摩尔定律与半导体设备 被引量：14

1

作者 翁寿松 《电子工业专用设备》 2002年第4期196-199,共4页

介绍了摩尔定律及其寿命和争议。同时介绍了ITRS2 0 0 1及其对缩小芯片特征尺寸的争议。讨论了影响摩尔定律寿命的半导体工艺及设备 ,如光刻工艺及设备、互连工艺及设备和纳米半导体工艺及设备。

关键词 摩尔定律 半导体设备 光刻设备 互连设备 纳米

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光学光刻技术现状及发展趋势 被引量：7

2

作者 童志义 《电子工业专用设备》 2001年第1期1-9,共9页

综述了光学光刻目前的主流技术— 2 48nm曝光技术现状 ,介绍了折射式透镜和反射折射式透镜结构及性能。结合 1 93nm技术的开发 ,比较了 2种结构的优势。最后给出了光刻设备的市场概况并讨论了光学光刻技术的发展趋势。

关键词 光学光刻 折射系统 反射折射系统 曝光

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高性能永磁同步平面电机及其关键技术发展综述 被引量：11

3

作者 寇宝泉 张鲁 +2 位作者 邢丰 李立毅 张赫 《中国电机工程学报》 EI CSCD 北大核心 2013年第9期79-87,共9页

永磁同步平面电机具有直接驱动、出力密度高、低热耗、高精度等特点,在现代精密、超精密加工装备,特别是在极紫外光刻机中具有广阔的应用前景。根据永磁阵列和线圈阵列的结构形式将永磁同步平面电机划分为组合式、半组合式、绕组层叠式... 永磁同步平面电机具有直接驱动、出力密度高、低热耗、高精度等特点,在现代精密、超精密加工装备,特别是在极紫外光刻机中具有广阔的应用前景。根据永磁阵列和线圈阵列的结构形式将永磁同步平面电机划分为组合式、半组合式、绕组层叠式和对称式永磁同步平面电机4类,并介绍了各种类型平面电机的特点,总结了永磁同步平面电机关键技术的发展现状,针对目前永磁同步平面电机存在的不足,讨论了未来永磁同步平面电机发展的趋势与方向。 展开更多

关键词 永磁同步平面电机 光刻机 二维平面定位装置 发展趋势

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光学光刻现状及设备市场 被引量：10

4

作者 童志义 《电子工业专用设备》 2002年第1期2-6,共5页

概述了当前光学光刻技术现状及今后发展目标 ,并结合设备市场介绍了ASML、Canon、Nikon 3大设备制造商概况。

关键词 光学光刻 技术现状 设备市场 制造商

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全球光刻机发展概况以及光刻机装备国产化 被引量：9

5

作者 张霞 刘宏波 +2 位作者 顾文 周细应 于治水 《无线互联科技》 2018年第19期110-111,118,共3页

文章以光刻原理为引子,介绍光刻设备的系统结构,解读光刻机行业的发展概况,重点介绍光刻机装备国产化的发展之路,最后,文章提出中国半导体装备业国产化的顶层设计框架。

关键词 光刻 光刻设备 装备 国产化

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光刻机用精密碳化硅陶瓷部件制备技术 被引量：8

6

作者 刘海林 霍艳丽 +5 位作者 胡传奇 黄小婷 王春朋 梁海龙 唐婕 陈玉峰 《现代技术陶瓷》 CAS 2016年第3期168-178,共11页

本文介绍了光刻机用碳化硅陶瓷结构件的特点及其对材料的要求,分析了碳化硅陶瓷在光刻机中作为结构件材料使用的优势,着重介绍了中国建筑材料科学研究总院在精密碳化硅结构件的制备领域所取得的技术成果,列举了精密碳化硅结构件在光刻... 本文介绍了光刻机用碳化硅陶瓷结构件的特点及其对材料的要求,分析了碳化硅陶瓷在光刻机中作为结构件材料使用的优势,着重介绍了中国建筑材料科学研究总院在精密碳化硅结构件的制备领域所取得的技术成果,列举了精密碳化硅结构件在光刻机等集成电路制造关键装备中的应用。 展开更多

关键词 碳化硅 凝胶注模 素坯加工 反应连接 化学气相沉积 集成电路 光刻机

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知识密集型产业创新生态系统建设:以荷兰ASML公司为例 被引量：6

7

作者 牛媛媛 王天明 《科技导报》 CAS CSCD 北大核心 2020年第24期120-128,共9页

以创新生态系统理论为分析框架,结合荷兰ASML公司案例研究,阐述了知识密集型产业的发展与创新生态系统建设的关系,分析了创新生态体系的建设路径及特点。基于知识管理的网络协作、"路线图"的创新协同及核心企业的统领作用是A... 以创新生态系统理论为分析框架,结合荷兰ASML公司案例研究,阐述了知识密集型产业的发展与创新生态系统建设的关系,分析了创新生态体系的建设路径及特点。基于知识管理的网络协作、"路线图"的创新协同及核心企业的统领作用是ASML创新生态体系建设的成功经验。ASML作为光刻装备产业的核心企业,根据路线图作为总纲统领包括供应商、大学和研究机构在内的创新生态系统建设,引领行业发展趋势,形成一个广泛参与的基于协作的创新网络体系。这种创新生态系统的建设框架对于中国区域产业创新的生态建设以及如何增强企业创新能力方面具有一定借鉴作用。 展开更多

关键词 光刻装备 创新生态 产品路线图

原文传递

半导体制造光刻机发展分析 被引量：2

8

作者 柳滨 《电子工业专用设备》 2023年第5期1-10,60,共11页

分析了半导体产业国际国内市场状况,研究了光刻机国际国内市场状况、竞争企业状况;同时从生产线应用配置、细分技术、行业应用、竞争因素、主要技术与供应链、技术发展趋势等角度对光刻机产业发展状况进行了深入分析,并对国内光刻机的... 分析了半导体产业国际国内市场状况,研究了光刻机国际国内市场状况、竞争企业状况;同时从生产线应用配置、细分技术、行业应用、竞争因素、主要技术与供应链、技术发展趋势等角度对光刻机产业发展状况进行了深入分析,并对国内光刻机的发展进行思考。 展开更多

关键词 半导体制造 光刻机 市场状况 产业状况 发展趋势

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产业政策驱动的大学发展三螺旋环境创建研究——以国产光刻机装备产业发展为例 被引量：1

9

作者 牛媛媛 王天明 《科研管理》 CSCD 北大核心 2023年第2期14-20,共7页

本文通过案例研究方法,采用三螺旋空间理论构建大学-产业-政府三者之间互动逻辑的分析框架,以国家02重大专项和集成电路产业基金政策驱动下的国产光刻机装备产业发展为例,解析具有中国特殊性的光刻机装备产业发展背景、产业联盟及运行... 本文通过案例研究方法,采用三螺旋空间理论构建大学-产业-政府三者之间互动逻辑的分析框架,以国家02重大专项和集成电路产业基金政策驱动下的国产光刻机装备产业发展为例,解析具有中国特殊性的光刻机装备产业发展背景、产业联盟及运行机制、产业发展的三螺旋模式和三螺旋空间,探讨我国应用型大学发展外部三螺旋环境创建的必要性,论证了光刻机产业实践对应用型大学外部发展环境创建的积极意义,并对产业政策区域覆盖不足提出大学三螺旋环境创建的建议。本研究将推动大学-产业-政府创新融合发展的实践认知,对增强和促进大学的应用性环境创建具有现实的指导意义。 展开更多

关键词 产业政策 应用型大学 三螺旋空间 光刻机

原文传递

0.1μm线宽主流光刻设备—193nm(ArF)准分子激光光刻 被引量：3

10

作者 陈兴俊 胡松 +1 位作者 姚汉民 刘业异 《电子工业专用设备》 2002年第1期27-31,共5页

阐述了可实现 0 1μm线宽器件加工的几种候选光刻技术 ,对 193nm(ArF)准分子激光光刻技术作了较为详细的论述 ,指出其在 0 1μm技术段的重要作用 ,并提出了研制 193nm(ArF)光刻设备的一些设想。

关键词 光学光刻 光刻设备 193nm光刻

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光刻设备运输中的并联结构减振方案分析

11

作者 宋兴龙 《集成电路应用》 2023年第2期303-305,共3页

阐述光刻设备中的大型精密设备运输减振需求,设计了基于钢丝绳弹簧并联结构的运输减振方案,可以满足运输过程中冲击<5g减振需求。探讨钢丝绳并联结构的动力学特性,获得不同参数下系统的减振特性,针对运输减振方案中的结构进行强度仿... 阐述光刻设备中的大型精密设备运输减振需求,设计了基于钢丝绳弹簧并联结构的运输减振方案,可以满足运输过程中冲击<5g减振需求。探讨钢丝绳并联结构的动力学特性,获得不同参数下系统的减振特性,针对运输减振方案中的结构进行强度仿真,给出某设备运输过程的实测结果。 展开更多

关键词 光刻设备 大型精密设备 钢丝绳并联 减振系统

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光刻机模拟隔振试验装置内部世界动力学模型分析 被引量：2

12

作者 邓习树 吴运新 +1 位作者 李宝童 杨辅强 《制造技术与机床》 CSCD 北大核心 2007年第10期77-81,共5页

为给步进扫描光刻机的设计研究提供理论指导,解决光刻机掩模台、工件台由于高速运动而引起光刻机工作核心部分——工作平台的振动问题,根据工业应用中步进扫描光刻机的运动特点和工作要求,设计了一种内部世界和外部世界用精密6自由度减... 为给步进扫描光刻机的设计研究提供理论指导,解决光刻机掩模台、工件台由于高速运动而引起光刻机工作核心部分——工作平台的振动问题,根据工业应用中步进扫描光刻机的运动特点和工作要求,设计了一种内部世界和外部世界用精密6自由度减振器连接的步进扫描光刻机隔振试验装置;建立了内部世界6自由度的动力学模型,运用设计的参数计算出了内部世界的固有频率和对应的振型;同时运用ANSYS有限元软件进行了分析计算,两者的计算结果吻合很好,验证了动力学模型的正确性。 展开更多

关键词 光刻机 隔振 试验装置 内部世界 模型

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光刻设备中工件台激光测长原理 被引量：1

13

作者 韦俊 杨兴平 《电子工业专用设备》 2008年第10期28-35,共8页

通过对双频激光干涉仪的原理、结构、双频产生机理进行分析,阐述激光干涉仪在光刻设备中的实际应用,探讨激光干涉仪技术。

关键词 激光干涉仪 塞曼效应 偏振 干涉 光刻设备 工件台

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光刻机试验运动装置振动信号的时频分析 被引量：1

14

作者 邓习树 吴运新 +1 位作者 隆志力 杨辅强 《微细加工技术》 2007年第5期18-21,共4页

步进扫描光刻机在工作状态下振动特性的好坏对其性能起着重要作用。为给步进扫描光刻机的设计研究提供理论指导,设计了一种步进扫描光刻机模拟试验运动装置,它能够完全再现步进扫描光刻机的运动特点。在此基础上,对试验装置的关键部件... 步进扫描光刻机在工作状态下振动特性的好坏对其性能起着重要作用。为给步进扫描光刻机的设计研究提供理论指导,设计了一种步进扫描光刻机模拟试验运动装置,它能够完全再现步进扫描光刻机的运动特点。在此基础上,对试验装置的关键部件进行了振动测试,运用傅里叶变换和现代联合时频分析技术对测得的数据分别进行了分析,结果表明,采用联合时频分析技术更能反映系统的固有性质和振动特性,所得到的参数和结果对指导步进扫描光刻机隔振装置的设计具有一定的实际意义。 展开更多

关键词 光刻机 模拟装置 振动 时频分析

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光刻设备知识产权战略研究 被引量：2

15

作者 张立佳 齐月静 +5 位作者 张理垟 李国和 郭馨 李慧 崔惠绒 周翊 《科技和产业》 2019年第2期106-112,共7页

我国高端集成电路(IC)产业严重受限于落后的光刻制造装备技术和产业,2016年进口约2 271亿美元,制约了我国电子信息产业的升级,成为重大的国家安全隐患。习近平主席说"实践反复告诉我们,关键核心技术是要不来、买不来、讨不来的&quo... 我国高端集成电路(IC)产业严重受限于落后的光刻制造装备技术和产业,2016年进口约2 271亿美元,制约了我国电子信息产业的升级,成为重大的国家安全隐患。习近平主席说"实践反复告诉我们,关键核心技术是要不来、买不来、讨不来的",2008年以来我国启动科技重大专项"极大規模集成电路制造装备及成套工艺"(02专项),展开IC光刻制造装备及工艺关健技术攻关。通过对国际上先进光刻设备制造企业知识产权战略研究,调研其专利形成的关键技术模块,寻找我国光刻制造业研发的潜在技术入口,提高创新起点,引导研发活动向具有自主创新的目标,集中力量在光刻机国际前沿技术上有所突破,创造更多的自主知识产权。 展开更多

关键词 光刻设备 知识产权 战略

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光学光刻设备发展和展望 被引量：2

16

作者 李立文 《电子测试》 2016年第5期125-125,121,共2页

在半导体技术和制造的发展中,半导体加工技术中最为关键的光刻技术和光刻工艺设备,必将发生显著的变化,本文将对光刻技术和光刻设备的发展历史进行简述,并展望未来光刻技术的趋势。

关键词 光学光刻 设备 发展

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光刻机常见故障与对策 被引量：1

17

作者 赵阳 《上海电机学院学报》 2009年第2期166-168,共3页

光刻机集光学机械、微电子、计算机、自动控制和精密测量等高新技术于一体,是集成电路制造的关键设备。为维持光刻机正常作业,以企业损失最小为优化目标,对于光刻机常见故障按照设备功能单元逐步缩小排查范围,提出合理的预防措施和故障... 光刻机集光学机械、微电子、计算机、自动控制和精密测量等高新技术于一体,是集成电路制造的关键设备。为维持光刻机正常作业,以企业损失最小为优化目标,对于光刻机常见故障按照设备功能单元逐步缩小排查范围,提出合理的预防措施和故障修复方法。 展开更多

关键词 集成电路 设备维修 光刻机 曝光

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光刻机平边定位原理简析及找平边模块改造 被引量：1

18

作者 刘磊 王发稳 +1 位作者 申强 夏久龙 《电子工业专用设备》 2020年第3期41-46,共6页

论述了NIKON i12D(type3)光刻机平边定位工作原理,并以NIKON i12D(type3)光刻机为基础,通过对找平边传感模块的硬件和电路改造,实现了对GaN晶圆平边的有效识别。测试结果表明,成功率高,稳定性好;减少了不必要的生产流程,提高了生产效率。

关键词 光刻机 平边定位 找平边模块 改造 GaN晶圆

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从ASML和Nikon专利诉讼案例看国产光刻设备知识产权建设 被引量：1

19

作者 折昌美 李璟 《科技和产业》 2020年第10期135-142,共8页

光刻设备是集成电路(IC)制造的核心设备,是高科技强国的战略性产品,也是当前国际科技竞争的主要战场和博弈焦点。目前,全球的高端光刻机市场已被荷兰ASML公司垄断,且其具备严密的全球知识产权布局。而光刻设备的国产替代作为市场后入者... 光刻设备是集成电路(IC)制造的核心设备,是高科技强国的战略性产品,也是当前国际科技竞争的主要战场和博弈焦点。目前,全球的高端光刻机市场已被荷兰ASML公司垄断,且其具备严密的全球知识产权布局。而光刻设备的国产替代作为市场后入者,知识产权建设起步晚,并不占据优势地位。通过对光刻领域两大国际巨头ASML和Nikon在各自产品发展过程中不同阶段发生的专利诉讼案例的全面分析,探究在集成电路(或半导体)这样的技术密集型产业领域,知识产权诉讼中国际行业巨头常用的策略和技巧,进而得到对国产光刻装备知识产权建设的重要启示。 展开更多

关键词 光刻设备 知识产权 诉讼

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高精度机器视觉对准测量系统设计 被引量：1

20

作者 徐兵 周畅 《电子工业专用设备》 2014年第5期33-37,共5页

设计了用于半导体先进封装光刻设备中的高精度机器视觉对准测量系统,明确了机器视觉对准测量系统工作原理、设计指标及系统设计中需要考虑的关键技术点,同时给出了机器视觉对准测量系统关键零部件的设计,并给出了对准测量系统最终在整... 设计了用于半导体先进封装光刻设备中的高精度机器视觉对准测量系统,明确了机器视觉对准测量系统工作原理、设计指标及系统设计中需要考虑的关键技术点,同时给出了机器视觉对准测量系统关键零部件的设计,并给出了对准测量系统最终在整机上测得的性能数据。测试结果表明,所设计的机器视觉对准测量系统完全可以满足集成电路先进封装工艺需求。 展开更多

关键词 先进封装 光刻设备 机器视觉 对准测量系统

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