双重图形成像技术成本与复杂性之战

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摘要今年在SEMICON West的Sokudo光刻早餐论坛上,重点讨论了双重图形成像技术的挑战。可以确定,双重图形成像技术并未解决所有难题,但即便如此,对32nm成像而言,已被认定为最有前景的技术,对22nm成像来说也可能如此。

出处《集成电路应用》 2008年第11期31-32,共2页 Application of IC

关键词成像技术技术成本图形复杂性 SEMICON 光刻

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集成电路应用

2008年第11期

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