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升压法漏率测量装置的研制 被引量：2
1
作者 朱爱青 孙立臣 +4 位作者 窦仁超 赵永恒 魏本猛 董栋 王旭迪 《真空》 CAS 2017年第1期5-9,共5页
本文介绍了一种基于升压法的漏率测量装置,通过在传统升压法的基础上添加标准室,降低了测量过程中本底放气的影响,全金属密封避免了氦气的渗透,利用数据采集卡和组态王软件实现数据的连续采集和记录。装置测量了104Pa-105Pa下氦气通过... 本文介绍了一种基于升压法的漏率测量装置,通过在传统升压法的基础上添加标准室,降低了测量过程中本底放气的影响,全金属密封避免了氦气的渗透,利用数据采集卡和组态王软件实现数据的连续采集和记录。装置测量了104Pa-105Pa下氦气通过测试元件的漏率,并利用检漏仪对测试结果进行了验证,相对误差在5.8%左右。本装置可以实现10^(-8)Pa m^3/s量级以下的漏率的精确测量。 展开更多
关键词 升压法 漏率测量 标准室 本底放气 全金属密封
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离子镀中弯管磁过滤器的效率和颗粒去除效果的研究 被引量：1
2
作者 杨木 于振华 +3 位作者 张俊 董中林 张心凤 干蜀毅 《真空科学与技术学报》 CSCD 北大核心 2017年第12期1217-1223,共7页
真空多弧离子镀沉积四面体非晶碳薄膜(ta-C)过程中,利用90°磁过滤器弯管去除大颗粒。本文探究了磁场强度、弯管偏压、弧电流和挡板孔径对弯管中离子传输效率(离子流)的影响,同时研究了薄膜表面颗粒去除情况。实验结果表明,弯管中... 真空多弧离子镀沉积四面体非晶碳薄膜(ta-C)过程中,利用90°磁过滤器弯管去除大颗粒。本文探究了磁场强度、弯管偏压、弧电流和挡板孔径对弯管中离子传输效率(离子流)的影响,同时研究了薄膜表面颗粒去除情况。实验结果表明,弯管中离子流随磁场强度增强而增大,但增大磁场强度会导致颗粒数量增多;在中低磁场强度下,弯管偏压约为+15 V时可获得较高的离子传输效率,相比于不施加偏压提高了近70%;减小挡板孔径可使沉积速率降低,但可以显著改善大颗粒过滤效果;改变弧电流对弧源离子产生率和过滤器传输效率几乎没有影响,减小弧电流能够降低大颗粒的发射数量。本文研究内容为工业应用中采用磁过滤弯管减少薄膜大颗粒提供参考。 展开更多
关键词 多弧离子镀 ta-C膜 大颗粒 磁过滤器
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基于动态差压衰减方法瞬时流量测量装置的研制 被引量：1
3
作者 王旭迪 王永健 +4 位作者 齐嘉东 林文豫 姜彪 花雨 寇黎瑛 《真空》 CAS 2018年第4期34-37,共4页
本文介绍了一种基于动态差压衰减方法瞬时流量测量装置,该装置由真空抽气系统、恒温系统、动态差压衰减测量系统等三部分组成,通过对泄漏元件两侧的动态差压变化进行连续测量,并进行数据分析,得到泄漏元件的流导、漏率等特性。装置测量... 本文介绍了一种基于动态差压衰减方法瞬时流量测量装置,该装置由真空抽气系统、恒温系统、动态差压衰减测量系统等三部分组成,通过对泄漏元件两侧的动态差压变化进行连续测量,并进行数据分析,得到泄漏元件的流导、漏率等特性。装置测量了1800Pa^0Pa下氮气、氦气和氩气通过泄漏元件的流导和漏率,具有操作简单,成本低廉,结果精确等优点。 展开更多
关键词 动态差压衰减 漏率 流导
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微压差装置整体漏率测试方法研究
4
作者 袁军行 田越 +4 位作者 寇钰 朱爱青 杨丹 尉伟 王旭迪 《真空》 CAS 2017年第3期27-31,共5页
本文基于微压差装置整体漏率的传统测试方法中误差产生原因,选择刚性容器替代大气作为压强测量基准,通过温度计精确测量了微压差装置和基准容器的温度,并采用温度补偿修正泄漏差压以获得整体漏率。通过刚性容器膨胀实验对该方法进行验证... 本文基于微压差装置整体漏率的传统测试方法中误差产生原因,选择刚性容器替代大气作为压强测量基准,通过温度计精确测量了微压差装置和基准容器的温度,并采用温度补偿修正泄漏差压以获得整体漏率。通过刚性容器膨胀实验对该方法进行验证,以密闭氧气枕为缩比模型,测量了500Pa微正压下的漏率,结果显示该方法可以获得良好的测量重复性,相对误差低于15%,为微压差装置整体漏率的精确测量奠定了技术基础。 展开更多
关键词 微压差 整体漏率测量 基准物 温度补偿
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大气压等离子体射流装置及应用研究进展 被引量：14
5
作者 李文浩 田朝 +7 位作者 冯绅绅 宁付鹏 白超 尤江 侯吉磊 孟月东 万树德 方应翠 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第8期695-707,共13页
大气压等离子体射流(APPJ)能够在开放空间而不是在狭窄放电间隙中产生高活性非平衡低温等离子体,APPJ已经成为国际上等离子体科学与技术领域的研究热点之一。本文首先介绍了4种典型的等离子体射流装置,包括单针、针-环、单双环以及微腔... 大气压等离子体射流(APPJ)能够在开放空间而不是在狭窄放电间隙中产生高活性非平衡低温等离子体,APPJ已经成为国际上等离子体科学与技术领域的研究热点之一。本文首先介绍了4种典型的等离子体射流装置,包括单针、针-环、单双环以及微腔结构,并分析了各自的结构特点。然后介绍了APPJ近几年的研究进展,包括射流装置结构、活性粒子探测方法、射流与外界物质相互作用及应用等方面。最后对APPJ面临的一些关键问题和发展方向进行了展望。 展开更多
关键词 大气压等离子体 等离子体射流 介质阻挡放电 电极结构 纳米薄膜沉积
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基于分子动力学的He-Ne激光陀螺铟封铝-铟界面研究 被引量：1
6
作者 项经尧 王玉青 +2 位作者 王国栋 王庆生 陈长琦 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第1期23-27,共5页
谐振腔铟封接处漏气导致放电条件改变是氦氖激光陀螺失效的直接原因之一。针对阴极铝-铟封接界面,基于分子动力学方法,采用MEAM原子作用势,依据工艺温度与压力条件,模拟铝-铟界面原子扩散的物理过程,结果显示界面层原子以一定速率进行... 谐振腔铟封接处漏气导致放电条件改变是氦氖激光陀螺失效的直接原因之一。针对阴极铝-铟封接界面,基于分子动力学方法,采用MEAM原子作用势,依据工艺温度与压力条件,模拟铝-铟界面原子扩散的物理过程,结果显示界面层原子以一定速率进行相互扩散,形成金属间化合物,直至扩散达到平衡;以5.0×1010应变率沿垂直界面方向对模型进行拉伸加载,得到了铝-铟界面模型在拉伸方向的应力-应变曲线,结果表明界面屈服强度低于相同尺寸的单晶铝和单晶铟,屈服应变介于铝、铟两种材料之间。相比于现有的研究成果,旨在为进一步优化谐振腔电极铟封工艺提供理论依据。 展开更多
关键词 激光陀螺 铟封界面 分子动力学 应力-应变
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溅射功率对硅基哈氏合金薄膜性能的影响
7
作者 庞甜甜 王国栋 +2 位作者 陈长琦 陈宗武 张东庆 《真空》 CAS 2018年第2期1-4,共4页
以硅片为基体,采用直流磁控溅射镀膜方法,制备了不同厚度的耐腐蚀的哈氏合金薄膜。采用SEM、XPS、显微硬度等方法,研究了室温条件下,不同溅射功率的哈氏合金薄膜的表面形貌、化学组成、膜厚以及硬度等性能,分析结果表明:低功率沉积的薄... 以硅片为基体,采用直流磁控溅射镀膜方法,制备了不同厚度的耐腐蚀的哈氏合金薄膜。采用SEM、XPS、显微硬度等方法,研究了室温条件下,不同溅射功率的哈氏合金薄膜的表面形貌、化学组成、膜厚以及硬度等性能,分析结果表明:低功率沉积的薄膜由纳米级均匀的球形颗粒构成,表面均匀平整,随着溅射功率的升高,晶粒尺度逐渐长大,表面应力随之增大;薄膜中大部分元素都以金属态存在;提高溅射功率,发现薄膜的硬度呈先升后降趋势。磁控溅射法制备的薄膜仍具有哈氏合金原有的特性。 展开更多
关键词 哈氏合金C276 磁控溅射 溅射功率 室温 性能
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