdge^TM Mesa^TM刻蚀系统,它是面向世界上最先进的存储和逻辑芯片的批量生产而推出的智能化程度最高、速度最快的硅刻蚀系统,开启了芯片制造的新纪元。
出处
《电子工业专用设备》
2010年第12期56-56,共1页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
应用材料公司
芯片制造
硅刻蚀
智能化
系统
批量生产
逻辑芯片
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
引文网络
相关文献
节点文献
二级参考文献
0
参考文献
0
共引文献
0
同被引文献
0
引证文献
0
二级引证文献
0
1
刘洋.
智能化刻蚀系统有效降低硅片制造成本[J]
.电子设计技术 EDN CHINA,2011,18(2):20-20.
2
应用材料公司推出全新刻蚀系统[J]
.中国集成电路,2015,24(8):5-5.
3
应用材料公司推出全新刻蚀系统实现原子级生产精度[J]
.电子工业专用设备,2015,0(7):22-22.
4
孙敏.
全自动湿法刻蚀系统在PSS制程中的应用[J]
.电子工业专用设备,2015,44(8):24-29.
5
美国HDTV家庭倾向于选择HD VOD[J]
.电视研究,2010(8).
6
陈俊宇(编译).
首架“和平鹰”安装多功能电扫阵列雷达(MESA)[J]
.雷达与电子战,2006,0(2):43-44.
7
应用材料公司宣布推出全新Centura?Avatar^(TM)刻蚀系统[J]
.电子工业专用设备,2012,41(7):62-63.
8
中国4G网络更近一步 TD-LTE技术面向世界[J]
.硅谷,2011(22):119-119.
9
王海玲,郭霞,周跃平,沈光地.
ICP刻蚀GaP研究及对LED性能的影响[J]
.固体电子学研究与进展,2008,28(1):154-157.
被引量:1
10
应用材料公司推出突破性刻蚀技术[J]
.中国集成电路,2012(8):4-4.
电子工业专用设备
2010年 第12期
职称评审材料打包下载
相关作者
内容加载中请稍等...
相关机构
内容加载中请稍等...
相关主题
内容加载中请稍等...
浏览历史
内容加载中请稍等...
;
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部