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CO_2激光CVD制备纳米硅粉
被引量：
8
Nanosized Silicon Powders Produced by CO_2 Laser induced Chemical Vapor Deposition
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摘要
本文分析了激光诱导化学气相沉积制备纳米材料的基本原理，获得了适宜的制备工艺参数，制得了三种粒径的硅粉样品（１５ｕｍ，２５ｕｍ，８０ｕｍ）。讨论了制备工艺参数与粉末特征的关系。
作者
王卫乡
刘颂豪
张有
梅宴标
廖健宏
陈强
陈可心
机构地区
中国科学院国际材料物理中心
出处
《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
1995年第2期27-31,共5页
Laser & Infrared
基金
广东省高教局重点学科和广东省自然科学基金
关键词
激光
化学气相沉积
硅
二氧化碳
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
O48 [理学—固体物理]
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1995年 第2期
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