摘要
接近式光刻刻划间隙的确定*付永启(中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室长春130022)0前言接近式光刻法是目前常用的光刻方法之一,该方法由于具有效率高、不损伤毛坯感光胶面等优点而被广泛采用,但该方法也有一缺点长期困扰着人们,这就是...
出处
《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1997年第4期417-420,433,共5页
Chinese Journal of Scientific Instrument
参考文献2
-
1严瑛白,仪器仪表学报,1982年,3卷,23期 被引量:1
-
2郝沛明,光学工程,1981年,5期 被引量:1
同被引文献11
-
1严瑛白.应用物理光学[M].北京:机械工业出版社,1985.. 被引量:1
-
2傅永启,仪器仪表学报,1997年,18卷,4期,417页 被引量:1
-
3严瑛白,应用物理光学,1985年 被引量:1
-
4AHN S H,GUO L J. Large—area roll-to-roll and roll-lo-platnanoimprint lithography: a step toward high-throughpul appli-cation of continuous nanoimprinting [J]. ACS Nano, 2009. 3(8): 2304-2310. 被引量:1
-
5MAKEL T, HAARAINEN T, AHOPELTO J. Roll-to-rollprinted gratings in cellulose acetate web using novel nanoim-printing device [J]. Microelectronic Engineering, 2011,88(8): 2045- 2047. 被引量:1
-
6JIANG L T,HUANG T C, CHANG C Y , et al. Direct fab-rication of rigid microstructures on a metallic roller using a dryfilm resists [J]. Journal of Micromechanics and Microengi-neering, 2008, 18(1) ; 015004-1 -015004-6. 被引量:1
-
7CHEN H W, LEE Y C, HSIAO F B. Fabrication of seamlesspatterns onto metal rollers by photolithography [C] // Pro-ceedings of the 5th IEEE International Conference on Nano/Mi-cro Engineered and Molecular Systems ( NEMS). Xiamen,China, 2010: 887-892. 被引量:1
-
8LI W H, CHEN H W, HU Y W, et al. Fabrication of seam-less roller molds using step and rotate curved surface photoli-thography and application on micro-lens array optic film[C] / / Proceedings of 2011 IEEE International Conference onNano/Micro Engineered and Molecular Systems (NEMS).Kaohsiung, Taiwan,China, 2011 . 728 - 731. 被引量:1
-
9JIANG W T, DING Y H, LIU H Z. Two-step curing methodfor demoulding in UV nanoimprint lithography [J]. Micro-electronic Engineering, 2008, 85 (2) ; 458 - 464. 被引量:1
-
10兰红波,丁玉成,刘红忠,卢秉恒.纳米压印光刻模具制作技术研究进展及其发展趋势[J].机械工程学报,2009,45(6):1-13. 被引量:17
引证文献2
-
1付永启,赵兴国,赵晶丽.柱面图形光学刻划的研究[J].仪器仪表学报,1999,20(1):97-99.
-
2冯龙,蒋维涛,刘红忠,史永胜,尹磊.步进式旋转光刻制备柱面微结构光栅模具[J].微纳电子技术,2013,50(5):316-321. 被引量:1
-
1付永启,朱应时.接近式光刻中刻划间隙对刻线质量的影响分析[J].光学精密工程,1996,4(5):111-115.
-
2田学红,刘刚,田扬超,张新夷,张鹏.接近式光刻的计算机模拟研究[J].微纳电子技术,2003,40(7):181-185. 被引量:7
-
3田学红,刘刚,田扬超,张新夷,张鹏.接近式光刻的计算机模拟研究[J].微细加工技术,2003(2):43-48. 被引量:3
-
4葛嫏,林永水,石宗宝,王思年,吴淦淦.大面积液晶显示面板光刻机新型工作台设计[J].福州大学学报(自然科学版),1995,23(6):66-69.
-
5赵永凯,黄惠杰,路敦武,杜龙龙,杨良民,袁才来,蒋宝财,王润文.接近式光刻中斜照明改善分辨率的模拟与分析[J].微细加工技术,2001(2):9-13. 被引量:4
-
6苟永明.光刻技术的发展及展望[J].上海微电子技术和应用,1998(3):4-9.
-
7陈有梅,郑津津,周洪军,沈连婠,张自军.接近式光刻衍射光场的快速计算机模拟[J].中国科学技术大学学报,2007,37(1):30-34. 被引量:1
-
8李霖,周庆奎,宫晨.接触接近式曝光机曝光方式浅析及实例[J].电子工业专用设备,2012,41(6):24-25. 被引量:4
-
9Bryce Osoinach.飞思卡尔触摸传感器实现新的应用[J].电子产品世界,2009,16(8):19-20.
-
10郭玉彬,李福田,唐九华,李加.激光等离子体软X射线接近式光刻术初步研究[J].光学学报,1995,15(3):313-319. 被引量:1