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聚焦慢速高荷态重离子束微束斑X射线源 被引量：1
1
作者 王凯歌 王雷 +1 位作者 王鹏业 牛憨笨 《应用光学》 CAS CSCD 2004年第1期5-8,38,共5页
利用电子束离子源 (EBIS)或者电子束离子陷阱 (EBIT)产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面 ,离子束与靶面作用并复合辐射特征 X射线 ;并将高荷态离子束采用离子光学系统会聚为微细束后再与靶面作用 ,能够辐射出微米甚至亚微米级、纳... 利用电子束离子源 (EBIS)或者电子束离子陷阱 (EBIT)产生的慢速高电荷态重离子束轰击金属靶面 ,离子束与靶面作用并复合辐射特征 X射线 ;并将高荷态离子束采用离子光学系统会聚为微细束后再与靶面作用 ,能够辐射出微米甚至亚微米级、纳米级的微束斑 X射线。本文介绍这一新型微束斑 X射线源的结构、机理及其特性等。 展开更多
关键词 微束斑X射线源 电子束离子源 电子束离子陷阱 离子光学聚束系统
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