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HgCdTe离子注入掺杂及损伤特性 被引量:3

Doping and Damaging Characteristics of HgCdTe by Ion Implantation
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摘要 运用红外反射谱,背散射谱和二次离子质谱等方法研究HgCdTe注入B、P、In和As等元素的掺杂与损伤特性。 The methods of infrared reflective spectra(IRRS), Rutherford back scatting(RBS) and secondary ion mass spectrometry(SIMS) were used to study doping and damging effects on HgCdTe, which is induced through B +,P +,In + and As + ions implantation.
出处 《红外技术》 EI CSCD 北大核心 1998年第6期22-24,共3页 Infrared Technology
关键词 碲镉汞 离子注入 表面损伤 红外探测器 HgCdTe Ion implantation Surface damage
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