摘要
综述了脉冲激光沉积(PLD)薄膜技术的原理、特点,着重分析了脉冲激光沉积技术的研究现状和在功能薄膜制备中的应用前景。大量研究表明,脉冲激光沉积技术是目前最好的制备薄膜方法之一。
In this paper, the principle and the characteristics of pulsed laser deposition (PLD) technology is briefly introduced, the current research status of PLD and future application trend in the functional film are discussed in detail. The researches show that PLD is a new promising technique for growing thin films.
出处
《空军工程大学学报（自然科学版）》
CSCD
北大核心
2005年第3期77-81,共5页
Journal of Air Force Engineering University(Natural Science Edition)
基金
国家自然科学基金资助项目(50331040
60171043)
陕西省自然科学基金资助项目(2001C21)
西北工业大学博士论文创新基金资助项目(200242)
关键词
PLD
薄膜制备
应用
PLD
film preparation
application
