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电弧离子镀技术及其在硬质薄膜方面的应用 被引量：20
1
作者 邱家稳 赵栋才 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第2期93-100,104,共9页
从电弧蒸发源控制技术和大颗粒过滤技术出发,论述了电弧离子镀技术最近的发展成果,并总结了电弧离子镀技术在氮化物、氧化物、非晶碳等薄膜方面的技术应用进展,以期能对我国电弧离子镀技术及其在硬质薄膜方面的应用起到一定的参考作用。
关键词 电弧离子镀 硬质薄膜 氮化物 非晶碳膜 氧化物薄膜
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低能离子束轰击对Ti和Ti-N膜组织与性能的影响 被引量：2
2
作者 曾鹏 胡社军 +2 位作者 谢光荣 黄拿灿 吴起白 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期175-178,共4页
研究了用能量为 3 0keV～ 4 0keV ,束流为 80mA～ 2 0 0mA的低能氮和氩离子束对Ti膜进行轰击的作用以及用低能氮离子束对真空电弧沉积Ti -N膜层辅助沉积作用。结果表明 :用低能氮离子束对Ti膜进行轰击可以形成Ti2 N相 ,在 (2 0 4)晶面... 研究了用能量为 3 0keV～ 4 0keV ,束流为 80mA～ 2 0 0mA的低能氮和氩离子束对Ti膜进行轰击的作用以及用低能氮离子束对真空电弧沉积Ti -N膜层辅助沉积作用。结果表明 :用低能氮离子束对Ti膜进行轰击可以形成Ti2 N相 ,在 (2 0 4)晶面出现一定的择优取向 ,并对Ti膜层有一定的强化作用 ;在低能氮离子束对真空电弧辅助沉积过程中 ,膜层表现为较高的显微硬度 ;随低能离子束能量的增大 ,真空电弧沉积膜层中Ti2 N相增多 ,在 (0 0 2 )晶面出现择优取向 ,膜层晶粒有粗化的趋势 ,但显微硬度却增加 ,这与Hall-Petch公式不符。 展开更多
关键词 低能离子束轰击 IBAD 真空电弧沉积 组织结构 显微硬度 钛膜 氮化钛膜
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低能氮离子束辅助真空电弧沉积Zr-Cu-N薄膜的研究 被引量：1
3
作者 吴健 胡社军 +2 位作者 曾鹏 谢光荣 周泽 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第11期141-143,共3页
利用等离子体辅助真空电弧沉积技术,在高速钢和单晶硅基体上制备Zr-Cu-N复合薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和超微显微硬度计研究了低能氮离子束流对Zr-Cu-N涂层结构、表面形貌和硬度的影响。结果表明:用低能氮离子束辅助... 利用等离子体辅助真空电弧沉积技术,在高速钢和单晶硅基体上制备Zr-Cu-N复合薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和超微显微硬度计研究了低能氮离子束流对Zr-Cu-N涂层结构、表面形貌和硬度的影响。结果表明:用低能氮离子束辅助真空电弧沉积Zr-Cu-N膜,ZrN结构在(111)晶面出现择优取向,并对Zr-Cu-N膜层有一定的强化作用,膜层表现出较高的显微硬度和转好的耐磨性能。 展开更多
关键词 离子束 真空电弧离子镀 Zr-Cu-N薄膜
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