用微波等离子体化学气相沉积(MWCVD)法在(100)Si衬底上沉积织构金刚石膜被引量：2

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摘要人工合成金刚石薄膜最重要的应用前景之一是有可能成为新一代高温、高频、大功率半导体器件的材料,但由于多晶金刚石膜中颗粒的晶向分布杂乱,而且存在大量的晶粒间界和缺陷,大大地影响了膜的质量,不可能用以制造高性能的电子器件,所以人们一直在致力于金刚石外延膜的研究.

作者张文军张仿清胡博韩立陈光华

机构地区兰州大学物理系

出处《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第23期2203-2203,共1页 Chinese Science Bulletin

基金国家"八六三"高技术基金资助项目

关键词金刚石薄膜人工合成气相沉积 MWCVD 硅

同被引文献24

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科学通报

1994年第23期

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