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对向靶反应溅射CN薄膜热稳定性的Raman散射研究 被引量:2

RAMAN SCATTERING INVESTIGATION OF THE THERMAL STABILITY OF CN FILMS PREPARED BY DUAL-MCING-ThRGET SPUTTERING
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摘要 用Raman散射研究了对向靶反应溅射法制备的CN薄膜的键结构研究表明,在C膜中掺杂N可以抑制CN膜中sp3键的形成,提高sp2键的相对含量。 The thermal stability of CN films prepared by dual-facing-target sputtering was investigated by using Raman scattering. The results indicate that the formation of sp3 bonding can be suppressed by doping N atoms, and therefore the fraction of sp2 bonding is increased. It was also found that nitrogen incorporating is an effective method to improve the thermal stability of C films.
机构地区 天津大学理学院
出处 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1999年第7期762-766,共5页 Acta Metallurgica Sinica
基金 国家自然科学基金!59801006 国家教委博士点基金!D096006 天津市21世纪-青年科学基金!9837001111 天津大学理科青年基金
关键词 RAMAN散射 CN薄膜 对向靶反应溅射 热稳定性 Raman scattering CN film doping annealing
  • 相关文献

参考文献1

  • 1Bai H L,J Appl Phys,1996年,80卷,1428页 被引量:1

同被引文献35

引证文献2

二级引证文献6

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