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上海地区正常青少年颅颌线距相关性研究 被引量:8

The Correlation Analysis of Craniomaxillary Linear Parameters of Shanghai Adolescents with Normal Occlusion
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摘要 应用X线头影测量McNamara分析法对上海地区57例正常青少年颅颌线距测量值进行相关性分析。结果表明,有效上颌长度和有效下颌长度间,上颌突度和下颌突度间存在相关性。前下面高和下颌突度在一定条件下相关。同时作出回归方程,为研究颅颌线距的定量关系提供参考。 The craniomaxillary linear parameters of 57 Shanghai adolescents with normal occlusion were evaluated by using McNamara analysis. The results showed that there were significant correlations between effective maxillary length and effective mandibular length, and between Nasion perpendicular to point A and Pogonion to nasion perpendicular. Under certain conditions, Pogonion to nasion perpendicular and lower anterior facial height were also correlated.The regression equation was presented.
出处 《上海第二医科大学学报》 CSCD 1997年第6期445-447,共3页 Acta Universitatis Medicinalis Secondae Shanghai
关键词 X线头影测量 正常He 口腔正畸 诊断 颅颌线距 cephalometrics normal occlusion
  • 相关文献

参考文献2

  • 1林久祥,现代口腔正畸学(第2版),1995年,104页 被引量:1
  • 2傅民魁,口腔X线头影测量理论与实践,1992年,91页 被引量:1

同被引文献85

引证文献8

二级引证文献22

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