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磁控溅射Al-Zr薄膜在微拉深成形中的拉深性能(英文)

Drawability of thin magnetron sputtered Al-Zr foils in micro deep drawing
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摘要 拉深成形可以用来制备形状复杂的零部件,甚至可达微加工水平。采用磁控溅射方法,在基底温度分别为310K和433K下,制备了厚度约为15μm的两种不同的AlZr薄膜。将这两种薄膜做为坯料,采用冲头直径为0.75mm的微拉深设备研究其拉深性能。虽然这两种材料在拉伸试验中显示出较小的最大应变,但还是成功地实现了微拉深成形。在基底温度为310K和433K制备的两种材料的极限拉深比分别为1.8和1.7。这些结果比先前采用AlSc合金的结果要好,与采用传统轧制方法所得纯铝薄膜的拉深结果相似。结果表明,采用磁控溅射方法制备的薄膜可以用来进行微拉深成形。 拉深成形可以用来制备形状复杂的零部件,甚至可达微加工水平。采用磁控溅射方法,在基底温度分别为310K和433K下,制备了厚度约为15μm的两种不同的AlZr薄膜。将这两种薄膜做为坯料,采用冲头直径为0.75mm的微拉深设备研究其拉深性能。虽然这两种材料在拉伸试验中显示出较小的最大应变,但还是成功地实现了微拉深成形。在基底温度为310K和433K制备的两种材料的极限拉深比分别为1.8和1.7。这些结果比先前采用AlSc合金的结果要好,与采用传统轧制方法所得纯铝薄膜的拉深结果相似。结果表明,采用磁控溅射方法制备的薄膜可以用来进行微拉深成形。
出处 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2012年第S2期268-274,共7页 Transactions of Nonferrous Metals Society of China
基金 financial support by the German Research Foundation (DFG) for the subprojects A1, B4 and B7 of the Collaborative Research Centre 747
关键词 Al-Zr薄膜 微拉深成形 成形极限 磁控溅射 Al-Zr foil micro deep drawing forming limit magnetron sputtering
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