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聚酰亚胺、四甲基氢氧化胺对Si-SiO_2界面的影响

The effect of polyimide and tetramethylammonium hydroxide to SiSiO2 interface
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摘要 通过几组对比实验,揭示了聚酰亚胺、四甲基氢氧化胺对SiSiO2界面的影响:聚酰亚胺在SiSiO2界面上引入正电荷,四甲基氢氧化胺则在SiSiO2界面上引入负电荷。 Through comparing several different experiments,the effect of polyimide and tetramethylammonium hydroxide to SiSiO2 interface is indicated. Polyimide can take positive charge into SiSiO2 interface, tetramethylammonium hydroxide can take negative charge into SiSiO2 interface. This conclusion is very important for the research of passivated thin film how to resist γ ray.
作者 张济龙
出处 《半导体杂志》 1998年第2期1-3,共3页
关键词 界面 二氧化硅 聚酰亚胺 四甲基氢氧化胺 interface Flatband voltage
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