期刊文献+

MOS器件的最高工作温度及潜力开拓 被引量:9

The Limited Operating Temperature and The Potential Development of MOS Device
下载PDF
导出
摘要 本文根据半导体材料物理参数、MOS器件电学参数在高温下变化的理论分析和实验结果,提出了影响MOS器件最高工作温度的主要因素及潜力开拓的途径。 In this paper, the theoretical analysis and the experimental results at hightemperature of semiconductor material' physical parameters and MOS devices',electrical parametershave been discussed,The main factors which influence the limited operating temperature arepresented. The ways of potential development have been proposed.
出处 《电子器件》 CAS 1994年第4期23-29,共7页 Chinese Journal of Electron Devices
基金 国家自然科学基金
  • 相关文献

同被引文献20

引证文献9

二级引证文献22

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部