等离子体辅助的MCOVD制备碳氮化锆薄膜
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1胡莉莉,李德杰.直流溅射中氮气分量对氮化锆薄膜性质的影响[J].真空科学与技术,2003,23(5):347-349. 被引量:2
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2郭信章,尹万里.氮化锆薄膜性能的研究[J].中国表面工程,1991,8(4):17-19.
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3吴大维,张志宏,罗海林,郭怀喜,范湘军.直流反应磁控溅射法注积ZrN薄膜[J].材料研究学报,1997,11(2):207-208. 被引量:5
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4牛建钢,孙维连.氮分压对氮化锆薄膜颜色的影响规律研究[J].光学学报,2007,27(1):177-180. 被引量:4
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5黄佳木,覃丽禄,董思勤.磁控溅射制备ZrN_x薄膜离子导体性能研究[J].功能材料,2010,41(3):450-452. 被引量:1
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6MA Beiyue,YU Jingkun,LI Hezheng,WANG Zhenming.Synthesis of ZrN-Si_3N_4 Composite by Carbothermal Reduction and Nitridation of Zircon[J].China's Refractories,2010,19(1):16-19.
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7陆有军,淮晓晨,吴澜尔,黄振坤,王燕民.ZrN–Si_3N_4–Y_2O_3复合材料的相组成(英文)[J].硅酸盐学报,2015,43(12):1742-1746. 被引量:2
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8牛建钢,孙维连.基于人工神经网络的氮化锆薄膜颜色预测模型[J].真空,2007,44(2):37-39.
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9李新领,孙维连,牛建钢.氮分压对氮化锆薄膜颜色影响规律的研究[J].真空与低温,2004,10(4):215-217. 被引量:4
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10Jong-Kook LEE,G won-Seung YANG.Preparation of TiAlN/ZrN and TiCrN/ZrN multilayers by RF magnetron sputtering[J].中国有色金属学会会刊:英文版,2009,19(4):795-799. 被引量:6
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