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石墨炉原子吸收光谱测定三甲基镓中痕量元素

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摘要 石墨炉原子吸收光谱测定三甲基镓中痕量元素赵毅,彭淑娟,刘玉璇(化工部光明化工研究所116031)(一)引言Ⅱ、Ⅲ、Ⅳ族元素的烷基化合物和Ⅴ、Ⅵ族元素的氢化物及烷基化合物可结合用于MOCVD法中,用以制备化合物半导体材料。但对这些高反应活性的金属有机化...
出处 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第3期299-240,共1页 Chinese Journal of Rare Metals
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