摘要
合成并表征了N-十六烷基丙烯酰胺（HDA）和对叔丁基苯酚甲基丙烯酸酯（BPhMA）的共聚物p（HDA-BPhMA）s。当HDA含量较高时，共聚物可在气，液界面上形成稳定，排列紧密的单分子薄膜，并可以Y型膜的方式沉积在各种固体基片上，形成多层均匀的Langrnuir-Blodgett（LB）膜。这种LB膜被成功地应用于光刻，获得了分辨率为0.5μm的LB膜图形。以该图形为抗蚀层，可将图形进一步转移至金属薄膜上，得到分辨率较高的金属图形，在图形转移的过程中，这种LB膜显示出较高的抗蚀性，有望作为纳米抗蚀薄膜材料在亚微米刻蚀领域得到应用。
A series of copolymer [Poly（N-hexadecylacrylamide-co-4-tert-butylphenl methcylate）s] （p（HAD-BPhMA）s） which contain N-hexadecylacrylamide （HAD） and 4-tert-butylphenl methacrylate （BphMA） was synthesized. The copolymer （p（HAD-BPhMA）s） which contain low mole fraction of BphMA could form stable, condensed monolayer at the air/water interace, and could be transferred to solid supports givin Y-type Lanmuir-Blodett films. The resolution of p（HAD-BphMA20） LB films patern was 0.5μm which is the limit resolution of the photomask employed. The atom force microscopy （AFM） studies showed that p（HAD-BphMA20） LB films had a high resistance ability in the process of etchin gold films.
出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第A01期281-284,共4页
Journal of Functional Materials
基金
基金项目：河南省杰出人才创新基金资助项目（0621001100）
河南省杰出青年基金资助项目（074100510015）
河南省自然科学基金资助项目（0611020100,2007150042）
