期刊文献⁺

任意字段

题名或关键词

题名

关键词

文摘

作者

第一作者

机构

刊名

分类号

参考文献

作者简介

基金资助

栏目信息

下代光刻设备的再次选择

下载PDF

导出

摘要１引言一年半以前，国际ＳＥＭＡＴＥＣＨ财团将光学光刻的接班技术选择缩小到４种：极紫外（ＥＵＶ）、离子投影光刻（ＩＰＬ）、限角散射投影电子束光刻（ＳＣＡＬＰＥＬ）和ｘ射线光刻技术。已证实，各种技术均具有７０ｎｍ以下特征尺寸的作图能力。然而，根据下代光刻...

作者 DeJule,R 葛劢冲

出处《电子工业专用设备》 1999年第2期60-64,共5页 Equipment for Electronic Products Manufacturing

关键词光刻设备光学光刻 X射线半导体器件

分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]

引文网络
相关文献

1光学光刻——向21世纪挺进[J].电子工业专用设备,1998,27(2):1-5. 被引量：2
2童志义.国外光刻设备市场概况及发展趋势(续)[J].半导体技术,1991,7(4):18-21. 被引量：1
3童志义.国外光刻设备市场概况及发展趋势[J].半导体技术,1991,7(3):54-64. 被引量：2
4姚汉民,黄泽永,谢传钵,陈旭南.从SEMICON/WEST′91看当今光刻设备的发展(出国参观考察报告)[J].光电工程,1992,19(3):52-64.
5周崇喜,胡松.光学光刻的现状及未来[J].电子工业专用设备,1999,28(2):2-4. 被引量：4
6袁群毅,叶日东.用于0.25μm线宽设计规则的光刻设备——PAS5500／300[J].LSI制造与测试,1997,18(4):68-68.
7翁寿松.摩尔定律与半导体设备[J].电子工业专用设备,2002,31(4):196-199. 被引量：14
8周文钊.光学光刻和相应的抗蚀剂的进展[J].化工科技动态,1992,8(9):1-3.
9刘恩荣.光学光刻在军事微电子器件制造中的作用和地位[J].电子工业专用设备,1992,21(3):8-12.
10翁寿松.φ300mm/0.18μm的光刻工艺及设备[J].电子工业专用设备,1999,28(1):1-5. 被引量：2

电子工业专用设备

1999年第2期

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...

;

使用帮助返回顶部