摘要
一、前言 硅烷是发展电子工业所必需的特种气体之一，它广泛应用于集成电路和半导体器件中的掩膜工艺(沉积二氧化硅薄膜，氮化硅薄膜、磷硅玻璃等)、钝化工艺(淀积氮化硅薄膜)和介质隔离工艺(生长多晶硅栅等)。在微波器件中，进一步结合外延技术，用硅烷热分解制得同质外延片和异质外延片，为微波器件提供了新型的基片。最近又发展了把硅烷作为砷化镓微波器件的离子注入源和激光器的介质，以及光纤通讯纤维的原料。
出处
《低温与特气》
CAS
1988年第4期17-23,共7页
Low Temperature and Specialty Gases
