摘要
报道了Ｋａ 波段功率ＰＨＥＭＴ的设计和研制结果。利用双平面掺杂的ＡｌＧａＡｓ／ＩｎＧａＡｓＰＨＥＭＴ材料，采用０．２ μｍ 的Ｔ型栅及槽型通孔接地技术，研制的功率ＰＨＥＭＴ的初步测试结果为：Ｉｄｓｓ：３６５ ｍ Ａ／ｍ ｍ ；ｇｍ ０：３２０ ｍ Ｓ／ｍ ｍ ；Ｖｐ：－ １．０～－ ２．０ Ｖ。总栅宽为７５０ μｍ 的功率器件在频率为３３ ＧＨｚ时，输出功率大于２８０ ｍ Ｗ，功率密度达到３８０ ｍ Ｗ／ｍ ｍ ，增益大于６ ｄＢ。
This paper describes the design and performance of a Ka band power PHEMT.We have successfully developed a 0.2 μm T gate double δ doping AlGaAs/InGaAs PHEMT process for the fabrication of power devices.The measured power device exhibited an output power of 280 mW with 6.0 dB gain at 33 GHz.
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1999年第3期266-273,共8页
Research & Progress of SSE
