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平面光电器件的纳米级高速研磨 被引量:3
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作者 王黎明 田春林 周化文 《长春理工大学学报(自然科学版)》 2004年第3期18-19,共2页
论文探讨了采用固着磨料高速研磨进行纳米级加工的有关问题。采用固着磨料高速研磨加工技术加工光电器件 ,使工件已加工表面粗糙度达Ra2 .88nm ,平面度达 19nm ,不仅实现了纳米级加工 ,而且还实现了高效率、低成本加工。
关键词 光电器件 纳米级加工 高速研磨
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光电传感器的发展及其应用 被引量:33
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作者 颜晓河 董玲娇 苏绍兴 《电子工业专用设备》 2006年第1期59-62,共4页
从简介光电传感器的基本原理入手,分析了国内外研究的现状和发展方向,并描述了光电传感器的应用前景。
关键词 光电传感器 光电元件 信号
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采用线型PSD设计激光位移传感器的研究 被引量:3
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作者 王晓东 赵杰 蔡鹤皋 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 1996年第3期34-36,共3页
PSD元件具有分辨率高,检测电路简单,速度快等优点,是一种新型的敏感元件,本文研究了采用PSD作为敏感元件,半导体激光管作为发光元件设计激光位移传感器的有关问题。
关键词 位移传感器 三角法测定 激光
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胶粘剂在光电元件加工中的应用及发展趋势 被引量:3
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作者 句红兵 杨俊宏 +3 位作者 赵承波 訾云旭 荀涛 张保福 《中国胶粘剂》 CAS 北大核心 2011年第10期54-57,共4页
阐述了光电元件上盘和保护用胶粘剂的一般技术要求。重点介绍了光电元件加工过程中常用的无机胶粘剂、热熔胶、EP(环氧树脂)胶粘剂、压敏胶保护膜、瞬间胶、硅橡胶及UV(紫外光)固化胶的技术特点及其在光电元件上盘和保护过程中的应用,... 阐述了光电元件上盘和保护用胶粘剂的一般技术要求。重点介绍了光电元件加工过程中常用的无机胶粘剂、热熔胶、EP(环氧树脂)胶粘剂、压敏胶保护膜、瞬间胶、硅橡胶及UV(紫外光)固化胶的技术特点及其在光电元件上盘和保护过程中的应用,并对其发展趋势进行了展望。 展开更多
关键词 胶粘剂 光电元件 加工
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测量表面粗糙度的激光高分辨率传感器的设计 被引量:1
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作者 黄玲 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2001年第6期31-32,共2页
文中介绍了一种测量表面粗糙度的高分辨率传感器 ,该设计应用聚焦探测和光电技术 ,具有非接触、响应快和性能可靠的特点。
关键词 表面粗糙度测量 传感器 光电元件 激光 设计 分辨率
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光电元件光谱特性实验的微机控制
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作者 陈秀苇 陈卫国 《大学物理实验》 1995年第3期55-56,共2页
利用微机,集数据采集、存贮、处理、结果显示为一体,完成光电元件光谱特性的测试,并可进行曲线和数据的打印。
关键词 光电元件 光谱灵敏度 彼长位移传感器
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