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离子束刻蚀深度检测技术的研究 被引量:1

STUDY ON THE MEASUREMENT OF ION BEAM ETCHING DEPTH
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摘要 将光学薄片用作敏感元件,利用激光干涉原理,将离子束刻蚀深度的信息转换为可测的激光干涉条纹的移动信息。这对微光学元件的离子束微细加工具有现实意义。对敏感元件与传感元件间的耦合进行了探讨,给出了振动误差的抑制措施。 A thin glass is used as the sensitive element of ion beam etching depth.The information of ion beam etching depth is transformed to the information of displacement of the fringes base on the principle of laser interference.This has a practical significance to ion beam microfabrication of micro optic element. The coupling between sensitive element and sensing element is discussed,and the methods for restraining the vibration error are given.
出处 《微细加工技术》 1999年第1期74-78,共5页 Microfabrication Technology
基金 国家自然科学基金 安徽省自然科学基金
关键词 离子束 刻蚀 测量 敏感元件 ion beam etching measurement
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