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“微电子工艺基础”教学的应用能力培养 被引量:6
1
作者 王红航 张华斌 +3 位作者 罗仁泽 陈卉 文毅 胡云峰 《电气电子教学学报》 2009年第2期117-118,共2页
独立学院应用型人才培养模式在我国教育的研究还是空白。笔者根据电子科学与技术专业应用型人才培养模式要求,结合多年的教学实践,在"微电子工艺基础"课程教学内容、教学方式和考核方式等方面进行了探索,提出了将教师的任务... 独立学院应用型人才培养模式在我国教育的研究还是空白。笔者根据电子科学与技术专业应用型人才培养模式要求,结合多年的教学实践,在"微电子工艺基础"课程教学内容、教学方式和考核方式等方面进行了探索,提出了将教师的任务驱动式教学与学生的自主式学习相结合、同时辅以必要的实验实践环节为特色的教学方法。实践证明,这种该方法对培养合格的微电子应用型人才是有效的。 展开更多
关键词 应用型人才培养 微电子工艺
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我国超净高纯试剂的应用与发展 被引量:6
2
作者 徐英伟 《微处理机》 2010年第3期1-5,共5页
超净高纯试剂是微电子技术发展过程中不可缺少的关键基础化工材料之一,一代微细加工技术需要一代超净高纯试剂与之配套。简要介绍了国内外微电子技术中集成电路、分立器件和液晶显示器件等制作技术的现状及发展趋势,介绍了超净高纯试剂... 超净高纯试剂是微电子技术发展过程中不可缺少的关键基础化工材料之一,一代微细加工技术需要一代超净高纯试剂与之配套。简要介绍了国内外微电子技术中集成电路、分立器件和液晶显示器件等制作技术的现状及发展趋势,介绍了超净高纯试剂在微电子技术发展过程中的几种主要应用及关键品种,阐述了国内外超净高纯试剂的现状及发展趋势,指出了我国超净高纯试剂的技术与产业化等方面与国外存在的主要差距和主要问题,最后指出了我国近期超净高纯试剂的产业化和研发的主要方向。 展开更多
关键词 微电子技术 超净高纯试剂 应用 发展
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基于CDIO工程教育理念的微电子工艺课程建设 被引量:5
3
作者 陈祝 王天宝 聂海 《实验室科学》 2012年第1期32-34,共3页
课程建设与改革是提高本科教学质量与人才培养的的关键,CDIO是目前高等工程教育的一种新型教育模式,本文结合CDIO人才培养理念,针对微电子工艺课程的特点,从课程建设思想、教学内容与方法、创新能力培养,多方位构建教学与实践平台、多... 课程建设与改革是提高本科教学质量与人才培养的的关键,CDIO是目前高等工程教育的一种新型教育模式,本文结合CDIO人才培养理念,针对微电子工艺课程的特点,从课程建设思想、教学内容与方法、创新能力培养,多方位构建教学与实践平台、多元化的过程考核方式等方面的具体改革措施,探索了微电子工艺课程建设和教学改革,且这些改革措施的应用已初见成效。 展开更多
关键词 CDIO 微电子工艺 课程建设
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直写ASIC技术的新发展 被引量:3
4
作者 万达 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 1999年第3期161-163,168,共4页
采用直写ASIC技术能缩短产品的研制周期,降低研制成本,无风险地进行批量生产,加快ASIC投放市场的速度。分析了直写ASIC技术的特点,介绍了激光直写机的原理,展望了此项技术的应用前景。
关键词 ASIC 半导体工艺 激光直写技术
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A multivariate process capability index model system
5
作者 王少熙 王党辉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期116-122,共7页
This paper presents a systematic multivariate process capability index (MPCI) method, which may provide references for assuring and improving process quality levels while achieving an overall evaluation of process q... This paper presents a systematic multivariate process capability index (MPCI) method, which may provide references for assuring and improving process quality levels while achieving an overall evaluation of process quality. The system method includes a spatial MPCI model for multivariate normal distribution data, MPCI model based on factor weight for multivariate no-normal distribution application, and MPCI model based on yield foryield application. At last, examples for calculating MPCI are given, and the experimental results show that this systematic method is effective and practical. 展开更多
关键词 microelectronics process MULTIVARIATE process capability index YIELD factor weight
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纯水基溶胶-凝胶法制备HfO_2纳米超薄膜 被引量:2
6
作者 李清 郭春霞 +2 位作者 周大雨 曲德舜 梁海龙 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第16期16111-16115,共5页
微电子工业的发展提出了不断提高集成电路芯片上多种器件电容密度的迫切需求,因此开展厚度<10nm超薄HfO2高-k电介质薄膜的可控制备技术研究具有重要意义。以氯氧化铪、硝酸和双氧水为主要试剂配制了纯水基溶胶前驱体,使用去离子水对... 微电子工业的发展提出了不断提高集成电路芯片上多种器件电容密度的迫切需求,因此开展厚度<10nm超薄HfO2高-k电介质薄膜的可控制备技术研究具有重要意义。以氯氧化铪、硝酸和双氧水为主要试剂配制了纯水基溶胶前驱体,使用去离子水对溶胶进行适当稀释后,采用旋涂法在经等离子体清洗的硅基片上制备HfO2薄膜。以XRR、AFM以及XPS为主要手段对薄膜样品的厚度、表面形貌以及化学成分进行了分析,结果表明这种新颖的溶胶-凝胶技术可将薄膜的沉积速率控制在每旋涂周期1nm以下,薄膜表面平整致密,成分符合化学计量比。 展开更多
关键词 纯水基 溶胶-凝胶 HFO2 纳米薄膜
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微电子工艺教学实验室建设的探索与实践 被引量:1
7
作者 黄展云 陈晖 +1 位作者 谢德英 陈弟虎 《实验室科学》 2021年第6期126-129,共4页
为适应微电子产业的高速发展,高校的微电子工艺教学实验室的建设和实验教学对专业人才的培养发挥着极其重要的作用。介绍了微电子工艺教学实验室建设的目标和设想,详细阐述了实验室的建设规划、建设内容和内涵建设。微电子工艺教学实验... 为适应微电子产业的高速发展,高校的微电子工艺教学实验室的建设和实验教学对专业人才的培养发挥着极其重要的作用。介绍了微电子工艺教学实验室建设的目标和设想,详细阐述了实验室的建设规划、建设内容和内涵建设。微电子工艺教学实验室的建设完善了中山大学电子与信息工程学院微电子专业的实验教学体系,为开设微加工实验课程提供了教学平台,将理论与实践紧密结合,有利于提高学生的实践能力和创新能力。 展开更多
关键词 微电子工艺 教学实验室 实验室建设 内涵建设
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三维微电子学综述 被引量:7
8
作者 李文石 钱敏 黄秋萍 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2004年第3期227-230,共4页
 三维微电子学主要研究三维集成电路的设计与制造。文章讨论了三维集成电路的概念、发明思想、结构、优点、制造及其挑战和应用等。三维微电子技术必将成为未来发展的新兴技术。
关键词 三维微电子学 三维集成电路 集成电路工艺
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ZnO薄膜的制备和结构性能分析 被引量:5
9
作者 贺永宁 朱长纯 +4 位作者 侯洵 张景文 杨晓东 徐庆安 曾凡光 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期420-423,共4页
ZnO作为一种宽带隙半导体材料 ,近几年来已经成为国际上紫外半导体光电子材料和器件领域的研究热点。激光分子束外延 (L MBE)系统是获得器件级ZnO外延薄膜的先进技术之一。高质量精密ZnO陶瓷靶材对于该工艺的实施是十分关键的 ,本文中... ZnO作为一种宽带隙半导体材料 ,近几年来已经成为国际上紫外半导体光电子材料和器件领域的研究热点。激光分子束外延 (L MBE)系统是获得器件级ZnO外延薄膜的先进技术之一。高质量精密ZnO陶瓷靶材对于该工艺的实施是十分关键的 ,本文中采用高纯原料 ,在洁净条件下制备了大面积、薄片型、尺寸可控的符合理想化学配比的高纯ZnO陶瓷靶材。采用所制备的靶材 ,利用L MBE技术在 (0 0 0 1)蓝宝石基片上进行了ZnO薄膜的外延生长 ,在 2 80℃~ 30 0℃低温条件下所生长的薄膜样品具有 (0 0 0 1)取向的纤锌矿晶体结构 ,薄膜光学性能良好 ,论文中对ZnO薄膜的低温L MBE生长机理进行了探讨。 展开更多
关键词 MBE ZnO陶瓷 ZNO薄膜 宽带隙半导体材料 光电子材料 器件 蓝宝石基片 可控 薄膜光学 外延薄膜
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激光技术在微电子工艺中的应用 被引量:2
10
作者 荣烈润 《机电一体化》 2002年第6期12-15,共4页
本文介绍了国外在微电子工艺中以激光技术进行激光退火、激光划片、激光焊接、激光微凋、激光制造集成电路及其检验等应用的状况。
关键词 微电子工艺 激光退火 激光划片 激光焊接 激光微调 激光制造集成电路 激光检验
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专创融合背景下《微电子工艺设计实践》课程教学改革研究
11
作者 张颖 宋文斌 +2 位作者 张永锋 王慧慧 黄君 《中国集成电路》 2024年第11期16-22,30,共8页
在当前的教育背景下,特别是在专业与创新创业教育(专创)的融合趋势中,《微电子工艺设计实践》课程的教学改革显得尤为重要。针对微电子教学的高成本、安全性和污染问题,我们提出了“虚实结合、校企联动”的创新教学平台,基于校企合作真... 在当前的教育背景下,特别是在专业与创新创业教育(专创)的融合趋势中,《微电子工艺设计实践》课程的教学改革显得尤为重要。针对微电子教学的高成本、安全性和污染问题,我们提出了“虚实结合、校企联动”的创新教学平台,基于校企合作真实平台、设计流程、真实项目,运用创新创业方法将《微电子工艺设计实践》课程从教学内容、教学资源、教学方法、考核评价、第二课堂竞赛孵化等方面进行专创融合的探索与建设,以沉浸式和阶梯化教学法提升学生的实践能力和创新思维。其中,改革的核心在于“虚实结合、校企联动”,即通过与企业的紧密合作,引入真实的工业案例和设计流程,运用创新实践平台将专业知识融入到创新实践中。在此过程中,课程还特别强调创新思维的培养,将前苏联科学家阿奇舒勒(G.S.Altshuller)在1946年创立的TRIZ(发明问题解决理论)的创新方法运用到实际教学中,通过案例教学和项目实践,培养学生的综合分析能力和创业精神。改革后的教学模式有效提升了学生的学习积极性和创新能力,也使得课程内容和教学方法更加贴近产业实际需求,通过实践的学习效果评价和企业反馈,证明了教学改革的有效性。此改革模式也为微电子及其他工程技术教育提供了有益的实践指导和理论支持。 展开更多
关键词 专创融合教学 实践教学改革 微电子工艺设计 虚实结合教学 校企联动
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镀钯铜线的制作工艺及性能研究 被引量:2
12
作者 丁雨田 孔亚南 +2 位作者 曹军 胡勇 孙钢 《铸造技术》 CAS 北大核心 2013年第2期142-145,共4页
用扫描电镜观察了直接镀钯铜线和电镀钯铜线的表面形貌,并对直接镀钯铜线的性能进行了研究。结果表明,直接镀钯技术优于电镀钯技术。直接镀钯铜线具有高的伸长率和破断力、好的表面质量、致密的镀层、高的电信号传输性能。
关键词 微电子封装 直接镀钯技术 直接镀钯铜线 制作工艺 性能
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《微电子工艺及器件仿真》课程教学方法研究 被引量:2
13
作者 刘兴辉 康大为 《教育教学论坛》 2017年第1期215-217,共3页
《微电子工艺及器件仿真》是在创新人才培养质量的背景下,为增强微电子专业本科生的创新精神和实践能力而开设的一门专业课,课程的知识结构、培养目标与行业需求紧密对接。针对课程综合性、系统性和应用性强、学生不易掌握的特点,采用... 《微电子工艺及器件仿真》是在创新人才培养质量的背景下,为增强微电子专业本科生的创新精神和实践能力而开设的一门专业课,课程的知识结构、培养目标与行业需求紧密对接。针对课程综合性、系统性和应用性强、学生不易掌握的特点,采用精讲多练的授课模式:在讲授环节,教师对仿真文件中的仿真规则、关键语句、物理模型及需要采用的处理方法进行重点阐述,同时使用案例式教学法,便于学生掌握仿真要领;在练习环节,借助于翻转课堂模式和提供开放实验室,增强学生自主学习能力并训练修正反馈、举一反三等多维能力,取得了很好的效果。 展开更多
关键词 工艺及器件仿真 案例教学 翻转课堂 修正反馈
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微电子工艺模拟及器件分析的CA方法研究进展 被引量:1
14
作者 周再发 黄庆安 李伟华 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2005年第6期618-623,630,共7页
综述了用于微电子工艺模拟和器件分析的元胞自动机(CA)方法的研究进展,分析了现有CA方法的优势,并比较了CA方法与其它方法的优缺点。在此基础上,展望了微电子工艺模拟及器件分析的CA方法的发展前景。对研究采用CA方法模拟微电子加工工... 综述了用于微电子工艺模拟和器件分析的元胞自动机(CA)方法的研究进展,分析了现有CA方法的优势,并比较了CA方法与其它方法的优缺点。在此基础上,展望了微电子工艺模拟及器件分析的CA方法的发展前景。对研究采用CA方法模拟微电子加工工艺和进行微电子器件分析具有参考意义。 展开更多
关键词 元胞自动机 微电子 工艺模拟 器件分析 电子器件
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基于层次分析法的微电子产品封装可靠性能模糊综合评判
15
作者 姜宏阳 王斌 李梦奇 《湖南农机(学术版)》 2013年第6期46-48,共3页
在微电子产品设计阶段,若使用层次法分析微电子产品各项性能,就可以保证在设计阶段优化产品设计和材料选择,改善工艺,从而减少可能的失效。文章通过对微软公司某款微电子产品封装可靠性的模糊评价发现,该电子产品的可靠性各项指标及综... 在微电子产品设计阶段,若使用层次法分析微电子产品各项性能,就可以保证在设计阶段优化产品设计和材料选择,改善工艺,从而减少可能的失效。文章通过对微软公司某款微电子产品封装可靠性的模糊评价发现,该电子产品的可靠性各项指标及综合性能都很好,并且从二级指标的评价中还看出机械可靠性虽然很好,但隶属度偏低,如果要优化该产品的封装可靠性可以从机械可靠性方面入手。文章首次将为层次模糊评价法应用在微电子封装领域,为封装设计提供理论基础和参考。 展开更多
关键词 微电子产品 封装 可靠性 层次分析法
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标准CMOS工艺低压栅控硅发光器件设计与制备
16
作者 吴克军 李则鹏 +4 位作者 张宁 朱坤峰 易波 赵建明 徐开凯 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第5期1013-1018,共6页
本文采用0.18μm标准CMOS工艺设计并制备了一种MOS结构的低压栅控硅基发光器件.该光源器件内部采用n^(+)-p^(+)-p^(+)-n^(+)-p^(+)-p^(+)-n^(+)的叉指结构,在相邻两个p^(+)有源区之间覆盖多晶硅栅作为第三端控制电极,用于在源/漏区边缘... 本文采用0.18μm标准CMOS工艺设计并制备了一种MOS结构的低压栅控硅基发光器件.该光源器件内部采用n^(+)-p^(+)-p^(+)-n^(+)-p^(+)-p^(+)-n^(+)的叉指结构,在相邻两个p^(+)有源区之间覆盖多晶硅栅作为第三端控制电极,用于在源/漏区边缘形成场诱导结,降低p^(+)/n-well结的反向击穿电压,提高器件发光功率.测试结果表明,该光源器件可以发射420nm~780nm的黄色可见光,在3V的正向栅压下,p^(+)/n-well发光二极管的反向击穿电压下降到3V以下,光输出功率提高至2倍以上.本文设计的光源器件工作电压较低,并且与CMOS工艺完全兼容,可以与其他CMOS电路共用电源并且实现单片集成,在硅基光电子集成领域具有一定的应用价值. 展开更多
关键词 微电子 硅基发光二极管 标准CMOS工艺 光电集成
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运用混合式立体化教学模式培养应用型创新人才——《微电子工艺》课程教学的改革与实践 被引量:25
17
作者 张瑞 姚凌江 吴向文 《现代教育技术》 CSSCI 2010年第1期77-81,共5页
文章以培养应用型创新人才为目标,在探讨了当前《微电子工艺》课程教学中存在的问题与难点的基础上,以松绑教育与整合教学两种理论为指导,提出了"混合式立体化"教学模式,并进行了相应的教学实践及探索,最后对其实践效果进行... 文章以培养应用型创新人才为目标,在探讨了当前《微电子工艺》课程教学中存在的问题与难点的基础上,以松绑教育与整合教学两种理论为指导,提出了"混合式立体化"教学模式,并进行了相应的教学实践及探索,最后对其实践效果进行了调查分析。该模式的运用对全面改革《工艺》课程教学有着重要的理论与实践意义。 展开更多
关键词 微电子工艺 应用型创新人才 混合式立体化教学 教学模式
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《微电子工艺》的理论教学与学生实践能力培养 被引量:10
18
作者 罗小蓉 张波 李肇基 《实验科学与技术》 2007年第1期77-79,共3页
就《微电子工艺》课程的理论与实验教学进行了探讨。结合笔者的教学实践,介绍了《微电子工艺》课程教学内容的选取、教学方式的改革与探索,强调了将教师的理论教学、实验教学与学生的自主学习相结合的教学方式,以激发学生的学习兴趣,培... 就《微电子工艺》课程的理论与实验教学进行了探讨。结合笔者的教学实践,介绍了《微电子工艺》课程教学内容的选取、教学方式的改革与探索,强调了将教师的理论教学、实验教学与学生的自主学习相结合的教学方式,以激发学生的学习兴趣,培养动手能力,提高教学效果。 展开更多
关键词 微电子工艺 教学方法 实验 能力
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激光直写系统制作掩模和器件的工艺 被引量:4
19
作者 侯德胜 冯伯儒 +2 位作者 张锦 杜春雷 邱传凯 《微细加工技术》 EI 1999年第1期55-61,共7页
激光直写系统是国际上90年代制作集成电路光刻掩模版的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室从加拿大引进了国内第一台激光直写系统。利用这台系统,通过高精度激光束在光致抗蚀剂上扫描曝光,将设计图形直接转移到掩模或硅... 激光直写系统是国际上90年代制作集成电路光刻掩模版的新型专用设备。微细加工光学技术国家重点实验室从加拿大引进了国内第一台激光直写系统。利用这台系统,通过高精度激光束在光致抗蚀剂上扫描曝光,将设计图形直接转移到掩模或硅片上。激光直写系统的应用,可以分成一次曝光制作光刻掩模和多次套刻曝光制作器件两个方面。介绍使用激光直写系统制作光刻掩模和套刻器件的具体工艺。 展开更多
关键词 激光直写 光刻掩模 半导体器件 微电子工艺
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微电子工艺多媒体教学系统的设计 被引量:3
20
作者 曹一江 翟志芳 +2 位作者 殷景华 王东兴 宋明歆 《哈尔滨工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第8期1362-1365,共4页
为改进传统的教学方式,用信息化时代的新技术、新手段来提高教学水平和教学质量,介绍微电子工艺计算机辅助教学(CAI)系统设计及开发过程.系统主框架采用Borland公司的Delph i软件开发,同时也使用了F lash、Photoshop、F ireworks等辅助... 为改进传统的教学方式,用信息化时代的新技术、新手段来提高教学水平和教学质量,介绍微电子工艺计算机辅助教学(CAI)系统设计及开发过程.系统主框架采用Borland公司的Delph i软件开发,同时也使用了F lash、Photoshop、F ireworks等辅助工具. 展开更多
关键词 多媒体 计算机辅助教学 微电子工艺 课件 DELPHI
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