期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
基于相变薄膜高分辨激光直写光刻研究进展(特邀)
1
作者 郭嘉龙 魏涛 +6 位作者 魏劲松 胡敬 程淼 刘倩倩 王瑞瑞 李宛飞 刘波 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第12期329-348,共20页
激光直写光刻因其高速、低成本、无需掩模辅助以及能实现大面积的微纳结构制造的优点,在光学元件制造、光学成像、微机电系统等领域中具有广阔的应用前景。然而,受到光学衍射极限的限制,激光直写光刻的分辨率难以达到nm量级。相变薄膜... 激光直写光刻因其高速、低成本、无需掩模辅助以及能实现大面积的微纳结构制造的优点,在光学元件制造、光学成像、微机电系统等领域中具有广阔的应用前景。然而,受到光学衍射极限的限制,激光直写光刻的分辨率难以达到nm量级。相变薄膜具有制备工艺简单、热阈值效应明显、相变前后显影选择性好等特点,能为实现高分辨激光直写光刻提供新的解决方案。首先,介绍了基于相变薄膜的高分辨激光直写光刻原理。其次,综述了近年来用于高分辨激光直写光刻的SbTe基、GeSbTe基和其他类型相变薄膜的光刻特性、刻蚀选择性以及相关机理。然后,进一步综述了相变薄膜的高分辨激光直写光刻在相变存储、光学传感、光学器件制造及灰度/彩色打印等领域中的应用潜力。最后,对相变薄膜在高分辨激光直写光刻方面的应用前景进行了总结与展望。 展开更多
关键词 光刻 高分辨 激光直写 相变薄膜 热阈值 应用
原文传递
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部