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接近式光刻刻划间隙的确定 被引量:2

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摘要 接近式光刻刻划间隙的确定*付永启(中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室长春130022)0前言接近式光刻法是目前常用的光刻方法之一,该方法由于具有效率高、不损伤毛坯感光胶面等优点而被广泛采用,但该方法也有一缺点长期困扰着人们,这就是...
作者 付永启
出处 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第4期417-420,433,共5页 Chinese Journal of Scientific Instrument
  • 相关文献

参考文献2

同被引文献11

  • 1严瑛白.应用物理光学[M].北京:机械工业出版社,1985.. 被引量:1
  • 2傅永启,仪器仪表学报,1997年,18卷,4期,417页 被引量:1
  • 3严瑛白,应用物理光学,1985年 被引量:1
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引证文献2

二级引证文献1

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