摘要
研究黄铜化学抛光液各组分的浓度及工艺参数对抛光效果的影响，提出最佳工艺参数。
The effects of solution component concerntration and operating conditions in chemical polishing of brass are studied,resulting in the optimized process parameters.
出处
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
1995年第3期15-18,43,共5页
Electroplating & Finishing
关键词
化学抛光
黄铜
光反射率
重量法
chemical polishing
brass
reflectivity
gravimetry
