摘要
铁电薄膜是一类重要的功能材料,是近年来高新技术研究的前沿和热点之一。金属有机化学气相沉积(MOCVD)是制备铁电薄膜的一种重要方法。综述了金属有机化学气相沉积法制备铁电薄膜的历史、原理、工艺参数、特点和采用此方法制备出的某些材料的铁电性能。
Ferroelectric thin films as an important functional material were recently one of the new/high-tech projects drawing extensive attention to study, to which the MOCVD （metal organic chemical vapour deposition） is an important process for preparation of ferroelectric films. Reviews the formation principle, process parameters and characteristics of the ferroelectric films by MOCVD especially the ferreelectric properties of some materials prepared by MOCVD.
出处
《真空》
CAS
北大核心
2008年第6期25-28,共4页
Vacuum
基金
中国博士后科学基金(编号20070410774)
重庆市自然科学基金(编号CSTC2007BB4212)
重庆市教育委员会科学技术研究项目(编号KJ071401)
