摘要
简要评述光学光刻技术由０３５μｍ工艺向０２５μｍ工艺转移中所面临的挑战，及远紫外光刻技术在器件制造中的地位。
出处
《电子工业专用设备》
1997年第2期5-11,共7页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
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