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Simultaneous additive and subtractive three-dimensional nanofabrication using integrated two-photon polymerization and multiphoton ablation 被引量:12
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作者 Wei Xiong Yun Shen Zhou +5 位作者 Xiang Nan He Yang Gao Masoud Mahjouri-Samani Lan Jiang Tommaso Baldacchini Yong Feng Lu 《Light(Science & Applications)》 SCIE EI CAS 2012年第1期123-126,共4页
Modern three-dimensional nanofabrication requires both additive and subtractive processes.However,both processes are largely isolated and generally regarded as incompatible with each other.In this study,we developed s... Modern three-dimensional nanofabrication requires both additive and subtractive processes.However,both processes are largely isolated and generally regarded as incompatible with each other.In this study,we developed simultaneous additive and subtractive fabrication processes using two-photon polymerization followed by femtosecond(fs)laser multiphoton ablation.To demonstrate the new capability,submicrometer polymer fibers containing periodic holes of 500-nm diameter and microfluidic channels of 1-mm diameter were successfully fabricated.This method combining both two-photon polymerization and fs laser ablation improves the nanofabrication efficiency and enables the fabrication of complex three-dimensional micro-/nanostructures,promising for a wide range of applications in integrated optics,microfluidics and microelectromechanical systems. 展开更多
关键词 femtosecond laser direct writing femtosecond laser multiphoton ablation micro-/nanofabrication two-photon polymerization
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高速并行双光子激光直写光刻系统 被引量:11
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作者 王洪庆 温积森 +10 位作者 杨臻垚 汤孟博 孙秋媛 马程鹏 王子昂 詹兰馨 张晓依 曹春 沈小明 丁晨良 匡翠方 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第22期115-122,共8页
双光子激光直写技术以其高精度、高灵活性的特点在科研领域被广泛应用,但较低的直写速度制约了其在工业领域的应用与发展。本团队基于转镜扫描系统设计并验证了一套高速双光子激光直写光刻系统,该系统基于空间光调制器与多通道声光调制... 双光子激光直写技术以其高精度、高灵活性的特点在科研领域被广泛应用,但较低的直写速度制约了其在工业领域的应用与发展。本团队基于转镜扫描系统设计并验证了一套高速双光子激光直写光刻系统,该系统基于空间光调制器与多通道声光调制器的联合调控,实现了六通道并行刻写功能,且每个通道可独立调控,调控频率可达MHz以上。实验结果表明,每通道直写速度最高可达7.770 m/s,刻写特征尺度最小为150 nm,并行刻写时的最高直写速度可达46.62 m/s。此外,本团队基于反射式像旋转器设计了一种高精度调节通道间距的方法,调节精度优于1 nm。 展开更多
关键词 光学制造 微纳加工 双光子激光直写 多光束并行制造
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先进微制造力学 被引量:6
3
作者 刘泽 《固体力学学报》 CAS CSCD 北大核心 2018年第3期223-247,共25页
元器件小型化带来了功耗低、响应快、比容量大等显著优点,但同时也带来了新的技术挑战和科学问题,需要对微纳尺度下材料的机械物理性能及制造工艺进行深入研究.论文围绕先进微纳米制造技术与微纳米力学的密切关系,首先综述了聚焦离... 元器件小型化带来了功耗低、响应快、比容量大等显著优点,但同时也带来了新的技术挑战和科学问题,需要对微纳尺度下材料的机械物理性能及制造工艺进行深入研究.论文围绕先进微纳米制造技术与微纳米力学的密切关系,首先综述了聚焦离子束、纳米压印、3D打印等微纳米材料与结构的先进制造技术,并着重阐述了先进微纳米制造技术在力学前沿课题研究中的重要作用;另一方面,从方法与原理的角度阐述了力学思想和方法对先进微纳米制造技术的指导与促进作用.最后,还对目前一些先进微纳米制造技术及相关前沿力学问题进行了展望. 展开更多
关键词 微纳制造 微纳米力学 3D打印 纳米压印 超塑性 人工结构力学
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原子光刻 被引量:5
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作者 巨新 WANG Zhong-Ping 《物理》 CAS 北大核心 2009年第1期1-10,共10页
与光子和电子不同,原子的激发亚稳态具有方便操作的内能态结构,这使利用内能态的光学淬灭原理实现光刻技术成为现实.基于原子光学的中性原子束光刻技术是下一代光刻技术(the next generation lithography,NGL)的一种,它可分两种途径实现... 与光子和电子不同,原子的激发亚稳态具有方便操作的内能态结构,这使利用内能态的光学淬灭原理实现光刻技术成为现实.基于原子光学的中性原子束光刻技术是下一代光刻技术(the next generation lithography,NGL)的一种,它可分两种途径实现:激光驻波原子直沉积技术和亚稳态中性原子光刻技术.前者可以实现图案的纳米尺度特征、大面积平行沉积和高分辨率;后者结合有效的抗蚀剂,同样可以实现纳米图形制造,在基板上获得的尖锐边缘分辨率目前可达40nm.两种途径的原理相差甚远,但最终获得的结果相似. 展开更多
关键词 原子光刻 原子光学 微纳米制造
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贺信精神引领下微纳加工技术课课程思政教学改革与实践
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作者 王晨曦 刘威 +3 位作者 张威 原小慧 闫寒 田艳红 《高教学刊》 2024年第30期61-64,共4页
微纳加工技术课程的教学内容与我国当前所面临的高端芯片制造“卡脖子”技术密切相连。2020年以来该课程将习近平总书记贺信精神融入课程思政教学设计,通过寓德于教、寓哲于教、寓念于教和寓新于教的“四位一体”方式,引导学生树立坚定... 微纳加工技术课程的教学内容与我国当前所面临的高端芯片制造“卡脖子”技术密切相连。2020年以来该课程将习近平总书记贺信精神融入课程思政教学设计,通过寓德于教、寓哲于教、寓念于教和寓新于教的“四位一体”方式,引导学生树立坚定理想信念,厚植爱国主义情怀,提升品德修养,激发远大志向。该文列举多个典型案例,经过教学改革基本实现知识传授、价值引领和情怀根植三方面的有机统一,期待该教学设计及经验分享为全国各高校电子封装专业的课程思政教学改革提供借鉴。 展开更多
关键词 贺信精神 课程思政 微纳加工 芯片制造 教学改革
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内核/壳层微结构上应力诱导点阵花样研究 被引量:1
6
作者 高磊 纪爱玲 +1 位作者 李超荣 曹则贤 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期849-860,共12页
力学性能失配较大的多层结构自高温状态冷却收缩时会积聚很大的应力,其应力失稳模式可表现为多种有序的应力花样,可用于微纳米结构的自组装,其中支撑面的几何结构对其上的应力分布点阵具有决定性的影响.本文介绍了在球形和圆盘形内核/... 力学性能失配较大的多层结构自高温状态冷却收缩时会积聚很大的应力,其应力失稳模式可表现为多种有序的应力花样,可用于微纳米结构的自组装,其中支撑面的几何结构对其上的应力分布点阵具有决定性的影响.本文介绍了在球形和圆盘形内核/壳层上通过应力工程形成的三角铺排和菲波纳契螺旋花样,探讨了以相互排斥粒子的最小能量构型为模型的特征应力花样与其支撑结构的几何之间关系的普适性,并将此模型用于解释自然界中花叶序的多样性与特征不变性. 展开更多
关键词 应力工程 三角铺排 菲波纳契螺旋 拓扑 花叶序 微纳米制造
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矢量光共焦扫描显微系统纳米标准样品的制备与物理测量精度
7
作者 李潇男 关国荣 +3 位作者 刘忆琨 梁浩文 张爱琴 周建英 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2019年第14期358-366,共9页
针对超分辨领域分辨率测量标准的缺失情况,本文介绍了一种用于纳米尺度分辨率测试的标准样品的设计方案和制备方法,该样品适用于矢量光共聚焦激光扫描显微系统.该设计方案包含一系列测量图案和明确的指示标记,具有测量范围宽、线宽梯级... 针对超分辨领域分辨率测量标准的缺失情况,本文介绍了一种用于纳米尺度分辨率测试的标准样品的设计方案和制备方法,该样品适用于矢量光共聚焦激光扫描显微系统.该设计方案包含一系列测量图案和明确的指示标记,具有测量范围宽、线宽梯级序列分布合理、制备精度高等特点.首先在非晶硅片上实现硅纳米标准样品的制备,并经过多次探索工艺,提高了测试图案的精度.光学测试结果证实该纳米标样可用于分辨率测试,同时测得矢量光共聚焦激光扫描显微镜的分辨率为96 nm(n=1.52,405 nm光源).针对硅纳米标准样品低对比度的问题,本文提供石英片上金属纳米标准样品的制备方法作为补充.纳米标准样品的实现,为点扫描式超分辨显微镜的分辨率指标提供了一种更严谨的测试途径,同时能够为显微镜的调试提供原理性指导.测试中发现纳米尺度的光学成像效果除了受到样品形貌的影响外,还受到到样品的光电物性的影响,其相互作用机理尚待进一步深入研究. 展开更多
关键词 微纳加工 标准样品 超分辨 共聚焦激光扫描显微镜
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微纳米加工技术及其应用综述 被引量:20
8
作者 崔铮 《物理》 CAS 北大核心 2006年第1期34-39,共6页
材料与结构在微纳米尺度展现了许多不同于宏观尺度的新特征,纳米技术已经成为当前科学研究与工业开发的热门领域之一.微小型化依赖于微纳米尺度的功能结构与器件,实现功能结构微纳米化的基础是先进的微纳米加工技术.文章对微纳米加工技... 材料与结构在微纳米尺度展现了许多不同于宏观尺度的新特征,纳米技术已经成为当前科学研究与工业开发的热门领域之一.微小型化依赖于微纳米尺度的功能结构与器件,实现功能结构微纳米化的基础是先进的微纳米加工技术.文章对微纳米加工技术做了一个综合的介绍,简要说明了微纳米加工技术与传统加工技术的区别.在微纳米加工技术的应用方面提出了一些合理选择加工技术的原则,并对当前微纳米加工技术面临的挑战和今后发展的趋势作了预测. 展开更多
关键词 微纳米技术 微纳米加工 微系统技术 微小型化
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Laser-based micro/nanofabrication in one, two and three dimensions 被引量:6
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作者 Wei XIONG Yunshen ZHOU +9 位作者 Wenjia HOU Lijia JIANG Masoud MAHJOURI-SAMANI Jongbok PARK Xiangnan HE Yang GAO Lisha FAN Tommaso BALDACCHINI Jean-Francois SILVAIN Yongfeng LU 《Frontiers of Optoelectronics》 CSCD 2015年第4期351-378,共28页
Advanced micro/nanofabrication of functional materials and structures with various dimensions represents a key research topic in modem nanoscience and technology and becomes critically important for numerous emerging ... Advanced micro/nanofabrication of functional materials and structures with various dimensions represents a key research topic in modem nanoscience and technology and becomes critically important for numerous emerging technologies such as nanoelectronics, nanopho- tonics and micro/nanoelectromechanical systems. This review systematically explores the non-conventional material processing approaches in fabricating nanomaterials and micro/nanostructures of various dimensions which are challenging to be fabricated via conventional approaches. Research efforts are focused on laser-based techniques for the growth and fabrication of one-dimensional (1D), two-dimensional (2D) and three-dimensional (3D) nanomaterials and micro/nanostructures. The following research topics are covered, including: 1) laser-assisted chemical vapor deposition (CVD) for highly efficient growth and integration of 1D nanomaterial of carbon nanotubes (CNTs), 2) laser direct writing (LDW) of graphene ribbons under ambient conditions, and 3) LDW of 3D micro/nanostructures via additive and subtractive processes. Comparing with the conventional fabrication methods, the laser-based methods exhibit several unique advantages in the micro/nanofabrication of advanced functional materials and structures. For the 1D CNT growth, the laser-assisted CVD process can realize both rapid material synthesis and tight control of growth location and orientation of CNTs due to the highly intense energy delivery and laser-induced optical near-field effects. For the 2D graphene synthesis and patterning, roomtemperature and open-air fabrication of large-scale graphene patterns on dielectric surface has been successfully realized by a LDW process. For the 3D micro/nanofabrica- tion, the combination of additive two-photon polymeriza- tion (TPP) and subtractive multi-photon ablation (MPA) processes enables the fabrication of arbitrary complex 3D micro/nanostructures which tional fabrication methods are challenging for conven- Consideri 展开更多
关键词 micro/nanofabrication laser material interac-tion carbon nanotubes (CNTs) graphene two-photonpolymerization (TPP) multi-photon ablation (MPA)
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近红外大数值孔径平场显微物镜设计 被引量:6
10
作者 周恩源 刘丽辉 +1 位作者 刘岩 曹振 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2017年第7期180-186,共7页
为满足飞秒激光微纳加工系统对高加工精度和大加工范围的需求,首先确定了该系统的重要组成部分-无限共轭距显微物镜所需具备的特性及设计指标。依据薄透镜组的初级像差理论,针对飞秒激光波长推导出光学系统为校正匹兹凡场曲和二级光谱... 为满足飞秒激光微纳加工系统对高加工精度和大加工范围的需求,首先确定了该系统的重要组成部分-无限共轭距显微物镜所需具备的特性及设计指标。依据薄透镜组的初级像差理论,针对飞秒激光波长推导出光学系统为校正匹兹凡场曲和二级光谱所需满足的条件。该镜头由11片球面透镜构成,所选用材料皆为国产玻璃,同时避免三胶合结构的使用。设计了一套工作波长为785~815 nm,数值孔径为0.9,像方视场为22.5 mm,放大倍率为40×的近红外平场复消色差显微物镜。设计结果表明:该镜头的MTF良好,全视场波像差均小于0.08λ,各种几何像差均远小于公差且满足平场和复消色差条件,能量集中度高。使用补偿器放松材料公差、加工公差和装调公差,公差分配后全视场RMS波像差小于0.09λ,满足实际应用要求。 展开更多
关键词 光学设计 显微物镜 平场 飞秒激光 微纳加工
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微纳米加工技术在纳米物理与器件研究中的应用 被引量:3
11
作者 顾长志 罗强 +9 位作者 杨海方 金爱子 李俊杰 王宗利 王强 徐鹏 全保刚 岳双林 黄阳 时成瑛 《物理》 CAS 北大核心 2006年第1期40-46,共7页
物质在纳米尺度下可能呈现出与体材料不同的物理特性,这正是纳米科技发展的基础之一.要想探索在纳米尺度下材料物理性质的变化规律及可能的应用领域,离不开相应的技术手段.微纳米加工技术作为当今高技术发展的重要技术领域之一,是实现... 物质在纳米尺度下可能呈现出与体材料不同的物理特性,这正是纳米科技发展的基础之一.要想探索在纳米尺度下材料物理性质的变化规律及可能的应用领域,离不开相应的技术手段.微纳米加工技术作为当今高技术发展的重要技术领域之一,是实现功能人工纳米结构与器件微纳米化的基础.本文根据几个不同的应用领域,介绍了微纳米加工技术在纳米物理与器件研究领域的应用. 展开更多
关键词 微纳米加工技术 人工纳米结构 纳米物理与器件 物理特件
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飞秒激光调控晶体材料光学非线性的研究进展
12
作者 张彬 陈峰 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第17期234-249,共16页
非线性晶体是非线性光学领域中实现波长/频率转换的重要载体。通过周期性地调控非线性晶体的光学非线性,可以按需制备多种非线性光子晶体结构,从而实现特定波长激光高效频率转换和非线性光束整形等应用。飞秒激光直写技术具有精度高、... 非线性晶体是非线性光学领域中实现波长/频率转换的重要载体。通过周期性地调控非线性晶体的光学非线性,可以按需制备多种非线性光子晶体结构,从而实现特定波长激光高效频率转换和非线性光束整形等应用。飞秒激光直写技术具有精度高、速度快以及真三维加工等特点,在材料微纳加工领域得到了广泛的应用。用透镜或显微物镜将飞秒激光聚焦到非线性晶体内部,可以对激光焦点处的晶体非线性进行调控;通过设置并优化飞秒激光加工参数,能够实现特定三维非线性光子晶体的快速高效制备。本文从非线性晶体的光学非线性调控、飞秒激光直写技术出发,简要介绍了飞秒激光直写非线性光子晶体的最新研究进展,并对几个潜在的研究方向进行了展望。 展开更多
关键词 超快光学 微纳加工 飞秒激光直写 晶体材料 非线性频率转换
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金刚石色心调控及光学谐振器的研究进展
13
作者 杨良禾 刘金龙 +5 位作者 屠菊萍 郑宇亭 牟恋希 李灏 魏俊俊 李成明 《固体电子学研究与进展》 CAS 2024年第2期93-108,共16页
金刚石因其优异的光学特性和色心发射器而被应用于光子器件领域。光学谐振器是一种微纳米光学结构,基于有限模体积内的光-物质相互作用增强,能够将金刚石色心的发射与谐振器的增强效应相结合,有选择性地增强色心的发射,用于在光子电路... 金刚石因其优异的光学特性和色心发射器而被应用于光子器件领域。光学谐振器是一种微纳米光学结构,基于有限模体积内的光-物质相互作用增强,能够将金刚石色心的发射与谐振器的增强效应相结合,有选择性地增强色心的发射,用于在光子电路中提供稳定且强度充足的光学信号。近年来,金刚石微纳加工技术的发展推动了金刚石光学谐振器的研究和应用。本文总结了金刚石光学谐振器的研究现状,概述了金刚石的基本性质、合成与加工方法,介绍了金刚石色心的生成以及其与光学谐振器的耦合原理,梳理了三种不同类型的金刚石光学谐振器的研究进展,并对未来金刚石光学谐振器的发展进行了展望。 展开更多
关键词 金刚石 光学谐振器 色心 微纳加工 Purcell效应
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电化学扫描探针显微镜在表面微/纳米加工的应用 被引量:1
14
作者 汤儆 毛秉伟 田中群 《微纳电子技术》 CAS 2003年第7期192-196,共5页
概述了在固 /液界面微 /纳米加工中经常采用的三种电化学扫描探针显微镜 (EC SPM )技术 ,分别讨论了电化学扫描隧道显微镜 (EC STM )、电化学原子力显微镜 (EC AFM )和扫描电化学显微镜 (SECM )在应用于微 /纳米加工时的基本原理和各种... 概述了在固 /液界面微 /纳米加工中经常采用的三种电化学扫描探针显微镜 (EC SPM )技术 ,分别讨论了电化学扫描隧道显微镜 (EC STM )、电化学原子力显微镜 (EC AFM )和扫描电化学显微镜 (SECM )在应用于微 /纳米加工时的基本原理和各种方法 。 展开更多
关键词 电化学扫描探针显微镜 表面微加工 纳米加工 电化学 工作原理 针尖诱导法
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Localized in‑situ deposition:a new dimension to control in fabricating surface micro/nano structures via ultrafast laser ablation
15
作者 Peixun Fan Guochen Jiang +3 位作者 Xinyu Hu Lizhong Wang Hongjun Zhang Minlin Zhong 《Frontiers of Optoelectronics》 EI CSCD 2023年第4期49-59,共11页
Controllable fabrication of surface micro/nano structures is the key to realizing surface functionalization for various applications.As a versatile approach,ultrafast laser ablation has been widely studied for surface... Controllable fabrication of surface micro/nano structures is the key to realizing surface functionalization for various applications.As a versatile approach,ultrafast laser ablation has been widely studied for surface micro/nano structuring.Increasing research eforts in this feld have been devoted to gaining more control over the fabrication processes to meet the increasing need for creation of complex structures.In this paper,we focus on the in-situ deposition process following the plasma formation under ultrafast laser ablation.From an overview perspective,we frstly summarize the diferent roles that plasma plumes,from pulsed laser ablation of solids,play in diferent laser processing approaches.Then,the distinctive in-situ deposition process within surface micro/nano structuring is highlighted.Our experimental work demonstrated that the in-situ deposition during ultrafast laser surface structuring can be controlled as a localized micro-additive process to pile up secondary ordered structures,through which a unique kind of hierarchical structure with fort-like bodies sitting on top of micro cone arrays were fabricated as a showcase.The revealed laser-matter interaction mechanism can be inspiring for the development of new ultrafast laser fabrication approaches,adding a new dimension and more fexibility in controlling the fabrication of functional surface micro/nano structures. 展开更多
关键词 Ultrafast laser ablation Laser micro/nanofabrication Surface micro/nano structures In-situ deposition micro-additive fabrication
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I^2形原子力显微镜探针设计优化 被引量:2
16
作者 熊壮 屈明山 +1 位作者 张照云 杨荷 《传感器与微系统》 CSCD 2019年第3期96-98,101,共4页
针对基于微机电系统(MEMS)技术的I^2形原子力显微镜(AFM)探针与传统悬臂式探针相比,虽然有很多优点,但由于I^2形探针的压阻检测设计未考虑结构应变分布,导致检测灵敏度较悬臂式探针相比尚有一定差距的问题,通过对I^2形探针应变分布的考... 针对基于微机电系统(MEMS)技术的I^2形原子力显微镜(AFM)探针与传统悬臂式探针相比,虽然有很多优点,但由于I^2形探针的压阻检测设计未考虑结构应变分布,导致检测灵敏度较悬臂式探针相比尚有一定差距的问题,通过对I^2形探针应变分布的考察,实现了探针结构优化设计。实验结果表明:在相同结构,相同输入前提下,改进后探针的力灵敏度达到28. 9p N/Hz^(1/2),较原有基础上提高10倍。通过进一步对检测电路的优化,力灵敏度有望满足商用需求(小于10p N/Hz^(1/2))。 展开更多
关键词 原子力显微镜 微机电系统(MEMS)谐振器 热执行 压阻检测 微纳加工
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FIB/SEM双束系统在微纳加工与表征中的应用 被引量:2
17
作者 彭开武 《中国材料进展》 CAS CSCD 2013年第12期728-734,751,共8页
简要回顾了聚焦离子束/扫描电子显微镜双束系统在国家纳米科学中心的应用。围绕透射电镜样品制备、扫描电子显微镜与扫描离子显微镜、纳米材料的二维与三维表征等材料表征,以及离子束直接刻蚀加工如光子晶体阵列器件原型加工、材料沉积... 简要回顾了聚焦离子束/扫描电子显微镜双束系统在国家纳米科学中心的应用。围绕透射电镜样品制备、扫描电子显微镜与扫描离子显微镜、纳米材料的二维与三维表征等材料表征,以及离子束直接刻蚀加工如光子晶体阵列器件原型加工、材料沉积加工如用于电学性能测试的四电极制作、指定点加工如原子力显微镜针尖修饰、三维加工、电子束曝光及其与聚焦离子束联合加工等纳米结构加工两方面,以些具体实例分类进行了介绍。针对限制其应用的些不利因素,如加工效率低、面积小、精度不足、加工损伤等问题,些新技术如新型离子源Plasma、He+/Ne+离子等与现有Ga+聚焦离子束系统配合将成为未来发展方向。 展开更多
关键词 聚焦离子束 双束系统 纳米材料表征 纳米结构加工 电子束曝光 透射电镜样品制备
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提高石英表面聚焦离子束微纳直写精度的方法 被引量:1
18
作者 王伟 庞陈雷 +3 位作者 杨青 佘玄 吴兰 李强 《实验室研究与探索》 CAS 北大核心 2021年第9期61-65,共5页
针对聚焦离子束在绝缘材料表面直写微纳图形时因电荷积聚原因导致加工效果差的情况,将单晶硅湿法各向异性腐蚀工艺应用于单晶硅片表面制备倒金字塔形通孔,作为微窗硅基盖板覆盖于绝缘衬底表面。当聚焦离子束穿过通孔在非导电衬底表面进... 针对聚焦离子束在绝缘材料表面直写微纳图形时因电荷积聚原因导致加工效果差的情况,将单晶硅湿法各向异性腐蚀工艺应用于单晶硅片表面制备倒金字塔形通孔,作为微窗硅基盖板覆盖于绝缘衬底表面。当聚焦离子束穿过通孔在非导电衬底表面进行溅射刻蚀时,微窗硅基盖板的导电特性可提高溅射出的带电粒子的迁移率,降低电荷积聚-放电的频率,从而有助于聚焦离子束在绝缘衬底表面进行微纳加工。试验在具备高分辨率扫描电子显微镜成像和聚焦离子束微纳加工功能的双束系统中进行。试验结果显示被微窗硅基盖板的通孔环绕的石英表面的刻蚀结果与未被环绕的对比,刻蚀效果有显著改善,甚至部分刻蚀结果与单晶硅表面的刻蚀结果一致。 展开更多
关键词 微纳加工 聚焦离子束 绝缘电介质 微窗硅基盖板 倒金字塔通孔
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纳米等离子体激光器研究进展 被引量:1
19
作者 赵青 黄小平 +3 位作者 林恩 焦蛟 梁高峰 陈涛 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2017年第2期140-151,共12页
半导体激光器在生物技术、信息存储、光子医学诊疗等方面得到了广泛应用。随着纳米技术和纳米光子学的发展,紧凑微型化激光器应用前景引人关注。当激光器谐振腔尺寸减小到发射波长时,电磁谐振腔中将产生更为有趣的物理效应。因此,在发... 半导体激光器在生物技术、信息存储、光子医学诊疗等方面得到了广泛应用。随着纳米技术和纳米光子学的发展,紧凑微型化激光器应用前景引人关注。当激光器谐振腔尺寸减小到发射波长时,电磁谐振腔中将产生更为有趣的物理效应。因此,在发展低维、低泵浦阈值的超快相干光源,以及纳米光电集成和等离激元光路时,减小半导体激光器的三维尺寸至关重要。在本综述中,首先介绍了纳米等离子体激光器中的谐振腔模式增益和限制因子的总体理论,并综述了金属-绝缘材料-半导体纳米(MIS)结构或其它相关金属覆盖半导体结构的纳米等离子体激光器各方面的总体研究进展。特别地,对基于MIS结构的等离子体谐振腔实现纳米等离子体激光器三维衍射极限的突破,进行了详细的介绍。本文也介绍并展望了纳米等离子体激光器的技术挑战和发展趋势,为纳米激光器进一步研究提供参考。 展开更多
关键词 等离子体激光器 表面等离子体激元 微纳加工
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辐射冷却材料的制备方法综述
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作者 李振扬 王盼 +1 位作者 张海文 周涵 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第3期177-182,共6页
随着能源和环境问题的日益严重,不需要额外消耗能量的辐射冷却技术引起了广泛关注。基于地球和宇宙的巨大温差,辐射冷却技术能够直接将热量以辐射的形式传递到外太空,不仅能够产生净冷却效果,而且避免了废热排放带来的诸多环保问题。早... 随着能源和环境问题的日益严重,不需要额外消耗能量的辐射冷却技术引起了广泛关注。基于地球和宇宙的巨大温差,辐射冷却技术能够直接将热量以辐射的形式传递到外太空,不仅能够产生净冷却效果,而且避免了废热排放带来的诸多环保问题。早期研究利用涂敷法将具有辐射冷却能力的涂料刷涂在物体表面,该方法仅能实现材料的夜间降温。为了实现材料的日间辐射冷却则需要在其中引入特定结构,如多层膜结构、二维光子晶体结构、超结构等以提高它的可见近红外波段的反射率和大气窗口的发射率。然而,相关制备技术存在工艺复杂、制备成本高、难以宏量制备等局限性,严重阻碍了辐射冷却材料工程应用的推进。随着辐射冷却理论研究的深入以及更多先进制备技术的发展,制备方法和手段也越来越多样化,如真空蒸镀、微纳米加工技术、直接涂敷法、挤出成型技术、静电纺丝法等相继被报道,通过这些方法能够低成本地制备出较大面积的辐射冷却材料,进一步推动了辐射冷却材料及技术的应用。本文归纳了辐射冷却材料制备方法的研究现状,对不同制备技术的优缺点进行了对比分析。首先概述了辐射冷却常用材料及其成型方式;然后介绍了辐射冷却材料常用制备方法及各自优缺点,简述了适用于特殊材料或应用场景的制备方法;最后总结了目前辐射冷却材料制备存在的问题并展望了未来的发展方向。 展开更多
关键词 辐射冷却 真空蒸镀 微纳米加工 挤出成型 直接涂敷
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