摘要
通过正交试验对PCVD-TiC膜的镀膜工艺参数进行了优化,得到了可制备高硬度、高结合牢度和高沉积速率TiC膜的工艺参数.试验表明,在用PCVD法沉积TiC膜的过程中,TiCl_4和CH_4的流量是重要的控制参数.过多的TiCl_4和CH_4都会给TiC膜带来不利的影响.氩气虽然可以提高TiC膜的沉积速率,但同时也降低了膜-基之间的结合牢度.在冷挤压模具上应用的结果表明,镀有优化后的PCVD-TiC膜的模具比镀TiN膜的模具可提高2～4倍,与不镀膜的模具相比可提高寿命10倍以上.
The parameters of depositing PCVD-TiC coatings have been optimized using orthogonal test method. The results showed that the flow rates of TiCl and CH are important parameters in the depositing process.
出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
1998年第2期40-42,共3页
Surface Technology
