MOCVD生长高反射率AlN/GaN分布布拉格反射镜 被引量：5

1

作者 尚景智 张保平 +4 位作者 吴超敏 蔡丽娥 张江勇 余金中 王启明 《光电子．激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第12期1592-1594,共3页

利用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法在蓝宝石c面衬底上制备出高反射率AlN/GaN分布布拉格反射镜(DBR)。利用分光光度计测量,在418 nm附近最大反射率达到99%。样品表面显微照片显示,有圆弧形缺陷和少量裂纹出现;在缺陷和裂纹以外的区... 利用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)方法在蓝宝石c面衬底上制备出高反射率AlN/GaN分布布拉格反射镜(DBR)。利用分光光度计测量,在418 nm附近最大反射率达到99%。样品表面显微照片显示,有圆弧形缺陷和少量裂纹出现;在缺陷和裂纹以外的区域,DBR具有较为平坦的表面,其粗糙度在10μm×10μm面积上为3.3 nm左右。样品的截面扫描电镜(SEM)照片显示,DBR具有良好的周期性。对反射率和表面分析的结果表明,该样品达到了制备GaN基垂直腔面发射激光器(VCSEL)的要求。 展开更多

关键词 金属有机物化学气相沉积(MOCVD) 分布布拉格反射镜(DBR) 高反射率 氮化物

原文传递

GaN半导体中InN量子点的结构性质(英文) 被引量：4

2

作者 陈珊珊 郑江海 +1 位作者 李书平 康俊勇 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期88-92,共5页

采用第一性原理模拟计算纤锌矿结构GaN半导体中InN量子点的结构性质。建立64和128个原子的超原胞量子点模型,进行结构优化以获得稳定的吻合实际的系统,并模拟分析电子结构。从态密度空间分布图看到不同轴向的量子势阱形状各异、深度不一... 采用第一性原理模拟计算纤锌矿结构GaN半导体中InN量子点的结构性质。建立64和128个原子的超原胞量子点模型,进行结构优化以获得稳定的吻合实际的系统,并模拟分析电子结构。从态密度空间分布图看到不同轴向的量子势阱形状各异、深度不一,说明量子点的限域效应存在着各向异性的特点。c轴极化方向引起量子点结构带边的弯曲形状与传统的量子阱结构不同,使得电子空穴没有发生空间分离,有利于电子空穴的跃迁几率的提高。 展开更多

关键词 量子点 量子限域效应 电子态密度

下载PDF 职称材料

Li嵌入对V_2O_5电子结构及光学性质的影响(英文) 被引量：1

3

作者 李志阳 周昌杰 +2 位作者 林伟 吴启辉 康俊勇 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期1-6,共6页

采用第一性原理局域密度近似法计算了V2O5的电子态密度和能带结构以及Li嵌入后对其电子结构和光学性质的影响。计算结果表明,V2O5是间接带隙半导体,Li的嵌入并没有改变其电子的跃迁方式。但Li的嵌入使得V2O5导带能量下移,禁带宽度减小,... 采用第一性原理局域密度近似法计算了V2O5的电子态密度和能带结构以及Li嵌入后对其电子结构和光学性质的影响。计算结果表明,V2O5是间接带隙半导体,Li的嵌入并没有改变其电子的跃迁方式。但Li的嵌入使得V2O5导带能量下移,禁带宽度减小,导带中原有的劈裂被分裂的能级填满;同时致使价带出现展宽。电子态密度计算结果表明Li的嵌入对临近的O和V的电子结构有较大的影响。Li2s电子的注入提高了V2O5的费米能级并导致其进入导带。由于价带中的电子只能跃迁到费米能级以上的导带空能级,这致使体系实际的光学带隙增大。同时随着Li注入量的进一步增加,价带的展宽更为明显,费米能级亦呈升高的趋势,使得光学带隙随着Li注入量的增加而增大。 展开更多

关键词 第一性原理 V2O5 Li嵌入 电子结构 光学性质

下载PDF 职称材料

Si基Ge波导光电探测器的制备和特性研究 被引量：10

4

作者 陈荔群 周志文 +2 位作者 李成 赖虹凯 陈松岩 《光电子．激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第8期1012-1015,共4页

以外延Ge薄膜为吸收区,在Si基上制备了Ge波导光电探测器。利用超高真空化学汽相淀积(UHV/CVD)设备,采取低温高温两步法,在Si(100)衬底上外延出厚度约为500nm的高质量纯Ge层。探测器采用脊型波导结构,Al电极分别制作在波导的台面上下形... 以外延Ge薄膜为吸收区,在Si基上制备了Ge波导光电探测器。利用超高真空化学汽相淀积(UHV/CVD)设备,采取低温高温两步法,在Si(100)衬底上外延出厚度约为500nm的高质量纯Ge层。探测器采用脊型波导结构,Al电极分别制作在波导的台面上下形成背对背肖特基结。I-V特性测试表明,在-1V偏压下,暗电流密度为0.2mA/cm2。由于Si与Ge热失配引起外延的Ge薄膜受到0.2%张应变,减小了Ge带隙,光响应波长范围扩展到1.60μm以上。在70mW、1.55μm入射光照射下,测得光电流比暗电流高出近1个数量级。 展开更多

关键词 Ge 波导 光电探测器

原文传递

InGaN量子阱的微观特性(英文) 被引量：7

5

作者 林伟 李书平 康俊勇 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第1期99-103,共5页

采用VASP程序包模拟计算InGaN量子阱的能带,精细展示了量子阱实空间能带结构。计算结果表明,In原子所在区域出现局域束缚态,导带底与价带顶的简并能级发生分裂,同时量子阱沿垂直结面方向存在分立的能级。此外,针对影响能带的In组分波动... 采用VASP程序包模拟计算InGaN量子阱的能带,精细展示了量子阱实空间能带结构。计算结果表明,In原子所在区域出现局域束缚态,导带底与价带顶的简并能级发生分裂,同时量子阱沿垂直结面方向存在分立的能级。此外,针对影响能带的In组分波动、能带弯曲等问题进行探讨,以准确描述其电子行为,从而深入系统地了解InGaN/GaN量子阱的电学光学等特性。 展开更多

关键词 INGAN 量子阱 VASP 能带结构

下载PDF 职称材料

硅基外延锗金属-半导体-金属光电探测器及其特性分析 被引量：8

6

作者 蔡志猛 周志文 +2 位作者 李成 赖虹凯 陈松岩 《光电子．激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期587-590,共4页

利用超高真空化学汽相淀积(UHV/CVD)设备,以低温下生长的薄的Si1-xGex和Ge作为缓冲层,在Si(100)衬底上外延出表面平整(粗糙度<1 nm)、位错密度低(<5×105cm-2、厚度约为500 nm的高质量纯Ge层。Ge层受到由于Si和Ge热膨胀系数... 利用超高真空化学汽相淀积(UHV/CVD)设备,以低温下生长的薄的Si1-xGex和Ge作为缓冲层,在Si(100)衬底上外延出表面平整(粗糙度<1 nm)、位错密度低(<5×105cm-2、厚度约为500 nm的高质量纯Ge层。Ge层受到由于Si和Ge热膨胀系数不同引入的张应变,应变大小约为0.2%。以外延的Ge层为吸收区、在硅基上制备了台面面积为195×150μm2的金属-半导体-金属(MSM)光电探测器。在-1 V偏压下,暗电流为2.4×10-7A;在零偏压下,光响应波长范围扩展到1.6μm以上。 展开更多

关键词 Ge 弛豫缓冲层 MSM光电探测器

原文传递

SOI基垂直入射Ge PIN光电探测器的研制 被引量：7

7

作者 周志文 贺敬凯 +2 位作者 王瑞春 李成 余金中 《光电子．激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第11期1609-1613,共5页

研制了在SOI衬底上工作于近红外波段的垂直入射GePIN光电探测器。采用低温Ge缓冲层技术,在超高真空化学气相淀积系统(UHV/CVD)上生长探测器材料。测试表明,器件的暗电流主要来源于表面漏电流,暗电流密度随着尺寸的增加而减小,在2V偏压... 研制了在SOI衬底上工作于近红外波段的垂直入射GePIN光电探测器。采用低温Ge缓冲层技术,在超高真空化学气相淀积系统(UHV/CVD)上生长探测器材料。测试表明,器件的暗电流主要来源于表面漏电流,暗电流密度随着尺寸的增加而减小,在2V偏压时暗电流密度可达17.2mA/cm2;器件在波长1.31μm处的响应度高达0.22A/W,对应量子效率为20.8%。无偏压时,器件的响应光谱在1.2～1.6μm波长范围内观察到4个共振增强峰,分别位于1.25、1.35、1.45和1.55μm左右,峰值半高宽约为50nm,共振增强效应是由SOI衬底的高反射率引起的。采用传输矩阵法模拟的响应光谱与实验测量结果吻合良好。 展开更多

关键词 锗(Ge) 光电探测器 张应变 共振增强效应

原文传递

微波大功率SiGe HBT的研究进展及其应用 被引量：5

8

作者 徐剑芳 李成 赖虹凯 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2005年第5期521-526,共6页

文章论述了SiGe异质结双极晶体管(HBT)在微波功率领域应用的优势,详细介绍了微波功率SiGe HBT的结构设计方法,以及主要影响器件性能的材料和结构因素,评述了其最新进展及今后发展方向。

关键词 SIGE 异质结双极晶体管 微波 大功率

下载PDF 职称材料

Ge／Si(100)量子点生长与形态分布的研究 被引量：6

9

作者 周志玉 周志文 +3 位作者 李成 陈松岩 余金中 赖虹凯 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2008年第2期220-225,共6页

利用超高真空化学气相淀积系统，通过控制淀积量、温度、流量等生长参数，在n型Si（100）衬底上自组装生长了一系列Ge量子点样品，用原子力显微镜进行了表征与分析。系统地研究了生长参数对Ge岛形态分布的影响并分析了有序、高密度Ge岛... 利用超高真空化学气相淀积系统，通过控制淀积量、温度、流量等生长参数，在n型Si（100）衬底上自组装生长了一系列Ge量子点样品，用原子力显微镜进行了表征与分析。系统地研究了生长参数对Ge岛形态分布的影响并分析了有序、高密度Ge岛的生长机理。结果表明，从二维向三维岛跃迁后，最初形成的高宽比（高度与底宽的比值）在0．04～0.06之间的小岛是一种在低温下可以与圆顶岛共存的稳定岛，两种岛的分布随淀积参数的变化而变化。在高温下小岛几乎消失，流量的变化对小岛的密度影响较小。实验中获得小岛的密度最高为2．6×10^10cm^-2，圆顶岛的密度最高为4．2×10^9cm^-2。 展开更多

关键词 GE量子点 超高真空化学气相淀积 S-K生长模式

下载PDF 职称材料

UHV/CVD法生长硅基低位错密度厚锗外延层 被引量：4

10

作者 周志文 蔡志猛 +9 位作者 张永 蔡坤煌 周笔 林桂江 汪建元 李成 赖虹凯 陈松岩 余金中 王启明 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期315-318,共4页

采用超高真空化学气相淀积系统,以高纯Si2H6和GeH4作为生长气源,用低温缓冲层技术在Si(001)衬底上成功生长出厚的纯Ge外延层.对Si衬底上外延的纯Ge层用反射式高能电子衍射仪、原子力显微镜、X射线双晶衍射曲线和Ra-man谱进行了表征.结... 采用超高真空化学气相淀积系统,以高纯Si2H6和GeH4作为生长气源,用低温缓冲层技术在Si(001)衬底上成功生长出厚的纯Ge外延层.对Si衬底上外延的纯Ge层用反射式高能电子衍射仪、原子力显微镜、X射线双晶衍射曲线和Ra-man谱进行了表征.结果表明在Si基上生长的约550nm厚的Ge外延层,表面粗糙度小于1nm,XRD双晶衍射曲线和Ra-man谱Ge-Ge模半高宽分别为530″和5.5cm-1,具有良好的结晶质量.位错腐蚀结果显示线位错密度小于5×105cm-2.可用于制备Si基长波长集成光电探测器和Si基高速电子器件. 展开更多

关键词 锗硅异质外延 弛豫缓冲层 锗

下载PDF 职称材料

硅基波导共振增强型光电探测器的设计与模拟 被引量：5

11

作者 陈荔群 李成 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第8期1476-1479,共4页

SiGe是间接带隙材料,吸收系数非常小,因而SiGe探测器在红外波段的量子效率很低.本文提出一种新型的探测器结构,即波导共振增强型光电探测器,该器件主要由两个介质布拉格反射镜和波导吸收区构成,器件尺寸较传统波导型探测器大为减小,吸... SiGe是间接带隙材料,吸收系数非常小,因而SiGe探测器在红外波段的量子效率很低.本文提出一种新型的探测器结构,即波导共振增强型光电探测器,该器件主要由两个介质布拉格反射镜和波导吸收区构成,器件尺寸较传统波导型探测器大为减小,吸收区的长度不受SiGe临界厚度的限制,实现了量子效率和响应速度的优化.本文在数值模拟的基础上,对器件结构进行了优化设计,结果表明7·6μm长的波导探测器可以得到20%以上的量子效率. 展开更多

关键词 Si/SiGe波导共振增强型 探测器

下载PDF 职称材料

利用金属过渡层低温键合硅晶片 被引量：6

12

作者 张小英 陈松岩 +2 位作者 赖虹凯 李成 余金中 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期213-216,共4页

在Si/Si之间采用Ti/Au金属过渡层,实现了Si/Si低温键合,键合温度可低至414℃.采用拉伸强度测试对Si/Si键合结构的界面特性进行测试,结果表明,键合强度高于1.27MPa;I-V测试表明,Si/Ti/Au/Ti/Si键合界面基本为欧姆接触;X射线光电子能谱(X... 在Si/Si之间采用Ti/Au金属过渡层,实现了Si/Si低温键合,键合温度可低至414℃.采用拉伸强度测试对Si/Si键合结构的界面特性进行测试,结果表明,键合强度高于1.27MPa;I-V测试表明,Si/Ti/Au/Ti/Si键合界面基本为欧姆接触;X射线光电子能谱(XPS)测试结果进一步表明,界面主要为Si-Au共晶合金.不同温度的变温退火实验表明,键合温度越高,键合强度越大,且渐变退火有利于提高键合强度. 展开更多

关键词 硅片键合 界面特性 金属过渡层 键合机理

下载PDF 职称材料

ZnO中Li相关缺陷结构性质 被引量：5

13

作者 徐群和 康俊勇 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期509-513,共5页

采用第一性原理量子力学分子动力学方法,基于32个原子的超原胞模型,计算了ZnO中各种L i相关缺陷的有关几何和电子结构。通过不同模型的计算分析表明,ZnO中L i杂质在间隙位上的总能比替位Zn格位的能量更低,但却形成施主能级。进一步通过... 采用第一性原理量子力学分子动力学方法,基于32个原子的超原胞模型,计算了ZnO中各种L i相关缺陷的有关几何和电子结构。通过不同模型的计算分析表明,ZnO中L i杂质在间隙位上的总能比替位Zn格位的能量更低,但却形成施主能级。进一步通过构造L i替Zn位L iZn与不同本征缺陷所构成的复合体结构,并对模拟计算的结果进行分析比较得出,O反位OZn可与L iZn形成比L i间隙位更稳定的复合体,可高溶解度地稳定存在于ZnO中,并在禁带中产生受主能级,是较好的p型导电性候选缺陷。 展开更多

关键词 ZNO 本征缺陷 Li掺杂 第一性原理计算

下载PDF 职称材料

硅酸锌的电子结构(英文) 被引量：4

14

作者 张华 冯夏 康俊勇 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期750-754,共5页

采用局域密度泛函理论和第一性原理的方法,计算四方结构和六角结构硅酸锌的平衡晶格常数、电子态密度和能带结构。计算结果表明,四方结构硅酸锌的平衡晶格常数为0.71048nm,六角结构为1.40877nm,两者与实验值的误差均在1%左右。态密度图... 采用局域密度泛函理论和第一性原理的方法,计算四方结构和六角结构硅酸锌的平衡晶格常数、电子态密度和能带结构。计算结果表明,四方结构硅酸锌的平衡晶格常数为0.71048nm,六角结构为1.40877nm,两者与实验值的误差均在1%左右。态密度图显示,主要电子态分布在-7.18～0.00eV和2.79～10.50eV两个能量区域;同时,不同元素电子对导带和价带有不同贡献,其中氧的p态电子对价带顶贡献最大,锌的s态电子对导带底贡献最大。能带计算表明,四方与六角结构硅酸锌均为直接带隙半导体,禁带宽度分别为2.66,2.89eV。 展开更多

关键词 硅酸锌 电子态密度 能带结构

下载PDF 职称材料

采用Al/TaN叠层电极提高Si基Ge PIN光电探测器的性能 被引量：4

15

作者 吴政 王尘 +5 位作者 严光明 刘冠洲 李成 黄巍 赖虹凯 陈松岩 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第18期355-360,共6页

金属与Ge材料接触由于存在强烈的费米钉扎效应,导致金属电极与n型Ge接触引入较大的接触电阻,限制了Si基Ge探测器响应带宽.本文报道了在SOI衬底上外延Ge单晶薄膜并制备了不同台面尺度的Ge PIN光电探测器.对比了电极分别为金属Al和Al/TaN... 金属与Ge材料接触由于存在强烈的费米钉扎效应,导致金属电极与n型Ge接触引入较大的接触电阻,限制了Si基Ge探测器响应带宽.本文报道了在SOI衬底上外延Ge单晶薄膜并制备了不同台面尺度的Ge PIN光电探测器.对比了电极分别为金属Al和Al/TaN叠层的具有相同器件结构的SOI基Ge PIN光电探测器的暗电流、响应度以及响应带宽等参数.发现在Al与Ge之间增加一薄层TaN可有效减小n型Ge的接触电阻,将台面直径为24μm的探测器在1.55μm的波长和-1 V偏压下的3 dB响应带宽提高了4倍.同时,器件暗电流减小一个数量级,而响应度提高了2倍.结果表明,采用TaN薄层制作金属与Ge接触电极,可有效钝化金属与Ge界面,减轻费米钉扎效应,降低金属与n-Ge接触的势垒高度,因而减小接触电阻和界面复合电流,提高探测器的光电性能. 展开更多

关键词 Al/TaN 接触电阻 Ge PIN光电探测器 高频特性

原文传递

高性能SOI基GePIN波导光电探测器的制备及特性研究 被引量：4

16

作者 王尘 许怡红 +1 位作者 李成 林海军 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第19期289-294,共6页

本文报道了在SOI衬底上外延高质量单晶Ge薄膜并制备高性能不同尺寸Ge PIN波导光电探测器.通过采用原子力显微镜、X射线衍射、拉曼散射光谱表征外延Ge薄膜的表面形貌、晶体质量以及应变参数,结果显示外延Ge薄膜中存在约0.2%左右的张应变... 本文报道了在SOI衬底上外延高质量单晶Ge薄膜并制备高性能不同尺寸Ge PIN波导光电探测器.通过采用原子力显微镜、X射线衍射、拉曼散射光谱表征外延Ge薄膜的表面形貌、晶体质量以及应变参数,结果显示外延Ge薄膜中存在约0.2%左右的张应变,且表面平整,粗糙度为1.12 nm.此外,通过暗电流、光响应度以及3 dB带宽的测试来研究波导探测器的性能,结果表明尺寸为4μm×20μm波导探测器在-1 V的反向偏压下暗电流密度低至75 mA/cm^2,在1.55μm波长处的响应度为0.58 A/W,在-2 V的反向偏压下的3 dB带宽为5.5 GHz. 展开更多

关键词 外延 锗 波导 光电探测器

下载PDF 职称材料

阵列化互连LED模组寿命分布的蒙特卡洛模拟 被引量：3

17

作者 郑同场 李炳乾 夏正浩 《光电子．激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期207-210,共4页

利用蒙特卡洛方法对阵列化互连LED模组的可靠寿命进行了模拟,假设分档后的大功率白光LED的正向电压符合正态分布,额定电流下的寿命符合对数正态分布,且寿命和电流、温度的关系符合Eying模型,研究了n×n(6≤n≤12)LED阵列的寿命分布... 利用蒙特卡洛方法对阵列化互连LED模组的可靠寿命进行了模拟,假设分档后的大功率白光LED的正向电压符合正态分布,额定电流下的寿命符合对数正态分布,且寿命和电流、温度的关系符合Eying模型,研究了n×n(6≤n≤12)LED阵列的寿命分布。模拟结果表明,对于n×nLED阵列,寿命随LED数目的增加没有下降反而略有增加,表明对多数目LED模组采用阵列化互连电路较传统串并联电路具有优势,能提高阵列的可靠性;对系统采用电流降额使用,可靠寿命随着电流降额量的增大而增大,电流降额越大,寿命增大越多;多数目LED大阵列结合较高的电流降额量能大幅度提高系统的可靠性。 展开更多

关键词 LED模组 蒙特卡洛模拟 阵列化互连 可靠寿命 电流降额

原文传递

ZnO/MgZnO单量子阱的能带重正化与阱宽的关系 被引量：3

18

作者 李小龙 姜小芳 +4 位作者 雷小燕 丘志仁 张保平 丁才蓉 曾学然 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第10期2967-2971,共5页

通过室温下的时间积分光致发光(PL)谱,研究了阱宽Lw渐变的ZnO/Mg0.1Zn0.9O单量子阱在高激发强度下的能带重正化与阱宽的关系。实验中光生载流子浓度为n=1.6×1014cm-2,在Lw从2.3 nm渐变到4.3 nm,PL谱峰位的红移量从5.9 meV变化到97.... 通过室温下的时间积分光致发光(PL)谱,研究了阱宽Lw渐变的ZnO/Mg0.1Zn0.9O单量子阱在高激发强度下的能带重正化与阱宽的关系。实验中光生载流子浓度为n=1.6×1014cm-2,在Lw从2.3 nm渐变到4.3 nm,PL谱峰位的红移量从5.9 meV变化到97.1 meV。红移量随阱宽增大而增加,但增加率却逐渐减少。当Lw>2αB(αB,ZnO体材料激子玻尔半径,约为2 nm)时,红移量逐渐呈现出饱和的趋势(100 meV)。研究发现峰位的红移是由于多体效应所导致的能隙收缩以及在高的激发强度下带内填充效应的这两种机理相互竞争的结果。 展开更多

关键词 半导体光学 能隙重正化 光致发光 单量子阱

原文传递

纤锌矿结构ZnO中定位Ga-N共掺杂对p型掺杂效率的影响 被引量：3

19

作者 周昌杰 康俊勇 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期917-921,共5页

采用第一性原理和密度泛函理论的方法,计算未掺杂、N单掺杂和Ga-N共掺杂纤锌矿结构ZnO的总能、电荷密度和能带结构。总能计算表明,Ga原子的共掺杂使总能极大地降低,从而显著提高杂质N原子在ZnO中的稳定性。电荷密度分布显示,总能的降低... 采用第一性原理和密度泛函理论的方法,计算未掺杂、N单掺杂和Ga-N共掺杂纤锌矿结构ZnO的总能、电荷密度和能带结构。总能计算表明,Ga原子的共掺杂使总能极大地降低,从而显著提高杂质N原子在ZnO中的稳定性。电荷密度分布显示,总能的降低主要是Ga-N共掺杂后Ga原子的3d态和N原子的2p态电子之间的强杂化相互作用所致。特别是在Ga原子的负电荷和N原子的正电荷沿c轴排成一线的共掺杂构型中,较大的局域极化场的变化引起价带顶向禁带中的大分裂,降低了N受主的激活能,将空穴的浓度提高了三个量级,有效地提高p型掺杂效率。 展开更多

关键词 氧化锌 P型掺杂 能带结构

下载PDF 职称材料

Si(100)表面Se薄膜生长及其在Ti/Si欧姆接触中的应用 被引量：2

20

作者 潘书万 亓东峰 +3 位作者 陈松岩 李成 黄巍 赖虹凯 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第9期712-716,共5页

本文采用分子束外延(MBE)系统在Si(100)表面淀积Se薄膜.通过控制衬底和固态Se束源炉的温度,实现了Se材料在Si(100)表面上的自限制超薄薄膜生长;在Se超薄层钝化的Si(100)表面上制备的Ti金属电极具有低的欧姆接触电阻特性,且热稳定性温度... 本文采用分子束外延(MBE)系统在Si(100)表面淀积Se薄膜.通过控制衬底和固态Se束源炉的温度,实现了Se材料在Si(100)表面上的自限制超薄薄膜生长;在Se超薄层钝化的Si(100)表面上制备的Ti金属电极具有低的欧姆接触电阻特性,且热稳定性温度提升至400℃. 展开更多

关键词 硒 钝化 欧姆接触 热稳定性

原文传递