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低稀释比玻璃熔片X射线荧光光谱法分析高纯硅石中主次成分
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摘要
用市售硅石、硅砖国家标准物质和SiO2基准试剂配制出一系列适当含量范围的标准样品,采用低稀释比玻璃熔片法,研究了高纯硅石中主次成分的X射线荧光光谱分析方法,并且对熔剂种类、稀释比、熔样条件进行了系统研究。国家硅石标准物质的测定值与标准值相一致,应用于实际样品的测定并和化学法比较,分析结果也基本一致。该方法操作简单、快速,结果准确,精密度好,具有良好的实用性。
作者
宋霞
杨双花
翟智卫
机构地区
洛阳理工学院环境工程与化学系
出处
《耐火材料》
CAS
北大核心
2011年第4期318-320,共3页
Refractories
关键词
低稀释比
玻璃熔片法
X射线荧光光谱法
高纯硅石
系列标准样品
分类号
TQ175.711 [化学工程—硅酸盐工业]
引文网络
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