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用表面磁光克尔效应实验系统测量铁磁性薄膜的磁滞回线 被引量:4
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作者 刘平安 丁菲 +1 位作者 陈希江 陆申龙 《物理实验》 2006年第9期3-6,共4页
用自制的表面磁光克尔效应实验系统开发了研究性近代物理实验,测出铁磁性薄膜的磁滞回线,并求得克尔旋转角和克尔椭偏率.
关键词 表面磁光克尔效应 铁磁性薄膜 磁滞回线 克尔旋转角 克尔椭偏率
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用表面磁光克尔原理测量薄膜材料的磁性参数
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作者 祁建霞 《大学物理》 北大核心 2009年第9期36-38,41,共4页
以表面磁光克尔原理为机理,测量薄膜材料的磁性参数,实验上求得了饱和状态下坡莫合金的克尔偏转角,并测出了其磁滞回线.
关键词 表面磁光克尔效应 磁滞回线 克尔旋转角
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一种新型表面磁光克尔效应测量系统 被引量:4
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作者 刘平安 陈希江 +1 位作者 丁菲 陆申龙 《河南大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2007年第1期18-22,共5页
研制了一种新型的科研教学两用的表面磁光克尔效应测量系统,给出了该测量系统的设计方案、结构、技术性能、实验原理及使用方法.该测量系统可用于磁光器件、磁性薄膜及不同材料多层磁性薄膜特性参数的测量.
关键词 表面磁光克尔效应 磁性 磁滞回线
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利用表面磁光克尔效应监测Ni薄膜生长的物相转变 被引量:2
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作者 石绍华 欧阳雨 +1 位作者 李道勇 曹伟然 《物理实验》 2012年第8期30-33,共4页
利用磁控溅射方法制备了不同厚度和退火处理的Ni薄膜.表面磁光克尔效应研究表明:冷基底无退火处理的Ni薄膜为软磁性,退火处理的Ni薄膜为铁磁性质,且无退火处理的Ni金属膜磁性随膜厚的增加而增强.分析认为,冷基底条件下Ni膜是非晶态生长... 利用磁控溅射方法制备了不同厚度和退火处理的Ni薄膜.表面磁光克尔效应研究表明:冷基底无退火处理的Ni薄膜为软磁性,退火处理的Ni薄膜为铁磁性质,且无退火处理的Ni金属膜磁性随膜厚的增加而增强.分析认为,冷基底条件下Ni膜是非晶态生长,且膜内存有大量缺陷,经退火处理的Ni膜发生了重融再生长,形成了大颗粒结晶,膜内晶粒内缺陷大量消失. 展开更多
关键词 Ni薄膜 磁控溅射 表面磁光克尔效应 非晶态生长 重融再生
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新型表面磁光克尔效应实验测量系统 被引量:1
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作者 杨永明 张振彬 许启明 《西安建筑科技大学学报(自然科学版)》 CSCD 北大核心 2009年第6期876-879,共4页
用自制的表面磁光克尔效应实验系统,研究了软铁薄膜的克尔旋转角和克尔椭偏率,并观察到它的磁畴结构变化.该系统采用先进的CCD成像数码技术,计算机图像处理技术以及可视化嵌入式编程技术,使操作和维护画面更加方便,直观.
关键词 表面磁光克尔效应 计算机图像处理 磁感应强度
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