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衬底材质及表面粗糙度对SnO_2薄膜结构的影响 被引量:2
1
作者 李春芳 《武汉化工学院学报》 2004年第1期45-47,共3页
SnO2透明导电膜的光学、电学特性与它的结构密切相关.研究了衬底材质及表面粗糙度对薄膜结构的影响.结果表明:衬底材质影响薄膜晶粒大小、致密度及优势面;表面粗糙度影响薄膜结晶难易程度和致密度.
关键词 衬底材质 粗糙度 透明导电膜 薄膜结构 表面粗糙度
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衬底对SnO_2薄膜结构的影响
2
作者 李春芳 李忠明 沙先武 《咸宁师专学报》 2000年第3期53-55,共3页
SnO2 透明导电膜的光学、电学特性与它的结构有关 .研究衬底温度对薄膜结构的影响表明 :衬底温度影响薄膜的结晶程度 ,衬底温度高 ,容易结晶化 ,衬底温度低 ,则易形成无定形结构的膜 .
关键词 衬底温度 透明导电膜 薄膜结构
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AZO透明导电薄膜的制备技术及应用进展 被引量:29
3
作者 刘玉萍 陈枫 +4 位作者 郭爱波 李斌 但敏 刘明海 胡希伟 《真空与低温》 2007年第1期1-5,20,共6页
概述了国内外AZO透明导电薄膜的多种制备技术和开发应用进展。详细介绍了磁控溅射、溶胶-凝胶、脉冲激光沉积、真空蒸镀、化学气相沉积等工艺在AZO薄膜制备中的研究现状,并且在对AZO膜与ITO膜性能比较的基础上,指出AZO薄膜的产业化前景好。
关键词 AZO薄膜 制备技术 综述 透明导电氧化物薄膜
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pH值对溶胶-凝胶法制备的掺铝氧化锌薄膜光电性能的影响 被引量:23
4
作者 刘凯 赵小如 +3 位作者 赵亮 姜亚军 南瑞华 魏炳波 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期585-590,596,共7页
采用溶胶-凝胶法在普通载玻片上制备出c轴择优取向的ZnO∶Al(ZAO)透明导电薄膜,研究了溶胶pH值对其结构、表面形貌、电学和光学性能的影响。结果表明:随着pH值的降低晶粒尺寸增大;当溶胶pH值从8.4降低到6.8时,薄膜的电阻率先降低而后略... 采用溶胶-凝胶法在普通载玻片上制备出c轴择优取向的ZnO∶Al(ZAO)透明导电薄膜,研究了溶胶pH值对其结构、表面形貌、电学和光学性能的影响。结果表明:随着pH值的降低晶粒尺寸增大;当溶胶pH值从8.4降低到6.8时,薄膜的电阻率先降低而后略有升高,当pH值为7.2时其电阻率达到最小值2.6×10-3Ω.cm,进一步分析表明,溶胶pH值的变化影响了薄膜晶界散射,而后者又使载流子迁移率发生了变化;薄膜的透光率在可见光部分随着pH值的降低而升高,而禁带宽度则从3.36 eV降到3.32 eV。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 透明导电薄膜 氧化锌 铝掺杂
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溅射气压对ZnO透明导电薄膜光电性能的影响 被引量:7
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作者 周继承 李莉 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期1278-1283,共6页
采用射频磁控溅射方法,在普通玻璃上制备了具有高度c轴取向的ZnO薄膜,研究了溅射气压(0.2~1.5Pa)对ZnO薄膜的微观结构和光电性能的影响。AFM、XRD、UV-Vis分光光度计及四探针法研究表明:随着溅射气压的增大,ZnO薄膜沿c轴方向的结晶质... 采用射频磁控溅射方法,在普通玻璃上制备了具有高度c轴取向的ZnO薄膜,研究了溅射气压(0.2~1.5Pa)对ZnO薄膜的微观结构和光电性能的影响。AFM、XRD、UV-Vis分光光度计及四探针法研究表明:随着溅射气压的增大,ZnO薄膜沿c轴方向的结晶质量提高,晶粒细化,薄膜表面更加致密,晶粒大小更加均匀;ZnO薄膜在400~900nm范围内的平均透过率均高于85%,其中在0.5~1.5Pa范围内其透过率高于90%;样品在高纯氮气气氛中经350℃,300s退火后,电阻率最低达到10-2Ω·cm量级。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 ZNO薄膜 溅射气压 透明导电薄膜
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柔性透明导电薄膜ZAO 被引量:6
6
作者 张化福 袁玉珍 刘云燕 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2008年第4期489-493,共5页
随着电子器件向小型化和轻便化方向发展,柔性衬底的透明导电薄膜有望成为硬质衬底透明导电薄膜的更新换代产品,因此其研究备受关注。柔性透明导电薄膜ZAO具有优异的光电性能且资源丰富、成本低、对环境无污染,成为当前的研究热点。总结... 随着电子器件向小型化和轻便化方向发展,柔性衬底的透明导电薄膜有望成为硬质衬底透明导电薄膜的更新换代产品,因此其研究备受关注。柔性透明导电薄膜ZAO具有优异的光电性能且资源丰富、成本低、对环境无污染,成为当前的研究热点。总结了近年来对柔性衬底材料处理的方法,介绍了柔性透明导电薄膜ZAO的结构和光电特性。评述了柔性ZAO薄膜的研究现状,并对其近期研究和应用工作做了展望。 展开更多
关键词 ZAO薄膜 柔性衬底 透明导电薄膜
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溶胶-凝胶法制备ZAO透明导电氧化物薄膜的研究进展 被引量:3
7
作者 徐模辉 王华 《电工材料》 CAS 2008年第1期31-36,共6页
溶胶-凝胶法是一种高效的制膜技术。本文综述了溶胶-凝胶法制备氧化锌铝(ZAO)透明导电氧化物薄膜(TCO)的原理、特点及研究进展,指出了采用溶胶-凝胶法制备ZAO薄膜今后急需解决的问题。
关键词 溶胶-凝胶法 氧化锌铝(ZAO) 透明导电氧化物薄膜(TCO)
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氧流量对铟锡氧化物薄膜光电性能的影响 被引量:6
8
作者 李世涛 乔学亮 陈建国 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期138-141,共4页
采用射频磁控溅射法,在不同氧流量(0~10sccm)的条件下沉积了铟锡氧化物(In2O3-SnO2)透明导电薄膜。紫外分光光度计测试薄膜的透射率,四点探针测试薄膜的方阻,椭偏仪测试薄膜的复折射率和薄膜厚度,XPS测试ITO薄膜的成分和电子结构。结果... 采用射频磁控溅射法,在不同氧流量(0~10sccm)的条件下沉积了铟锡氧化物(In2O3-SnO2)透明导电薄膜。紫外分光光度计测试薄膜的透射率,四点探针测试薄膜的方阻,椭偏仪测试薄膜的复折射率和薄膜厚度,XPS测试ITO薄膜的成分和电子结构。结果表明:薄膜的沉积速率和折射率与氧流量有关,薄膜厚度为60nm,氧流量在9sccm时,透射率超过80%(波长λ=400nm^700nm,包括玻璃基体),退火后透射率、方阻明显改善。XPS分析表明,薄膜中的亚氧化物的存在降低了薄膜的光电性能,控制氧流量可减少亚氧化物。 展开更多
关键词 磁控溅射 铟锡氧化物 透明导电薄膜 氧流量
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溅射功率对Zr,Al共掺杂ZnO薄膜结构和性能的影响 被引量:6
9
作者 袁玉珍 王辉 +2 位作者 刘汉法 张化福 刘云燕 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2010年第2期48-50,61,共4页
室温下,采用直流磁控溅射法,在载玻片衬底上制备出了Zr,Al共掺杂ZnO(AZZO)透明导电薄膜。研究了溅射功率对薄膜的组织结构、表面形貌和光电学性能的影响。结果表明,制备的AZZO透明导电薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取... 室温下,采用直流磁控溅射法,在载玻片衬底上制备出了Zr,Al共掺杂ZnO(AZZO)透明导电薄膜。研究了溅射功率对薄膜的组织结构、表面形貌和光电学性能的影响。结果表明,制备的AZZO透明导电薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。当溅射功率为150W时,薄膜电阻率达到最小值1.66×10–3Ω·cm,在可见光区平均透过率超过93%。 展开更多
关键词 磁控溅射 Zr Al共掺杂 ZNO 溅射功率 透明导电薄膜
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掺Al ZnO柔性透明导电薄膜研究进展 被引量:3
10
作者 张化福 袁玉珍 +1 位作者 刘汉法 刘云燕 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第6期461-465,共5页
柔性透明导电薄膜ZAO具有优异的光电性能且资源丰富、成本低、对环境无污染,成为当前的研究热点。总结了近年来对柔性衬底材料处理的方法,分析了柔性透明导电薄膜的研究历史和现状。介绍了柔性透明导电薄膜ZAO的结构、光电特性、典型制... 柔性透明导电薄膜ZAO具有优异的光电性能且资源丰富、成本低、对环境无污染,成为当前的研究热点。总结了近年来对柔性衬底材料处理的方法,分析了柔性透明导电薄膜的研究历史和现状。介绍了柔性透明导电薄膜ZAO的结构、光电特性、典型制备方法和应用前景。评述了柔性ZAO薄膜的研究现状,并对其近期研究和应用工作进行了展望。 展开更多
关键词 ZAO薄膜 柔性衬底 透明导电薄膜
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用RF-PECVD制备的SnO_2薄膜光电性质及化学成分 被引量:1
11
作者 陈俊芳 刘彭义 《暨南大学学报(自然科学与医学版)》 CAS CSCD 1999年第5期4-7,共4页
利用 X P S 研究了 R F- P E C V D 制备的 Sn O2 薄膜的化学计量配比,测试了 Sn O2 薄膜的光学和电加热特性. 结果表明:具有导电性能的 Sn O2 薄膜是一种非理想化学计量配比的氧化物半导体薄膜材料,薄膜... 利用 X P S 研究了 R F- P E C V D 制备的 Sn O2 薄膜的化学计量配比,测试了 Sn O2 薄膜的光学和电加热特性. 结果表明:具有导电性能的 Sn O2 薄膜是一种非理想化学计量配比的氧化物半导体薄膜材料,薄膜还具有较高的可见光透过率和较好的电加热性能. 展开更多
关键词 薄膜 化学计量配比 二氧化锡 PECVD
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超细长银纳米线的制备及其导电薄膜性能优化 被引量:2
12
作者 潘丽君 李阳 +6 位作者 何鑫 蔡俊韬 包绵腾 吴明建 陈锏中 张美庆 董秋彤 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第8期1684-1690,共7页
以硝酸银为银源、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)为形貌导向剂、硫酸铁为诱导剂、葡萄糖为还原剂,采用高效便捷的水热法制备银纳米线(AgNWs),通过调控PVP用量和热处理时间致使其长径比大于1000;将异丙醇与乙醇按照一定比例混合,配制出分散性良好的... 以硝酸银为银源、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)为形貌导向剂、硫酸铁为诱导剂、葡萄糖为还原剂,采用高效便捷的水热法制备银纳米线(AgNWs),通过调控PVP用量和热处理时间致使其长径比大于1000;将异丙醇与乙醇按照一定比例混合,配制出分散性良好的AgNWs墨水,并采用变速旋涂法在玻璃衬底上制备透明导电薄膜;通过低温低压烧结和聚乙烯醇(PVA)固化处理优化薄膜的光学及导电性能,制得方块电阻为(19±2)Ω·sq-1、透过率大于86%透明导电薄膜。 展开更多
关键词 AgNWs AgNWs墨水 水热法 低温低压烧结 透明导电薄膜
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透明导电薄膜ZnO:Zr的反应磁控溅射法制备及表征 被引量:2
13
作者 张化福 牛瑞华 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第7期1333-1337,共5页
以Zn金属靶和Zr金属片组成的Zn:Zr为靶材,利用直流反应磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO:Zr透明导电薄膜。研究了靶与衬底之间的距离对所制备薄膜结构和性能的影响。实验制备的ZnO:Zr薄膜为六方纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有与衬底方向垂直... 以Zn金属靶和Zr金属片组成的Zn:Zr为靶材,利用直流反应磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO:Zr透明导电薄膜。研究了靶与衬底之间的距离对所制备薄膜结构和性能的影响。实验制备的ZnO:Zr薄膜为六方纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有与衬底方向垂直的c轴择优取向。实验结果表明,靶与衬底之间的距离对ZnO:Zr薄膜的结构、生长速率、密度及电学性能有很大影响。靶与衬底之间的最佳距离为6.0cm,在此条件下制备的ZnO:Zr薄膜具有最小电阻率1.78×10-3Ω.cm,其可见光透过率为88.5%,折射率为2.04。 展开更多
关键词 ZnO:Zr 直流反应磁控溅射 透明导电薄膜 靶与衬底之间的距离
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THE BAND STRUCTURE AND WORK FUNCTION OF TRANSPARENT CONDUCTING ALUMINUM AND MANGANESE CO-DOPED ZINC OXIDE FILMS
14
作者 H.T.Cao Z.L.Pei +3 位作者 X.B.Zhang J.Gong C.Sun L.S.Wen 《Acta Metallurgica Sinica(English Letters)》 SCIE EI CAS CSCD 2005年第3期356-362,共7页
Al and Mn co-doped-ZnO films have been prepared at room temperature by DC reacti ve magnetron sputtering technique. The optical absorption coefficient, apparent and fundamental band gap, and work function of the films... Al and Mn co-doped-ZnO films have been prepared at room temperature by DC reacti ve magnetron sputtering technique. The optical absorption coefficient, apparent and fundamental band gap, and work function of the films have been investigated using optical spectroscopy, band structure analyses and ultraviolet photoelectro n spectroscopy (UPS). ZnO films have direct allowed transition band structure, w hich has been confirmed by the character of the optical absorption coefficient. The apparent band gap has been found directly proportional to N2/3, showing that the effect of Burstein-Moss shift on the band gap variations dominates over the many-body effect. With only standard cleaning protocols, the work function of ZnO: (Al, Mn) and ZnO: Al films have been measured to be 4.26 and 4.21eV, respec tively. The incorporation of Mn element into the matrix of ZnO, as a relatively deep donor, can remove some electrons from the conduction band and deplete the d ensity of occupied states at the Fermi energy, which causes a loss in measured p hotoemission intensity and an increase in the surface work function. Based on th e band gap and work function results, the energy band diagram of the ZnO: (Al, M n) film near its surface is also given. 展开更多
关键词 transparent conducting oxide film band gap UPS work function
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射频磁控溅射法成长Cu-Al-O薄膜的特性分析 被引量:1
15
作者 王春艳 《粉末冶金工业》 CAS 北大核心 2020年第1期42-45,共4页
本文以Cu靶和Al靶为靶材,在Al靶上粘贴不同数量的Cu片控制Cu/Al比例,利用射频磁控溅射法在玻璃基板上沉积Cu-Al-O薄膜;通过WDS、XRD、XPS、四点探针、霍尔效应及UV-vis光谱等分析Al含量对薄膜成分、晶体结构以及光电特性的影响。结果表... 本文以Cu靶和Al靶为靶材,在Al靶上粘贴不同数量的Cu片控制Cu/Al比例,利用射频磁控溅射法在玻璃基板上沉积Cu-Al-O薄膜;通过WDS、XRD、XPS、四点探针、霍尔效应及UV-vis光谱等分析Al含量对薄膜成分、晶体结构以及光电特性的影响。结果表明,薄膜中Al含量随Cu片数量增多由0增至19.35%;薄膜的晶体结构随着Al含量增加,由CuO相转变为非晶态;电阻率随着Al含量增加,由0.49Ω·cm增至11.78Ω·cm;Cu-Al-O薄膜为p型导电;可见光透射率随Al含量增加由19.98%增加至74.11%,光学能隙由2.09 eV增至2.88 eV。 展开更多
关键词 p型透明导电氧化物薄膜 Cu-Al-O薄膜 射频磁控溅射 AL含量 晶体结构 光电特性
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SnO_(2-x)透明导电薄膜的制备及其导电性能研究 被引量:1
16
作者 闫军锋 邓周虎 +2 位作者 张志勇 张富春 王雪文 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2006年第7期59-62,共4页
以金属有机化合物(MO)四甲基锡[Sn(CH3)4]为源物质,采用等离子体增强化学气相沉积技术(PECVD),在玻璃片上制备了SnO2–x薄膜。并用XRD、AFM等对样品进行分析。结果表明,氧气与四甲基锡(氮气携带)流量比为10:6,衬底温度为150℃,淀积时间... 以金属有机化合物(MO)四甲基锡[Sn(CH3)4]为源物质,采用等离子体增强化学气相沉积技术(PECVD),在玻璃片上制备了SnO2–x薄膜。并用XRD、AFM等对样品进行分析。结果表明,氧气与四甲基锡(氮气携带)流量比为10:6,衬底温度为150℃,淀积时间为2h制备的薄膜表面平整,方块电阻大约为36.5?/□,紫外–可见光透射率在90%以上。 展开更多
关键词 无机非金属材料 SnO2-x MO-PECVD 透明导电薄膜 密度泛函理论
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银基透明导电多层膜界面研究进展 被引量:1
17
作者 张晓锋 颜悦 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第B02期6-10,共5页
由于具有较低的电阻率和成本、较好的机械加工性能、设计上的灵活性,可室温沉积等优点,银基透明导电多层膜已广泛应用于低辐射膜、强电磁屏蔽、低功耗光电子器件特别是柔性电子器件等领域。但由于材料自身的性质与制备条件的差异性,实... 由于具有较低的电阻率和成本、较好的机械加工性能、设计上的灵活性,可室温沉积等优点,银基透明导电多层膜已广泛应用于低辐射膜、强电磁屏蔽、低功耗光电子器件特别是柔性电子器件等领域。但由于材料自身的性质与制备条件的差异性,实际制备的金属/电介质(或半导体)透明导电多层膜界面处往往存在表面等离子体共振、界面导电电子散射、膜层脱层开裂等问题,这些均与多层膜界面特性密切相关。本文针对这类问题,评述了近年来银基透明导电多层膜界面研究的进展,并对今后发展给予分析和展望。 展开更多
关键词 银基透明导电薄膜 多层膜 界面研究 表面等离子体共振(SPR)
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制备过程对掺铝氧化锌薄膜性质的影响
18
作者 张天宝 李金培 《广东化工》 CAS 2012年第11期11-13,共3页
文章采用溶胶-凝胶法在玻璃基底上制备得到了高透光率,高导电性的掺铝氧化锌薄膜(AZO),利用原子力显微镜、扫描电镜、X射多次退火的制备过程不仅可以得到可见光区透光率大于85%,电阻率为7.2×10-5Ω·m的透明导电薄膜,而且因省... 文章采用溶胶-凝胶法在玻璃基底上制备得到了高透光率,高导电性的掺铝氧化锌薄膜(AZO),利用原子力显微镜、扫描电镜、X射多次退火的制备过程不仅可以得到可见光区透光率大于85%,电阻率为7.2×10-5Ω·m的透明导电薄膜,而且因省略了热处理过程而简化了制备工艺,缩短了制膜时间。线衍射仪和紫外可见分光光度计等研究了三种不同的制备过程对AZO性质的影响。结果表明,制备过程的不同导致了薄膜的表面形貌、结构和导电性质方面的差别,其中分层多次退火过程有利于晶粒长大,形成结晶度高且具有单一(002)取向的AZO薄膜,同时改善薄膜的导电性能。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 掺铝氧化锌薄膜 制备过程 透明导电薄膜
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缓冲层厚度对透明导电薄膜ZnO∶Zr性能的影响(英文)
19
作者 张化福 李雪 +2 位作者 类成新 刘汉法 袁长坤 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第5期490-493,共4页
利用直流磁控溅射法在有ZnO∶Zr缓冲层的水冷玻璃衬底上成功制备出了ZnO∶Zr透明导电薄膜,缓冲层的厚度介于35~208nm。利用XRD、SEM、四探针测试仪和紫外-可见分光光度计研究ZnO∶Zr薄膜的结构、形貌、电光性能。结果表明,薄膜的颗粒... 利用直流磁控溅射法在有ZnO∶Zr缓冲层的水冷玻璃衬底上成功制备出了ZnO∶Zr透明导电薄膜,缓冲层的厚度介于35~208nm。利用XRD、SEM、四探针测试仪和紫外-可见分光光度计研究ZnO∶Zr薄膜的结构、形貌、电光性能。结果表明,薄膜的颗粒尺寸和电阻率对缓冲层厚度具有较强的依赖性。当缓冲层厚度从35nm增加到103nm时,薄膜的颗粒尺寸增大,电阻率减小。而当缓冲层厚度从103nm增加到208nm时,薄膜的颗粒尺寸减小,电阻率增大。当缓冲厚度为103nm时,薄膜的电阻率最小为2.96×10-3Ω.cm,远小于没有缓冲层时的12.9×10-3Ω.cm。实验结果表明,在沉积薄膜之前先沉积一层适当的缓冲层是提高ZnO∶Zr薄膜质量的一种有效方法。 展开更多
关键词 ZnO∶Zr薄膜 缓冲层 磁控溅射 透明导电薄膜
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透明导电薄膜的研究现状及应用 被引量:51
20
作者 李世涛 乔学亮 陈建国 《激光与光电子学进展》 CSCD 2003年第7期53-59,共7页
综述了当前透明导电薄膜的最新研究和应用状况,重点讨论了ITO膜的光电性能和当前的研究焦点。指出了目前需要进一步从材料选择、工艺参数制定、多层膜光学设计等方面来提高透明导电膜的综合性能,使其可见光平均透光率达到92%以上,从而... 综述了当前透明导电薄膜的最新研究和应用状况,重点讨论了ITO膜的光电性能和当前的研究焦点。指出了目前需要进一步从材料选择、工艺参数制定、多层膜光学设计等方面来提高透明导电膜的综合性能,使其可见光平均透光率达到92%以上,从而满足高尖端技术的需要。 展开更多
关键词 透明导电薄膜 ITO膜 透光率 电导率
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