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ZrN及其多层膜的性质和耐腐蚀性能 被引量:19
1
作者 李成明 孙晓军 +2 位作者 张增毅 唐伟忠 吕反修 《材料热处理学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期55-58,共4页
用磁过滤电弧制备了ZrN和ZrN TiN多层膜 ,磁控溅射制备了ZrN薄膜。结果表明 ,ZrN TiN多层膜 ,由于纳米多层化作用 ,硬度高于ZrN和TiN的 2 6GPa和 2 1GPa,平均值达到 34 5GPa。X射线衍射分析表明 ,ZrN TiN多层膜由ZrN和TiN组成。过滤电... 用磁过滤电弧制备了ZrN和ZrN TiN多层膜 ,磁控溅射制备了ZrN薄膜。结果表明 ,ZrN TiN多层膜 ,由于纳米多层化作用 ,硬度高于ZrN和TiN的 2 6GPa和 2 1GPa,平均值达到 34 5GPa。X射线衍射分析表明 ,ZrN TiN多层膜由ZrN和TiN组成。过滤电弧制备的ZrN和ZrN TiN多层膜的结合力为 81N和 77N ,磁控溅射制备的ZrN薄膜的结合力为 2 6N。极化曲线的结果显示 ,过滤电弧制备的ZrN和ZrN TiN多层膜的耐腐蚀性显著优于磁控溅射制备的ZrN薄膜 ,讨论了两种方法制备薄膜性能差异的原因。 展开更多
关键词 硬度 多层薄膜 耐腐蚀性
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负偏压在电弧离子镀沉积TiN/TiCN多层薄膜中的作用 被引量:12
2
作者 黄美东 林国强 +4 位作者 董闯 孙超 蒋长荣 黄荣芳 闻立时 《金属热处理》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第7期17-20,共4页
用电弧离子镀方法在高速钢、不锈钢与铜基体上沉积合成TiN/TiCN多层薄膜 ,在其他参数不变的情况下只改变负偏压 ,着重考察不同负偏压下薄膜的沉积温度、膜基结合强度、显微硬度以及表面形貌等 ,研究基体负偏压在沉积多层薄膜中所起的作... 用电弧离子镀方法在高速钢、不锈钢与铜基体上沉积合成TiN/TiCN多层薄膜 ,在其他参数不变的情况下只改变负偏压 ,着重考察不同负偏压下薄膜的沉积温度、膜基结合强度、显微硬度以及表面形貌等 ,研究基体负偏压在沉积多层薄膜中所起的作用。结果表明 ,负偏压影响沉积温度 ,负偏压值越大 ,温度越高 ;负偏压值增大 ,表面形貌中的大颗粒数量减少 ,薄膜质量得到改善 ;负偏压在 - 30 0V左右时 ,膜基结合强度与硬度出现对应最佳性能点的峰值。 展开更多
关键词 电弧离子镀 负偏压 多层薄膜 氮化钛 碳氮化钛
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介质/金属/介质多层透明导电薄膜研究进展 被引量:8
3
作者 刘静 刘丹 顾真安 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第8期9-12,共4页
综述了介质/金属/介质(dielectric/metal/dielectric,D/M/D)多层透明导电膜材料的特点、制备方法、研究进展与应用现状,重点比较讨论了 ITO/Ag/ITO、ZnS/Ag/ZnS 的膜系结构、光电性能、化学稳定性、热稳定性等特点,以及与国内外的研究... 综述了介质/金属/介质(dielectric/metal/dielectric,D/M/D)多层透明导电膜材料的特点、制备方法、研究进展与应用现状,重点比较讨论了 ITO/Ag/ITO、ZnS/Ag/ZnS 的膜系结构、光电性能、化学稳定性、热稳定性等特点,以及与国内外的研究差距。ITO/Ag/ITO、ZnS/Ag/ZnS 是目前光电性能最好,且无需引入过渡层的两种 D/M/D膜系,但有关其热稳定性的评价和研究存在不同的观点。用资源丰富、价格便宜、无毒的掺铝氧化锌(ZAO)薄膜取代含有价格昂贵的贵金属铟的掺锡氧化铟(ITO)薄膜,ZAO/Ag/ZAO 膜系结构的设计、薄膜制备、光电性能与 IMI 的对比研究是目前国内外 D/M/D 研究中的热点课题和 D/M/D 发展的主要方向。 展开更多
关键词 透明导电膜 多层(D/M/D)膜 低辐射 透明导电薄膜 金属铟 介质 多层 膜系结构 光电性能 热稳定性
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软硬交替多层膜应力应变响应的分析 被引量:8
4
作者 朱有利 徐滨士 马世宁 《机械工程学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第5期50-53,共4页
为了对软硬交替多层表面膜在磨粒作用下的应力应变响应、膜层界面剥离和裂纹的产生及扩展的影响等有一个定量和全面的了解,从而为多层表面膜的结构设计提供理论基础,采用大变形弹塑性有限元法对高速钢基体上的TiN/Ti/TiN/... 为了对软硬交替多层表面膜在磨粒作用下的应力应变响应、膜层界面剥离和裂纹的产生及扩展的影响等有一个定量和全面的了解,从而为多层表面膜的结构设计提供理论基础,采用大变形弹塑性有限元法对高速钢基体上的TiN/Ti/TiN/Ti…多层膜在法向压痕作用下的力学行为进行了模拟和分析。为了研究膜层数和膜厚的影响,对从单层到16层的不同膜层体系进行了计算。通过对膜层的变形、最大应力随膜层数的变化、界面切应力分布和表面张应力分布等的分析得出了这些参数的分布及其随载荷和膜层数的变化规律。这些结果将为多层膜的结构优化设计提供定量的依据。 展开更多
关键词 多层膜 有限元法 界面 应力 设计
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巨磁阻抗磁传感器的研究进展 被引量:12
5
作者 蒋颜玮 房建成 +1 位作者 盛蔚 黄学功 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2008年第5期1-6,共6页
基于巨磁阻抗效应(GMI)的磁传感器是近年来磁传感器领域的研究热点之一。采用非晶或纳米晶材料可以制备丝、薄带、薄膜和多层膜等不同的形态,利用它们的GMI效应制成GMI磁传感器,其突出优点是微型化、高灵敏度、快速响应、高温度稳定性... 基于巨磁阻抗效应(GMI)的磁传感器是近年来磁传感器领域的研究热点之一。采用非晶或纳米晶材料可以制备丝、薄带、薄膜和多层膜等不同的形态,利用它们的GMI效应制成GMI磁传感器,其突出优点是微型化、高灵敏度、快速响应、高温度稳定性和低功耗。叙述了巨磁阻抗磁传感器的研究进展,分别以非晶丝和多层膜为敏感元件的GMI磁传感器为例,着重对传感器的敏感材料、结构形式、处理电路及性能做了介绍,并指出了GMI磁传感器目前存在的问题及将来的发展趋势。 展开更多
关键词 巨磁阻抗(GMI) 磁传感器 非晶丝 多层膜
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ZnO/Ag/ZnO多层膜的制备和性质研究 被引量:9
6
作者 李俊 闫金良 +2 位作者 杨春秀 李科伟 于芬 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期52-54,共3页
采用射频磁控溅射ZnO陶瓷靶和直流磁控溅射Ag靶的方法制备了ZnO/Ag/ZnO多层膜。用X射线衍射仪、紫外–可见分光光度计、四探针测试仪和金相显微镜对ZnO/Ag/ZnO薄膜的结构、光学透过率、方阻和稳定性进行了研究。结果表明,ZnO(60nm)/Ag/(... 采用射频磁控溅射ZnO陶瓷靶和直流磁控溅射Ag靶的方法制备了ZnO/Ag/ZnO多层膜。用X射线衍射仪、紫外–可见分光光度计、四探针测试仪和金相显微镜对ZnO/Ag/ZnO薄膜的结构、光学透过率、方阻和稳定性进行了研究。结果表明,ZnO(60nm)/Ag/(10nm)/ZnO(60nm)薄膜呈现多晶结构,薄膜在520nm处的光学透过率高达87.5%,方阻Rs为6.2Ω/□。随着顶层ZnO薄膜厚度的增加,ZnO/Ag/ZnO薄膜的稳定性提高。 展开更多
关键词 半导体技术 透明导电膜 多层膜 光学性质 电学性质
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电沉积铜钴纳米多层膜的机理研究 被引量:9
7
作者 薛江云 吴继勋 杨德钧 《电化学》 CAS CSCD 1997年第4期401-407,共7页
采用动电位扫描、循环伏安以及电化学交流阻抗等方法研究了铜钴纳米多层膜的电沉积机理.结果表明:在所研究的体系中,铜的沉积是扩散控制的可逆电极过程,而钴的沉积是首先形成Co(OH)ads的吸附中间产物,而后在电极上进一步... 采用动电位扫描、循环伏安以及电化学交流阻抗等方法研究了铜钴纳米多层膜的电沉积机理.结果表明:在所研究的体系中,铜的沉积是扩散控制的可逆电极过程,而钴的沉积是首先形成Co(OH)ads的吸附中间产物,而后在电极上进一步还原为原子态.基于研究结果,提出了铜钴沉积的机制. 展开更多
关键词 铜钴合金 纳米多层膜 电沉积 铜钴钠米多层膜
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层层静电自组装构筑壳聚糖/磷钨酸复合膜的研究 被引量:6
8
作者 张莉 卓馨 +1 位作者 王红艳 王聪 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2007年第11期1988-1993,共6页
将正电荷的壳聚糖与负电荷的磷钨酸溶液通过静电作用交替沉积在基底上组装复合多层膜。使用紫外可见光谱(UV-Vis)、红外光谱(FTIR)、X-射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)和循环伏安法(CV)等手段对复合膜进行了表征。UV-Vis结果显... 将正电荷的壳聚糖与负电荷的磷钨酸溶液通过静电作用交替沉积在基底上组装复合多层膜。使用紫外可见光谱(UV-Vis)、红外光谱(FTIR)、X-射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)和循环伏安法(CV)等手段对复合膜进行了表征。UV-Vis结果显示多层膜在特征吸收峰处的吸光度数值随膜双层数增加逐渐增大,呈良好的线性关系,表明多层膜是均匀组装的;XPS和FTIR结果证实了壳聚糖和磷钨酸被组装到膜上,AFM图形显示膜表面有一定的粗糙度,CV结果说明多层膜保留了磷钨酸的电化学性质。 展开更多
关键词 壳聚糖/磷钨酸复合膜 层层自组装 多层膜
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DLC/Ag/DLC复合多层薄膜光学性能 被引量:8
9
作者 张德恒 徐照方 李伯勋 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期2031-2035,共5页
采用等离子体增强化学气相沉积类金刚石(DLC)薄膜、高真空磁控溅射镀膜设备溅射Ag靶的方法制备了不同厚度Ag、DLC层的DLC/Ag/DLC多层膜,分别用紫外可见分光光度计、四探针测试仪对样品的光学性能、电学性能进行了测试。结果表明,随着Ag... 采用等离子体增强化学气相沉积类金刚石(DLC)薄膜、高真空磁控溅射镀膜设备溅射Ag靶的方法制备了不同厚度Ag、DLC层的DLC/Ag/DLC多层膜,分别用紫外可见分光光度计、四探针测试仪对样品的光学性能、电学性能进行了测试。结果表明,随着Ag层厚度的增加,DLC/Ag/DLC多层膜透射率先增后减,外层DLC薄膜和内层DLC薄膜对透射率影响基本一致,随着厚度增加透射率先增后减,在内外层厚度为40 nm,Ag夹层厚度为16 nm时,DLC(30 nm)/Ag(16 nm)/DLC(40 nm)膜在550 nm处的透射率高达94.4%,电气指数高达112.4×10-3Ω-1,远远超过现有透明导电膜的电气指数(FTC≈20×10-3Ω-1)。 展开更多
关键词 薄膜光学 光学性能 多层膜 光学透射率 电气指数 磁控溅射
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大阻尼高比刚度复合材料仪表板结构设计及动态特性分析 被引量:9
10
作者 梁森 张术国 +1 位作者 梁天锡 韦利明 《振动与冲击》 EI CSCD 北大核心 2017年第6期212-217,共6页
提出了一种新型五层夹芯复合材料仪表板的设计结构,其中上、下蒙皮和中心层设计成嵌入式共固化多层阻尼复合材料结构,并在上蒙皮和中心层以及在下蒙皮和中心层之间设计成一定厚度的聚甲基丙烯酰亚胺泡沫材料,通过有限元数值模拟对其动... 提出了一种新型五层夹芯复合材料仪表板的设计结构,其中上、下蒙皮和中心层设计成嵌入式共固化多层阻尼复合材料结构,并在上蒙皮和中心层以及在下蒙皮和中心层之间设计成一定厚度的聚甲基丙烯酰亚胺泡沫材料,通过有限元数值模拟对其动力学性能进行研究,并与制作出试件的模态分析实验结果进行对比,表明此种设计结构具有非常高的阻尼和比刚度特性,为轻质精密复合材料仪表板设计理论和制作工艺的进一步研究奠定了坚实的基础。 展开更多
关键词 夹芯复合材料结构 嵌入式共固化多层阻尼复合材料 结构设计 数值模拟 模态分析实验
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Ag层的厚度对ZnO/Ag/ZnO多层膜性能的影响 被引量:7
11
作者 李俊 闫金良 +2 位作者 孙学卿 李科伟 杨春秀 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第9期1402-1405,共4页
采用射频磁控溅射ZnO陶瓷靶、直流磁控溅射Ag靶的方法制备了不同厚度Ag夹层的ZnO(60nm)/Ag/ZnO(60nm)多层膜.分别用X射线衍射仪、紫外可见分光光度计、四探针测试仪对样品的结构、光学性质、电学性质进行了研究.结果表明:随着Ag层厚度... 采用射频磁控溅射ZnO陶瓷靶、直流磁控溅射Ag靶的方法制备了不同厚度Ag夹层的ZnO(60nm)/Ag/ZnO(60nm)多层膜.分别用X射线衍射仪、紫外可见分光光度计、四探针测试仪对样品的结构、光学性质、电学性质进行了研究.结果表明:随着Ag层厚度的增加,ZnO/Ag/ZnO多层膜呈现多晶结构,Ag(111)衍射峰的强度增强.Ag夹层厚度为11nm时,ZnO(60nm)/Ag/ZnO(60nm)膜在554nm处的透过率高达92.3%.随着Ag层厚度的增加,Ag膜的特征吸收峰呈现红移和宽化,ZnO/Ag/ZnO多层膜的面电阻先减小后趋于稳定. 展开更多
关键词 磁控溅射 多层膜 结构 光电性质
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钛合金表面MoS_2-Ti/Cu-Ni-In多层固体润滑膜的制备及其抗微动磨损性能 被引量:8
12
作者 李琪 代明江 +2 位作者 韦春贝 侯惠君 林松盛 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第1期111-117,共7页
目的改善钛合金表面抗微动磨损性能。方法利用非平衡磁控溅射技术在钛合金表面沉积MoS_2-Ti/Cu-Ni-In多层固体润滑膜,并与MoS_2-Ti与Cu-Ni-In单层固体润滑膜进行对比。利用扫描电镜、显微硬度计、摩擦磨损试验机、表面轮廓仪对固体润滑... 目的改善钛合金表面抗微动磨损性能。方法利用非平衡磁控溅射技术在钛合金表面沉积MoS_2-Ti/Cu-Ni-In多层固体润滑膜,并与MoS_2-Ti与Cu-Ni-In单层固体润滑膜进行对比。利用扫描电镜、显微硬度计、摩擦磨损试验机、表面轮廓仪对固体润滑薄膜的形貌、硬度、抗微动磨损性能、磨痕形貌进行分析测试。结果所制备的Cu-Ni-In单层膜与MoS_2-Ti单层膜结构致密,与基体结合良好,MoS_2-Ti/Cu-Ni-In多层膜交替结构清晰,结构致密。MoS_2-Ti/Cu-Ni-In多层膜的硬度大于MoS_2-Ti及Cu-Ni-In单层膜,多层膜的平均微动系数为0.06,MoS_2-Ti单层膜的平均微动系数为0.102,Cu-Ni-In单层膜的平均微动系数大于1.0。在12 000个微动循环周期后,测得MoS_2-Ti/Cu-Ni-In多层膜的最终磨损总量为0.045 mm^3,Cu-Ni-In单层膜的最终磨损总量为37.79 mm^3,MoS_2-Ti单层膜的最终磨损总量为0.296 mm^3,即多层膜的抗微动磨损性能较Cu-Ni-In单层膜改善了2个数量级,较MoS_2-Ti单层膜改善了5倍以上。结论 MoS_2-Ti/Cu-Ni-In多层膜中的多个界面对单层晶粒生长起到了阻挡作用,从而致使交替结构中的单层晶粒得到细化,Cu-Ni-In膜的引入延缓了MoS_2-Ti膜的剥落及其转移,增加了不锈钢球与多层膜间第三体的润滑及减磨效果,多层膜表现出了优异的抗微动磨损性能。 展开更多
关键词 磁控溅射 微动磨损 固体润滑膜 微动磨痕 多层膜 微动系数
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柱弧离子镀制备Ti/TiN/Ti(N,C)/TiC黑色硬质膜 被引量:5
13
作者 马胜歌 姜翠宁 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期290-294,共5页
利用自制的柱弧离子镀膜机,在不同硬度基体上制备了Ti/TiN/Ti(N,C)/TiC多层复合膜。膜呈深黑色,反射率小于14%,亮度值L*小于43,沉积速率约为0.78μm/h,表面分布较多液滴缺陷。膜的力学性能测试受基体硬度和膜层厚度影响较大,基体越硬、... 利用自制的柱弧离子镀膜机,在不同硬度基体上制备了Ti/TiN/Ti(N,C)/TiC多层复合膜。膜呈深黑色,反射率小于14%,亮度值L*小于43,沉积速率约为0.78μm/h,表面分布较多液滴缺陷。膜的力学性能测试受基体硬度和膜层厚度影响较大,基体越硬、膜层越厚,膜的硬度以及与基体的结合力测试结果越大。YW2硬质合金基体上制备0.82μm的黑色硬质膜显微硬度Hv(25g)=3229,结合力为26.70 N。该设备和工艺已成功应用于工业生产。 展开更多
关键词 黑色硬质膜 柱弧离子镀 TIC 多层膜
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MoS2/Pb-Ti多层薄膜的结构和摩擦学性能 被引量:7
14
作者 赵晓宇 张广安 +1 位作者 王立平 薛群基 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第10期97-106,共10页
目的设计Mo S_2/Pb-Ti多层薄膜,改善真空和大气环境下的摩擦学性能。方法采用磁控溅射技术沉积Mo S_2/Pb-Ti多层薄膜,通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、纳米压痕仪、真空和大气摩擦磨损实验,分别评价MoS_2/Pb-Ti多层薄膜的表面形貌... 目的设计Mo S_2/Pb-Ti多层薄膜,改善真空和大气环境下的摩擦学性能。方法采用磁控溅射技术沉积Mo S_2/Pb-Ti多层薄膜,通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、纳米压痕仪、真空和大气摩擦磨损实验,分别评价MoS_2/Pb-Ti多层薄膜的表面形貌、微观结构、力学性能、真空和大气环境下的摩擦学性能,并通过光学显微镜、能谱仪(EDS)、Raman光谱仪对磨痕及磨斑进行分析。结果随着MoS_2层厚度的增加,MoS_2/Pb-Ti多层薄膜的表面颗粒逐渐细化,变得更加光滑。同时,微观结构由金属相主导转变为由MoS_2相主导,弹性模量逐渐降低,硬度则先升高后降低。在真空环境下,Mo S_2/Pb-Ti多层薄膜的摩擦系数低至0.01,磨损率低至2.2×10^(-7) mm^3/(N·m),大气环境下摩擦系数低至0.07左右,磨损率低至2.7×10^(-7) mm^3/(N·m)。结论在真空摩擦磨损实验中,MoS_2层厚度过薄时,MoS_2/Pb-Ti多层薄膜的磨损机制为粘着磨损,MoS_2层厚度增加有助于形成稳定的转移膜,使得摩擦磨损大幅降低。在大气摩擦磨损实验中,Ti保护MoS_2的结构免于H_2O和O_2的破坏,使体系具有低而稳定的摩擦磨损。 展开更多
关键词 MOS2 多层薄膜 真空 潮湿 摩擦 磨损
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高分子多层共挤技术的研究进展
15
作者 印可桢 《橡胶工业》 CAS 2024年第3期232-239,共8页
高分子多层共挤技术是一项利用特制的挤出模具将两种高分子材料制成成百上千层薄膜的技术,可突破传统高分子复合材料相分离的限制,实现不同高分子材料的有效结合。高分子多层共挤技术产生的纳米效应、界面效应和结构效应具有广泛的应用... 高分子多层共挤技术是一项利用特制的挤出模具将两种高分子材料制成成百上千层薄膜的技术,可突破传统高分子复合材料相分离的限制,实现不同高分子材料的有效结合。高分子多层共挤技术产生的纳米效应、界面效应和结构效应具有广泛的应用性:纳米效应可对高分子晶体晶型和取向进行有效调控;界面效应是研究高分子材料相互作用的有效手段,可用于制造全界面材料等新型材料;结构效应具有独特的光学意义,利用一维有序层状结构产生一维光子晶体并结合高分子材料取向的特点,可对光反射和折射产生独特的影响。高分子多层膜在众多领域拥有良好的科研和应用价值。 展开更多
关键词 高分子多层共挤技术 多层膜 纳米效应 界面效应 结构效应 受限结晶
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结构生色SiO_2多层膜的静电自组装法构造 被引量:6
16
作者 张云 贾彦荣 邵建中 《印染》 北大核心 2012年第17期1-4,共4页
以聚乙烯亚胺(PEI)溶液和SiO2溶胶为前驱体,采用静电自组装法构造结构生色多层膜。研究了基板材质、提拉速率和PEI前驱液浓度对组装多层膜的影响。结果表明,表面负电性高、亲水性大、粗糙度小的基板上SiO2粒子分布较为均匀,形成的多层... 以聚乙烯亚胺(PEI)溶液和SiO2溶胶为前驱体,采用静电自组装法构造结构生色多层膜。研究了基板材质、提拉速率和PEI前驱液浓度对组装多层膜的影响。结果表明,表面负电性高、亲水性大、粗糙度小的基板上SiO2粒子分布较为均匀,形成的多层膜颜色均匀性较好;提拉速率为1.27 cm/s,PEI质量分数为0.5%时,SiO2粒子能相对均匀地分布在基板上。以此为条件,在PET基板上构造SiO2多层膜,不同周期数的多层膜呈现不同的颜色,且同一多层膜的颜色随观察角度的变化而变化。 展开更多
关键词 染整 结构色 多层膜 静电自组装
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磁控溅射WSx/W/DLC/W多层膜的微观结构及摩擦学性能 被引量:6
17
作者 郑晓华 刘涛 +2 位作者 杨烁妍 王贡启 杨芳儿 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2020年第4期1295-1300,共6页
采用磁控溅射技术在硅基底上交替沉积WSx、W以及DLC膜层制备WSx/W/DLC/W多层膜。利用X射线衍射仪、扫描电镜、纳米压痕仪等对多层膜的微观结构和力学性能进行了表征,使用球盘式摩擦磨损试验机测试了多层膜在大气中的摩擦学性能。结果表... 采用磁控溅射技术在硅基底上交替沉积WSx、W以及DLC膜层制备WSx/W/DLC/W多层膜。利用X射线衍射仪、扫描电镜、纳米压痕仪等对多层膜的微观结构和力学性能进行了表征,使用球盘式摩擦磨损试验机测试了多层膜在大气中的摩擦学性能。结果表明:多层膜表面均光滑致密。随着周期中W单层厚度的增加,多层膜中出现α-W、W2C和β-WC1-x结晶相,多层膜的硬度大幅提高(6 nm时具有极大值17.3 GPa),摩擦因数呈下降趋势,结合力逐渐降低,磨损率先降低后升高。W单层厚度为6 nm的多层膜的耐磨性能最佳,磨损率约为1.4×10^-14m^3·N^-1·m^-1。 展开更多
关键词 WS_x 类金刚石碳膜 W 多层膜 摩擦磨损
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葡萄糖氧化酶多层膜修饰电极的电化学性能的研究 被引量:5
18
作者 王力 蔡慧农 +1 位作者 吴永沛 王恩波 《东北师大学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期81-84,共4页
利用层接层自组装法,制备出有序且稳定的葡萄糖氧化酶的多层膜.应用电化学方法和XRD方法研究了膜修饰电极的电化学传感性能.结果表明:该传感器具有较好的重现性和稳定性,传感器对葡萄糖的响应非常迅速;每次加入葡萄糖后,电极的电流响应... 利用层接层自组装法,制备出有序且稳定的葡萄糖氧化酶的多层膜.应用电化学方法和XRD方法研究了膜修饰电极的电化学传感性能.结果表明:该传感器具有较好的重现性和稳定性,传感器对葡萄糖的响应非常迅速;每次加入葡萄糖后,电极的电流响应会随之出现跳跃性增大,酶电极达到96%,稳态电流响应的时间仅为3 s;灵敏度可以通过合理地调解多层膜的厚度来控制. 展开更多
关键词 葡萄糖氧化酶 多层膜 自组装 灵敏度
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Near-infrared electrochromism of multilayer films of a cyclometalated diruthenium complex prepared by layer-by-layer deposition on metal oxide substrates 被引量:4
19
作者 Zhi-Juan Li Chang-Jiang Yao Yu-Wu Zhong 《Science China Chemistry》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第12期1675-1685,共11页
A cyclometalated diruthenium complex 2 bridged by 1,2,4,5-tetra(pyrid-2-yl)benzene with six carboxylic acid groups at two ends was synthesized.Monolayer and multilayer films FTO/TiO2/(2)n(Zr)(n=1,2)and FTO/SnO2:Sb/(2)... A cyclometalated diruthenium complex 2 bridged by 1,2,4,5-tetra(pyrid-2-yl)benzene with six carboxylic acid groups at two ends was synthesized.Monolayer and multilayer films FTO/TiO2/(2)n(Zr)(n=1,2)and FTO/SnO2:Sb/(2)n(Zr)(n=1-4)have been prepared via interfacial layer-by-layer coordination assembly of 2 with zirconium(IV)ions.All films show two consecutive redox couples in the potential range between 0 and+1.0 V vs.Ag/AgCl.These films exhibit reversible near-infrared electrochromism upon switching of redox potential.The response time of the films on SnO2:Sb is around a few seconds,while that on TiO2 is around a few tens of seconds.The film deposition cycles were found to have a great impact on the electrochromic performance.Among six films examined,the two-layered film on SnO2:Sb displays the best balanced performance with a contrast ratio of 56%at 1,150 nm and good cyclic stability(9%loss of contrast ratio after 1,000 continuous double-potential-switching cycles),which is superior to that of the previously reported electropolymerized films of a related diruthenium complex with the same bridging ligand.In addition,the X-ray photoelectron spectroscopy,scanning electron microscopy,and electron transfer mechanism of these films have been investigated. 展开更多
关键词 ELECTROCHROMISM diruthenium complexes multilayer films metal oxides layer-by-layer assembly
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激光化学气相沉积法制备多层氧化铈缓冲层薄膜 被引量:4
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作者 陈志杰 潘天宇 +1 位作者 徐源来 赵培 《武汉工程大学学报》 CAS 2022年第1期42-47,共6页
为了增强第二代高温超导薄膜的载流性能,通过激光化学气相沉积法在镀有LaMnO_(3)/MgO/Gd_(2)Zr_(2)O_(7)复合涂层的哈氏C276合金基板上制备了2、3、4、5和6层氧化铈缓冲层薄膜。研究了氧化铈薄膜层数对薄膜相组成、结晶度、薄膜微观形... 为了增强第二代高温超导薄膜的载流性能,通过激光化学气相沉积法在镀有LaMnO_(3)/MgO/Gd_(2)Zr_(2)O_(7)复合涂层的哈氏C276合金基板上制备了2、3、4、5和6层氧化铈缓冲层薄膜。研究了氧化铈薄膜层数对薄膜相组成、结晶度、薄膜微观形貌和晶粒尺寸的影响。实验结果表明,制备出了单相(100)氧化铈薄膜。随着薄膜层数的增加,其面内取向变好。薄膜结晶度在2层时最低,在5层时最高。随着氧化铈薄膜层数从2层增加到6层,氧化铈薄膜的平均晶粒尺寸从28.98 nm增加到86.10 nm。氧化铈晶粒形状从大部分正方金字塔形变为相互正交的矩形棱台形并且晶粒间出现10~50 nm的孔洞。通过引入激光加速前驱体分解,2层氧化铈薄膜的厚度达到136 nm,薄膜沉积速率高达2.45μm·h^(-1)。 展开更多
关键词 氧化铈缓冲层薄膜 激光化学气相沉积 晶粒尺寸 多层薄膜
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