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电致发光中SiO_2加速层中电子的输运特性 被引量:2

THE ELECTRON TRANSPORT BEHAVIOUR IN SiO_2 USED IN TFEL
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摘要 研究作为电致发光的加速层的SiO_2中电子的输运行为.给出SiO_2层中陷阶辅助电荷输运的理论模型,并用实验对这一模型进行了验证.认为电致发光条件下SiO_1层中的电子在低场下是以陷阱跳跃的形式输运的,而在高场下陷阱中的电子离化进入导带. The electron transport behaviour in SiO2 used in TFEL is studied. The theoretical model of trap-well aided electron transport is given, and some experiments is conducted to prove the validity of this model. In the condition of TFEL, the electron transport in the form of hopping-trap in low electro field in SiO2, and electrons jumped up into conduct band from trap-well in the high electro-field.
出处 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1995年第7期1164-1171,共8页 Acta Physica Sinica
基金 国家自然科学基金 国家"863"高科技项目资助的课题.
  • 相关文献

参考文献8

  • 1陈立春,博士学位论文,1994年 被引量:1
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  • 5徐叙--,J Cryst Growth,1990年,101卷,1004页 被引量:1
  • 6徐叙--,Solid State Commun,1990年,72卷,803页 被引量:1
  • 7徐叙--,Springer Proceeding in Phys,1989年 被引量:1
  • 8徐叙--,J Phys C Sol Stat Phys,1982年,15卷,1781页 被引量:1

同被引文献12

引证文献2

二级引证文献1

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