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φ300mm/0.18μm的光刻工艺及设备
被引量：
2
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摘要
综述了３００ｍｍ／０１８μｍＣＤ对光刻工艺的要求以及光刻设备的发展。
作者
翁寿松
机构地区
无锡市无线电元件四厂
出处
《电子工业专用设备》
1999年第1期1-5,共5页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
圆片
CD
光刻工艺
设备
芯片
晶体管
分类号
TN320.57 [电子电信—物理电子学]
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张济民.
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.电子产品世界,1998,5(1):26-26.
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翁寿松.
300mm/0.18μm工艺及设备[J]
.半导体情报,1999,36(3):25-29.
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程文芳.铜连线开发和应用史[J].半导体信息,2002,(4):50-54.
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.电子产品世界,1999,6(1):16-16.
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DeJule,R,葛劢冲.
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慕利娟,赵宏宇.
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.低温与超导,2009,37(3):31-33.
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姚汉民,黄泽永,谢传钵,陈旭南.
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电子工业专用设备
1999年 第1期
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