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国内大功率半导体激光器研究及应用现状 被引量：74
1
作者 马骁宇 王俊 刘素平 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2008年第2期189-194,共6页
近年来,国内外在大功率半导体激光器方面的研究均取得了很大的进展。其中,大功率半导体激光器列阵的研究和应用成为最大的亮点,如超高电光转换效率、高亮度和高可靠性等主要光电特性均实现了巨大的突破。针对国内大功率半导体激光器主... 近年来,国内外在大功率半导体激光器方面的研究均取得了很大的进展。其中,大功率半导体激光器列阵的研究和应用成为最大的亮点,如超高电光转换效率、高亮度和高可靠性等主要光电特性均实现了巨大的突破。针对国内大功率半导体激光器主要研究内容和关键技术进行了总结,在外延片结构中广泛采用应变量子阱结构、无铝有源区宽波导大光腔结构及非对称波导结构来提高端面光学灾变损伤光功率密度,还从腔面光学膜、器件封装、器件可靠性、光束整形与耦合以及器件应用等几个方面给予介绍。 展开更多
关键词 大功率半导体激光器 外延片结构 光学膜 封装 光束整形与耦合
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国外光学薄膜的应用和真空镀膜工艺 被引量：16
2
作者 宋继鑫 《光学技术》 CAS CSCD 1994年第1期32-38,共7页
本文概述了国外光学薄膜的典型应用和光学薄膜制造工艺的发展，着重阐述了国外的现代真空镀膜工艺。
关键词 光学薄膜 镀膜工艺 真空镀膜
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溅射靶材的制备及应用研究 被引量：27
3
作者 金永中 刘东亮 陈建 《四川理工学院学报（自然科学版）》 CAS 2005年第3期22-24,共3页
随着电子及信息产业迅猛发展,全球溅射靶材的需求量越来越多。文章介绍了靶材的分类、制备方法和应用情况,并指出了目前溅射靶材急需解决的几个重大问题。
关键词 溅射 靶材制备 集成电路 平面显示器 光学镀膜
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溶胶凝胶法在聚合物/无机纳米复合材料中的应用 被引量：17
4
作者 葛建华 王迎军 +1 位作者 郑裕东 龚克诚 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2004年第3期442-445,共4页
本文对溶胶凝胶法在聚合物 无机纳米复合材料中的应用进行了综述。并对溶胶凝胶法在橡胶增强、光学仪器、功能化涂层以及其它领域中的应用进行了具体的讨论。指出溶胶凝胶过程工艺条件的优化以及分散介质范围的扩大将是溶胶凝胶法在聚... 本文对溶胶凝胶法在聚合物 无机纳米复合材料中的应用进行了综述。并对溶胶凝胶法在橡胶增强、光学仪器、功能化涂层以及其它领域中的应用进行了具体的讨论。指出溶胶凝胶过程工艺条件的优化以及分散介质范围的扩大将是溶胶凝胶法在聚合物 无机纳米复合材料中应用的发展方向。 展开更多
关键词 溶胶凝胶 聚合物 无机纳米复合材料 橡胶增强 光学器械 功能化涂层
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溅射靶材的应用及发展趋势 被引量：22
5
作者 杨邦朝 胡永达 崔红玲 《真空》 CAS 北大核心 2002年第1期1-4,共4页
由于集成电路、光碟及平面显示器等产业规模越来越大 ,这些高技术产业对各种超高纯金属及合金溅射靶材的需求量愈来愈多。本文对各种溅射靶的应用情况、市场及发展趋势作简要分析 。
关键词 溅射靶材 集成电路 平面显示器 光学镀膜 薄膜材料 制备
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光学镀膜宽带膜厚监控系统 被引量：21
6
作者 刘晓元 黄云 +1 位作者 周宁平 龙兴武 《国防科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期23-27,共5页
针对过去的宽带膜厚监控法必须依赖镀制前设定的目标透射率 (反射率 )的固有缺陷 ,提出了在蒸镀过程中及时拟合出所镀层的膜厚、色散系数 (折射率 )等参数 ,并据此不断修正目标透射率 (反射率 )的设想 ,从而从根本上克服过去的宽带膜厚... 针对过去的宽带膜厚监控法必须依赖镀制前设定的目标透射率 (反射率 )的固有缺陷 ,提出了在蒸镀过程中及时拟合出所镀层的膜厚、色散系数 (折射率 )等参数 ,并据此不断修正目标透射率 (反射率 )的设想 ,从而从根本上克服过去的宽带膜厚监控法的固有缺陷。建立了基于修正膜层目标光谱特性的宽带膜厚监控系统 ,阐述了它的结构和工作原理。进行了稳定性实验及一系列镀膜监控实验 ,实验结果表明 ,该系统透射率的重复测量精度优于 2‰ ,膜厚监控精度较高 ,重复性好 ,各层的终点膜厚判定精度优于 1 %。 展开更多
关键词 光学薄膜 镀膜 膜厚监测 宽带膜厚监控系统
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基于整体退火遗传算法的膜系设计方法 被引量：20
7
作者 叶美盈 《光电工程》 CAS CSCD 2000年第3期12-15,23,共5页
提出了以遗传算法和模拟退火算法相结合的整体退火遗传算法 ( GASA)进行膜系设计的新方法。整体退火遗传算法具有全局寻优能力 ,与作为现代光学薄膜自动设计的主要方法——针法相比 ,在相同薄膜层数情况下用该方法设计可以得到较优的结... 提出了以遗传算法和模拟退火算法相结合的整体退火遗传算法 ( GASA)进行膜系设计的新方法。整体退火遗传算法具有全局寻优能力 ,与作为现代光学薄膜自动设计的主要方法——针法相比 ,在相同薄膜层数情况下用该方法设计可以得到较优的结果 ,或者用更少的薄膜层数达到同样的设计结果。并且对初始条件不敏感 ,可以确定膜层厚度边界 ,以确保制备方便。理论与实例表明该方法是高效的和可靠的。 展开更多
关键词 光学薄膜 膜系设计 遗传算法 模拟退火算法
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光学薄膜领域反应磁控溅射技术的进展 被引量：18
8
作者 闫宏 赵福庭 《光学仪器》 2004年第2期109-114,共6页
光学薄膜领域应用反应磁控溅射技术已有多年,反应磁控溅射对提高薄膜质量及降低工艺成本的作用,已受到业界的重视,正在进入工业生产之中。对光学薄膜领域中反应磁控溅射技术中的相关问题进行了评述,提出了一种可能的方案。
关键词 反应磁控溅射 光学薄膜 滤光片 镀膜 RMS
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无机-有机杂化材料的进展 被引量：13
9
作者 余锡宾 王华林 訾振军 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第2期49-52,共4页
简述了近几年来无机-有机杂化材料作为结构材料、光学材料、涂膜材料在不同领域中的研究与应用。这类材料由于其制作方便、高度灵活、力学性能和光学性能优越,在未来高科技领域中必有广阔的应用前景。
关键词 无机-有机 杂化材料 结构材料 光学材料
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PET型光学薄膜用涂层及相关技术研究现状 被引量：19
10
作者 袁东芝 邓康清 杨柱 《化学与粘合》 CAS 2012年第2期59-64,共6页
PET膜以其优异的性能在LCD领域得到了广泛应用,而功能性PET光学膜主要是通过在PET聚酯薄膜表面涂覆各种功能性涂层所得,因此PET型光学薄膜的涂层技术是光学膜的关键技术之一。从光学PET膜用涂层配方、涂层固化方式、涂布工艺和改善膜基... PET膜以其优异的性能在LCD领域得到了广泛应用,而功能性PET光学膜主要是通过在PET聚酯薄膜表面涂覆各种功能性涂层所得,因此PET型光学薄膜的涂层技术是光学膜的关键技术之一。从光学PET膜用涂层配方、涂层固化方式、涂布工艺和改善膜基材/涂层界面粘接强度的方法等方面,综述了PET型光学膜用涂层技术的国内外研究进展,并提出了未来的发展方向。 展开更多
关键词 光学膜 PET 涂层 综述
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长春光机所深紫外光学薄膜技术研究进展 被引量：17
11
作者 张立超 高劲松 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第11期2395-2401,共7页
综述了深紫外光学薄膜技术在中科院长春光学精密机械与物理研究所的研究进展。为满足高性能深紫外光学系统对薄膜光学元件的需求,在以下方面开展了系统研究:定制了两台深紫外光学薄膜专用沉积设备,分别用于高性能深紫外光学薄膜的热蒸... 综述了深紫外光学薄膜技术在中科院长春光学精密机械与物理研究所的研究进展。为满足高性能深紫外光学系统对薄膜光学元件的需求,在以下方面开展了系统研究:定制了两台深紫外光学薄膜专用沉积设备,分别用于高性能深紫外光学薄膜的热蒸发与离子束溅射沉积工艺,实现了φ410mm光学元件的镀膜;通过优化薄膜沉积工艺,双面镀膜样品在193nm处典型透过率为98.5%～99%;对影响光学元件面形精度的因素进行了考察,可实现的膜厚均匀性为0.1%(rms),能够满足高质量深紫外光学系统的容差要求;采用X射线衍射方法对薄膜应力进行了测量,并采用有限元方法分析了应力对元件面形的影响;针对影响薄膜实用性能的因素,提出了针对性的解决方法,采用紫外辐照方法恢复了环境污染引起的透过率下降,发展了基于晶振监控法的膜厚精确控制方法。基于这些研究的阶段性成果,明确了下一步的研究方向。 展开更多
关键词 深紫外光学 光学薄膜 薄膜沉积 薄膜测量 透过率 面形精度
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光学薄膜在波分复用系统中的应用 被引量：7
12
作者 顾培夫 李海峰 +2 位作者 章岳光 刘旭 唐晋发 《光学仪器》 2001年第5期105-109,共5页
简要介绍了波分复用原理和光学薄膜在波分复用技术中的应用。并给出了几个应用例子。
关键词 波分复用 光学薄膜 干涉滤光片
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光学塑料真空镀膜附着力机理与工艺研究 被引量：14
13
作者 潘永强 卢进军 万菁昱 《应用光学》 CAS CSCD 2003年第3期32-34,共3页
　依据光学塑料的基本特性,研究光学塑料真空镀膜过程中附着力的有关问题。论述薄膜生长过程中影响薄膜附着力的各种因素,针对其相关因素作了具体的理论分析。在真空镀膜实验的基础上,提出了一种提高真空镀膜附着力的具体方法。
关键词 光学塑料 真空镀膜 附着力 薄膜生长 生长工艺 生长机理
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激光对光学薄膜加热过程的数值分析 被引量：11
14
作者 赵强 范正修 王之江 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第8期1019-1023,共5页
采用“交替隐型算法”对光学薄膜中的加热过程进行了数值分析， 求解得到了薄膜中的二维温度场，
关键词 激光 光学薄膜 加热过程 数值计算
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白光LED色度特性研究 被引量：12
15
作者 王晶 王进 +1 位作者 陈静波 吴常玉 《光电子．激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期899-901,共3页
为了解决白光发光二极管(LED)光衰问题,采用包膜技术对YAG:Ce3+荧光粉进行了实验。分别用Al2O3和La2O3对YAG:Ce3+荧光粉包覆,然后封装成白光LED。实验结果表明:La2O3较Al2O3包覆的YAG:Ce3+荧光粉初始光强强;包膜后的白光LED的光衰和光... 为了解决白光发光二极管(LED)光衰问题,采用包膜技术对YAG:Ce3+荧光粉进行了实验。分别用Al2O3和La2O3对YAG:Ce3+荧光粉包覆,然后封装成白光LED。实验结果表明:La2O3较Al2O3包覆的YAG:Ce3+荧光粉初始光强强;包膜后的白光LED的光衰和光色变化都非常缓慢,表现出良好的光学稳定性。 展开更多
关键词 光衰 色度 白光发光二极管(LED) YAG:Ce^3+荧光粉 色膜
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高出光品质LED封装:现状及进展 被引量：13
16
作者 余兴建 舒伟程 +2 位作者 胡润 谢斌 罗小兵 《中国科学：技术科学》 EI CSCD 北大核心 2017年第9期891-922,共32页
发光二极管(light-emitting diode,LED)具有电光转换效率高、节能环保、体积小等优点,被誉为21世纪绿色照明光源.随着LED在越来越多的照明场合的应用推广和人们对于光源质量的要求的提高,LED出光品质越来越被重视.评价LED出光品质的指... 发光二极管(light-emitting diode,LED)具有电光转换效率高、节能环保、体积小等优点,被誉为21世纪绿色照明光源.随着LED在越来越多的照明场合的应用推广和人们对于光源质量的要求的提高,LED出光品质越来越被重视.评价LED出光品质的指标主要有效率、空间颜色均匀性和显色指数,这些参数和LED封装密切相关.LED封装是将芯片和其他封装材料集成在一起形成最终的照明产品,起着机械保护、外部信号和电连接、散热和光学参数调控等关键性功能.本文从封装的角度,对LED的效率、空间颜色均匀性和显色指数的调控技术进行了系统阐述.具体到封装中的关键技术,主要包含以下3方面:(1)热设计.LED在工作过程中约有60%的输入电能被转化为热量,如果产生的热量不能及时有效地散到环境中,将会造成LED的温度急剧升高,导致LED的效率下降并带来可靠性问题.(2)光学设计.LED的光从芯片有源层中通过电子-空穴复合的方式产生后,在经过芯片、荧光粉、封装胶和透镜等材料后,由于散射和折射等作用,光的传播方向和路径会发生改变.此外由于吸收作用,部分的光被吸收并转换成热量.因此通过光学设计不仅可以调控LED光源能量分布,还可以减少光在封装材料中的吸收从而提高光效.(3)荧光粉涂覆.相比于多色发光LED芯片组合获得期望出光品质LED的封装形式,将单色或者多色荧光粉涂覆在单色LED芯片上的封装形式具有更强的相关色温可调性和工艺灵活性而被广泛应用于LED工业生产中.对于荧光粉结合芯片的白光LED封装形式,荧光粉涂覆起着调控空间颜色均匀性和显色指数的关键作用. 展开更多
关键词 LED封装 热设计 光学设计 荧光粉涂覆
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一种菁染料－聚合物薄膜的光存存储性能 被引量：10
17
作者 唐福龙 顾冬红 +5 位作者 陈启婴 唐晓东 朱从善 干福熹 田禾 姚祖光 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第12期1773-1777,共5页
用旋涂法制备了一种菁染料－聚合物薄膜，并研究了该染料－聚合物薄膜的光谱性质和光存储性能。该染料薄膜在６６０～８３０ｎｍ波段有较强的吸收和２０％以上的反射率。在最佳实验条件下，获得了５８ｄＢ的信噪比。信噪比（ＣＮＲ）。
关键词 菁染料 旋涂法 光存储 聚合物 薄膜
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CCD在光学镀膜宽带膜厚监控系统中的应用研究 被引量：10
18
作者 刘晓元 周宁平 +1 位作者 黄云 龙兴武 《光学技术》 CAS CSCD 2001年第2期143-145,149,共4页
讨论了 CCD的主要特性及对宽带膜厚监控系统的影响 ,介绍了典型的 CCD数据采集系统。建立了一套基于 CCD的宽带膜厚监控系统 ,并对该系统进行了光谱标定及光谱补偿 ,给出了提高信噪比及减小非线性影响的处理方法。
关键词 CCD 光学镀膜 膜厚监控 宽带膜厚监控
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高强度激光薄膜的研制 被引量：5
19
作者 范正修 胡海洋 +3 位作者 范瑞瑛 赵强 刘晔 黄日成 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第2期195-200,共6页
为提高激光薄膜的抗激光强度，实验研究了薄膜新材料、镀膜基体的表面粗糙度和洁净度，薄膜中的杂质污染，镀膜后的热处理。
关键词 激光破坏 激光预处理 薄膜 抗激光强度
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光学薄膜的温度场设计 被引量：10
20
作者 范正修 汤雪飞 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第4期463-467,共5页
提出了光学薄膜温度场设计的概念，研究分析了薄膜光学性质和热、物性质对其温度场的影响。给出了相变光盘薄膜和高功率激光反射膜的具体设计。还给出了相变膜的写入、擦除功率和激光反射膜的破坏阈值。
关键词 光学薄膜 温度场设计
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