期刊文献+
共找到156篇文章
< 1 2 8 >
每页显示 20 50 100
高速单张纸胶印机滚筒平衡的设计计算 被引量:4
1
作者 赵庆海 《包装工程》 CAS CSCD 北大核心 2002年第5期5-8,共4页
从分析单张纸胶印机的印刷滚筒在高速运转下产生的动不平衡现象出发 ,研究了滚筒在不平衡力作用下的振动 ,写出了滚筒及支承的运动方程 ,为高速单张纸胶印机印刷滚筒的动平衡提供一套较完整的算法。
关键词 设计 计算 胶印机 印刷滚筒 动平衡 振动
下载PDF
Recent advances in lithographic fabrication of micro-/nanostructured polydimethylsiloxanes and their soft electronic applications 被引量:2
2
作者 Donghwi Cho Junyong Park +1 位作者 Taehoon Kim Seokwoo Jeon 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2019年第11期48-65,共18页
The intensive development of micro-/nanotechnologies offers a new route to construct sophisticated architectures of emerging soft electronics.Among the many classes of stretchable materials,micro-/nanostructured poly(... The intensive development of micro-/nanotechnologies offers a new route to construct sophisticated architectures of emerging soft electronics.Among the many classes of stretchable materials,micro-/nanostructured poly(dimethylsiloxane)(PDMS)has emerged as a vital building block based on its merits of flexibility,stretchability,simple processing,and,more importantly,high degrees of freedom of incorporation with other functional materials,including metals and semiconductors.The artificially designed geometries play important roles in achieving the desired mechanical and electrical performances of devices and thus show great potential for applications in the fields of stretchable displays,sensors and actuators as well as in health-monitoring device platforms.Meanwhile,novel lithographic methods to produce stretchable platforms with superb reliability have recently attracted research interest.The aim of this review is to comprehensively summarize the progress regarding micro-/nanostructured PDMS and their promising soft electronic applications.This review is concluded with a brief outlook and further research directions. 展开更多
关键词 lithographic technique microstructure NANOSTRUCTURE POLYDIMETHYLSILOXANE SOFT electronics
下载PDF
Lithographic patterning of ferromagnetic FePt nanoparticles from a single-source bimetallic precursor containing hemiphasmidic structure for magnetic data recording media 被引量:1
3
作者 Zhengong Meng Cheuk-Lam Ho +5 位作者 Hon-Fai Wong Zhen-Qiang Yu Nianyong Zhu Guijun Li Chi-Wah Leung Wai-Yeung Wong 《Science China Materials》 SCIE EI CSCD 2019年第4期566-576,共11页
Patterning of L10 FePt nanoparticles(NPs) with high coercivity offers a promising route to develop bit-patterned media(BPM) for the next generation magnetic data recording system, but the synthesis of monodisperse FeP... Patterning of L10 FePt nanoparticles(NPs) with high coercivity offers a promising route to develop bit-patterned media(BPM) for the next generation magnetic data recording system, but the synthesis of monodisperse FePt NPs and mass production of their nanopatterns has been a longstanding challenge. Here, highly efficient nanoimprint lithography was applied for large-scale universal patterning, which was achieved by imprinting the solution of a single-source bimetallic precursor. The rigid coplanar metallic cores and the surrounding flexible tails in the bimetallic complex permit the spontaneous molecular arrangements to form the highly ordered negative morphology replicated from the soft template.In-situ pyrolysis study was then investigated by one-pot pyrolysis of the precursor under an Ar/H2 atmosphere, and the resultant NPs were fully characterized to identify the phase,morphology and magnetic properties. Finally, highly-ordered patterns on certain substrates were preserved perfectly after pyrolysis and could be potentially utilized in magnetic data recording media. 展开更多
关键词 FEPT nanoparticles single-source BIMETALLIC precursors ONE-POT pyrolysis lithographic PATTERNING magnetic data recording media
原文传递
基于微流控芯片的液体电导测量 被引量:1
4
作者 胥飞 Md Shehadul Islam 《上海电机学院学报》 2012年第1期18-21,共4页
在传统微流控芯片制作方法的基础上,利用电化学腐蚀来制作电导式微流控芯片。对浓度分别为21.0%、28.1%、37.5%、50%的聚苯乙烯溶于去离子水的微粒混悬液进行实验测量,实验表明,该芯片测量与理论基本符合,芯片适用于液体溶液的阻抗测量。
关键词 微流控芯片 电导 光刻 二甲基硅氧烷
下载PDF
基于移动X射线光刻工艺的采血微针阵列的制备 被引量:1
5
作者 吴文渊 李以贵 +3 位作者 王欢 蔡金东 吕曈 何易德 《微纳电子技术》 北大核心 2018年第9期671-676,682,共7页
为了降低传统采血对人体的疼痛感和损伤,制备了采血微针阵列结构。该微针阵列结构是采用日本立命馆大学的同步辐射光源AURORA进行两次移动X射线光刻,在聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)光刻胶上得到与光刻、电铸和注塑(LIGA)掩膜版图形相似... 为了降低传统采血对人体的疼痛感和损伤,制备了采血微针阵列结构。该微针阵列结构是采用日本立命馆大学的同步辐射光源AURORA进行两次移动X射线光刻,在聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)光刻胶上得到与光刻、电铸和注塑(LIGA)掩膜版图形相似的曝光能量分布图,再利用显影技术获得了断面形状与LIGA掩膜版图形相似的PMMA微针阵列结构,密度为1 024针/cm^2,微针尖端直径达到300 nm。通过采用不同的掩膜版图形,获得了形状各异的微针阵列结构。并且进行了采血实验,通过毛细效应,测试液在流入沟槽后被提取并保持,拔出的微针且不受损伤,1 cm^2微针阵列可以提取0.5μL测试液。最后,针对光刻过程中微针阵列结构的侧面形状发生畸变的情况,对移动X射线光刻建立了仿真预测,并且对LIGA掩膜版进行补偿,增强了采血微针阵列强度。 展开更多
关键词 采血微针阵列 移动X射线光刻 毛细效应 光刻、电铸和注塑(LIGA)
下载PDF
基于VME总线的VxWorks操作系统的移植 被引量:1
6
作者 徐加彦 贾友亮 +1 位作者 陈兴林 张广莹 《自动化技术与应用》 2016年第3期23-28,共6页
双工件台光刻机的控制系统采用上下位机模式。上位机采用C++Builder编写的人机控制界面,下位机采用基于VME总线的工控机,采用VxWorks嵌入式操作系统。上位机通过人机界面发送控制指令和参数;下位机则通过VME总线在不同时刻采集各个板卡... 双工件台光刻机的控制系统采用上下位机模式。上位机采用C++Builder编写的人机控制界面,下位机采用基于VME总线的工控机,采用VxWorks嵌入式操作系统。上位机通过人机界面发送控制指令和参数;下位机则通过VME总线在不同时刻采集各个板卡的数据,分析系统当前的状态,并将不同指令在不同时刻通过VME总线传给各个控制板卡。VxWorks操作系统是整个下位机的核心,本设计采用Workbench集成开发环境,利用MC7448A的IC-e6-VMEa为主板卡,移植VxWorks操作系统。 展开更多
关键词 VME总线 VXWORKS 工控机 光刻机
下载PDF
The Examination of the Tangut Garland Sutra(Avatamsaka Sūtra) Volume 41 in the C.V.Starr East Asian Library at University of California,Berkeley
7
作者 Kaiqi Hua 《西夏学》 2016年第1期129-151,共23页
This paper introduces the unpublished copy of a Tangut script Garland Sutra华严经(or Flower Ornament Sutra) volume/juan 41第四十一卷stored at the C.V.Starr East Asian Library at the University of California,Berkeley.I... This paper introduces the unpublished copy of a Tangut script Garland Sutra华严经(or Flower Ornament Sutra) volume/juan 41第四十一卷stored at the C.V.Starr East Asian Library at the University of California,Berkeley.It reinforces the assessment of this manuscript as a modern forgery.Through comparing various physical features of the same volume stored in other countries,and the history of their acquisition,this paper traces the lithographic reproduction of this volume to the early twentieth century and its later circulation.This research also compares the Berkeley copy with the Princeton copy of volume 77 which is the other only known Tangut Garland Sutra in America.The fundamental difference between the two copies prove that the former was a modern forgery but the latter a Yuan period product of movable type wooden block print. 展开更多
关键词 unpublished COPY lithographic REPRODUCTION the TANGUT Garland Sutra
下载PDF
DPB130铝铝泡罩包装机的设计
8
作者 张东 《包装与食品机械》 CAS 2004年第2期21-23,27,共4页
本文主要论述了DPB130铝铝泡罩包装机传动系统、夹持步进机构、成型机构、热封机构、打字机构、冲切机构的设计原理,并就其工作方式和动力特性进行了科学的分析。
关键词 DPBl30铝铝泡罩包装机 传动系统 夹持步进机构 成型机构 设计原理 动力特性
下载PDF
利用软模板和紫外光固化技术制备超疏水表面 被引量:38
9
作者 刘斌 傅叶勍 +2 位作者 阮维青 和亚宁 王晓工 《高分子学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第2期155-160,共6页
研究了一种制备超疏水表面的新方法.该方法以复制了荷叶表面结构的聚二甲基硅氧烷(PDMS)弹性体为软模板.利用可紫外光交联预聚物在模板压印条件下固化成型,得到了具有微乳突结构的仿荷叶表面.制备的仿荷叶表面表现出了超疏水性能.通过... 研究了一种制备超疏水表面的新方法.该方法以复制了荷叶表面结构的聚二甲基硅氧烷(PDMS)弹性体为软模板.利用可紫外光交联预聚物在模板压印条件下固化成型,得到了具有微乳突结构的仿荷叶表面.制备的仿荷叶表面表现出了超疏水性能.通过对紫外光固化体系中的单体含量、交联剂含量、引发剂含量、以及紫外曝光时间等因素的研究,得到了使仿荷叶表面的疏水性优化的条件. 展开更多
关键词 软模板 超疏水 接触角 紫外光固化 聚二甲基硅氧烷(PDMS)
下载PDF
国际主流光刻机研发的最新进展 被引量:39
10
作者 袁琼雁 王向朝 《激光与光电子学进展》 CSCD 北大核心 2007年第1期57-64,共8页
介绍了65nm和45nm节点国际主流光刻机的最新研发进展,重点分析了目前提高光刻机性能的关键技术,讨论了目前各公司的主流机型及其性能参数,最后简要介绍了下一代光刻技术的研究进展。
关键词 光刻机 双工件台技术 偏振光照明 折反式物镜 浸没式光刻 下一代光刻
原文传递
Optical cross-talk reduction in a quantumdot-based full-color micro-light-emitting-diode display by a lithographic-fabricated photoresist mold 被引量:28
11
作者 HUANG-YU LIN CHIN-WEI SHER +7 位作者 DAN-HUA HSIEH XIN-YIN CHEN HUANG-MING PHILIP CHEN TENG-MING CHEN KEI-MAY LAU CHYONG-HUA CHEN CHIEN-CHUNG LIN HAO-CHUNG KUO 《Photonics Research》 SCIE EI 2017年第5期411-416,共6页
In this study, a full-color emission red–green–blue(RGB) quantum-dot(QD)-based micro-light-emitting-diode(micro-LED) array with the reduced optical cross-talk effect by a photoresist mold has been demonstrated. The ... In this study, a full-color emission red–green–blue(RGB) quantum-dot(QD)-based micro-light-emitting-diode(micro-LED) array with the reduced optical cross-talk effect by a photoresist mold has been demonstrated. The UV micro-LED array is used as an efficient excitation source for the QDs. The aerosol jet technique provides a narrow linewidth on the micrometer scale for a precise jet of QDs on the micro-LEDs. To reduce the optical cross-talk effect,a simple lithography method and photoresist are used to fabricate the mold, which consists of a window for QD jetting and a blocking wall for cross-talk reduction. The cross-talk effect of the well-confined QDs in the window is confirmed by a fluorescence microscope, which shows clear separation between QD pixels. A distributed Bragg reflector is covered on the micro-LED array and the QDs' jetted mold to further increase the reuse of UV light.The enhanced light emission of the QDs is 5%, 32%, and 23% for blue, green, and red QDs, respectively. 展开更多
关键词 QDs Optical cross-talk reduction in a quantumdot-based full-color micro-light-emitting-diode display by a lithographic-fabricated photoresist mold
原文传递
光刻投影物镜中的透镜X-Y柔性微动调整机构 被引量:22
12
作者 赵磊 巩岩 赵阳 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第6期1425-1433,共9页
针对光刻投影物镜中透镜X-Y调整机构调整量程小、调整精度高的特点,提出了一种基于柔性铰链的X-Y微动调整机构,并将其应用在光刻投影物镜模型中进行了实验验证。首先,基于机构自由度和机构瞬心等概念介绍了该机构的工作原理。然后,用柔... 针对光刻投影物镜中透镜X-Y调整机构调整量程小、调整精度高的特点,提出了一种基于柔性铰链的X-Y微动调整机构,并将其应用在光刻投影物镜模型中进行了实验验证。首先,基于机构自由度和机构瞬心等概念介绍了该机构的工作原理。然后,用柔性铰链代替传统铰链完成了该机构的结构设计,并对该机构的运动方向刚度、位移输入-输出比以及固有频率和阵型等进行了仿真分析。分析结果表明:该机构X,Y方向的刚度值为1.99μm/N和1.96μm/N,X,Y方向的位移输入-输出比值分别为-2.5和-2.56,机构X,Y方向运动的原理误差分别为实际量的8.22%和6.68%。最后,将研制的X-Y微动调整机构用于光刻投影物镜验证模型中,给出了X-Y调整机构补偿前后的系统波像差。结果显示:模型补偿前后的系统波像差RMS分别为50.864nm和25.933nm。由此表明,本文设计的柔性微动调整机构补偿效果明显,能够满足光刻投影物镜高精度X-Y调整补偿要求。 展开更多
关键词 光刻物镜 柔性铰链 微动调整机构 系统波像差
下载PDF
投影光刻物镜倍率的公差分析与补偿 被引量:21
13
作者 许伟才 黄玮 杨旺 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第11期265-268,共4页
为满足严格的套刻需求,双远心结构的投影光刻物镜需要选择恰当的元件移动来进行倍率的补偿和调节。提出了一种简单而实用的方法来进行倍率的公差分析。该方法利用商业优化设计软件和有限差分算法计算了多项公差对物镜倍率的敏感程度,同... 为满足严格的套刻需求,双远心结构的投影光刻物镜需要选择恰当的元件移动来进行倍率的补偿和调节。提出了一种简单而实用的方法来进行倍率的公差分析。该方法利用商业优化设计软件和有限差分算法计算了多项公差对物镜倍率的敏感程度,同时结合公差对系统波像差的敏感度选择最佳的倍率补偿元件。利用以上方法,对一台双远心、工作波长193nm以及数值孔径0.75的投影光刻物镜进行了倍率的公差分析和补偿器优选。结果显示,系统较好地实现了±50×10-6的倍率调节功能,而系统波像差劣化程度均方根值小于1.5nm。 展开更多
关键词 光学设计 倍率 公差分析 投影光刻物镜
原文传递
铅石印刷术与明清通俗小说的近代传播——以上海(1874—1911)为考察中心 被引量:13
14
作者 潘建国 《文学遗产》 CSSCI 北大核心 2006年第6期96-107,共12页
本文运用大量文献史料,以上海(1874—1911)为考察中心,从“翻印”、“续书”及“图像”三个方面,细致论述了铅石印刷文化与明清通俗小说近代传播之间的学术关系,其中既有积极的推动作用,也有消极的负面影响;而正是在此传播环境下,白话... 本文运用大量文献史料,以上海(1874—1911)为考察中心,从“翻印”、“续书”及“图像”三个方面,细致论述了铅石印刷文化与明清通俗小说近代传播之间的学术关系,其中既有积极的推动作用,也有消极的负面影响;而正是在此传播环境下,白话小说史完成了从传统明清通俗小说向晚清新小说乃至现代小说的历史转型。 展开更多
关键词 近代上海 铅石印刷术 明清小说传播
原文传递
6-PSS型光学元件精密轴向调节机构 被引量:15
15
作者 郭抗 巩岩 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第10期2648-2655,共8页
设计了一种采用6-PSS型并联机构的光学元件精密轴向调节机构,以使光刻物镜中光学元件的调节行程达微米级,调节精度达纳米级。将6-PSS型并联机构中的6个移动副改进为3个,减少了驱动器的使用数量,提高了轴向调节机构的可靠性;设计了一种... 设计了一种采用6-PSS型并联机构的光学元件精密轴向调节机构,以使光刻物镜中光学元件的调节行程达微米级,调节精度达纳米级。将6-PSS型并联机构中的6个移动副改进为3个,减少了驱动器的使用数量,提高了轴向调节机构的可靠性;设计了一种圆角薄柔性铰链结构作为6-PSS型并联机构中的球铰副,实现了轴向调节机构的结构一体化,简化了光机组件的装调过程,提高了机构的机械精度;利用空间矢量法分析了机构输入构件与输出构件之间的位置关系,推导出了机构的传动比表达式,为机构主要结构尺寸的选取提供了依据。轴向调节机构的验证试验结果表明:机构传动比的理论计算值接近于实测值;轴向调节机构的调节行程为74.4μm,调节精度在40nm以内,满足光刻物镜中光学元件轴向调节机构的使用需求。 展开更多
关键词 光刻物镜 光学元件 调节机构 并联机构 一体化结构 6-PSS
下载PDF
光刻机技术现状及发展趋势 被引量:12
16
作者 彭祎帆 袁波 曹向群 《光学仪器》 2010年第4期80-85,共6页
主要介绍了大规模集成电路制造中光刻工艺的技术现状和发展趋势。首先,在调研光刻机的研发和生产情况的基础上讨论了国内外光刻技术的现状;其次,重点分析了目前用于提高光刻机性能的各种关键技术;最后,简要介绍了下一代光刻技术的研究... 主要介绍了大规模集成电路制造中光刻工艺的技术现状和发展趋势。首先,在调研光刻机的研发和生产情况的基础上讨论了国内外光刻技术的现状;其次,重点分析了目前用于提高光刻机性能的各种关键技术;最后,简要介绍了下一代光刻技术的研究进展和发展方向。 展开更多
关键词 光刻机 技术现状 发展趋势
下载PDF
超高数值孔径Schwarzschild投影光刻物镜的光学设计 被引量:13
17
作者 胡大伟 李艳秋 刘晓林 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期198-204,共7页
针对45nm及以下节点光刻相关技术的研究需求,确定了实验型投影光刻物镜的结构型式及设计指标。依据像差理论在非同心小遮拦的Schwarzschild反射系统中添加折射补偿镜组来进一步减小系统的中心遮拦,扩大像方数值孔径。设计了一套小中心遮... 针对45nm及以下节点光刻相关技术的研究需求,确定了实验型投影光刻物镜的结构型式及设计指标。依据像差理论在非同心小遮拦的Schwarzschild反射系统中添加折射补偿镜组来进一步减小系统的中心遮拦,扩大像方数值孔径。设计了一套小中心遮拦,数值孔径为1.20的Schwarzschild折反式投影光刻物镜。设计结果表明,该投影光刻物镜工作带宽为100pm,像方视场为50μm,线中心遮拦比为13%,光学分辨力为80nm时(6240lp/mm)的系统调制传递函数大于0.45,全视场最大畸变为6.5nm,满足了45nm深紫外(DUV)浸没光刻实验平台对投影光刻物镜的需求。 展开更多
关键词 光学设计 投影光刻物镜 超高数值孔径 SCHWARZSCHILD 深紫外
原文传递
光刻工艺参数的优化方法 被引量:6
18
作者 刘忠安 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2001年第1期52-53,61,共3页
通过引入有效时差的概念 ,提出了一种可模拟光刻工艺参数间的相互关系及优化光刻参数的方法。与Dill及Mack等的方法相比 ,该方法可直接建立光刻工艺参数之间的关系 ,并可对光刻工艺进行优化设计。
关键词 光刻工艺 有效时差 优化设计 半导体
下载PDF
高数值孔径投影光刻物镜的光学设计 被引量:10
19
作者 徐明飞 庞武斌 +2 位作者 徐象如 王新华 黄玮 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第4期740-746,共7页
针对45nm节点投影光刻物镜的应用,开展了工作波长为193nm的深紫外浸没式高数值孔径(NA)投影光刻物镜的研究和研制。设计了数值孔径(NA)为1.30的离轴三反射镜投影光刻物镜和NA为1.35的同轴两反射镜投影光刻物镜,并对两个设计方案的... 针对45nm节点投影光刻物镜的应用,开展了工作波长为193nm的深紫外浸没式高数值孔径(NA)投影光刻物镜的研究和研制。设计了数值孔径(NA)为1.30的离轴三反射镜投影光刻物镜和NA为1.35的同轴两反射镜投影光刻物镜,并对两个设计方案的优劣进行对比分析,选择了同轴式结构作为最终的设计方案。分析了系统在不同NA情况下可变光阑与其远心度之间的关系,提出了用双可变曲面光阑的设计方案来优化系统的远心度。实验表明,应用本文设计方案,光刻物镜的波像差小于1nm,畸变小于1nm;新型的可变光阑使系统NA在0.85~1.35变化时的最大远心度由5.83~17.57mrad降低至0.26~3.21mrad。本文提出的设计方案为45nm节点高数值孔径投影光刻物镜的研制提供了有益的理论依据和指导。 展开更多
关键词 光学设计 高数值孔径(NA)投影光刻物镜 深紫外投影光刻物镜 远心度 曲面光阑
下载PDF
运放对压电陶瓷驱动电路系统精度影响的研究 被引量:10
20
作者 王学亮 李佩玥 +1 位作者 郑楠 崔洋 《电子测量技术》 2014年第10期33-36,共4页
为了在光刻机投影物镜中使用压电陶瓷对像质补偿镜组进行精密定位,设计了一种以集成运算放大器构成的压电陶瓷驱动电路。针对光刻物镜中压电陶瓷的亚微米量级高精度定位要求,研究了驱动电路的系统精度要求,并对系统误差进行分解,着重分... 为了在光刻机投影物镜中使用压电陶瓷对像质补偿镜组进行精密定位,设计了一种以集成运算放大器构成的压电陶瓷驱动电路。针对光刻物镜中压电陶瓷的亚微米量级高精度定位要求,研究了驱动电路的系统精度要求,并对系统误差进行分解,着重分析了运算放大器放对系统精度的影响。首先,分析运放失调误差的影响;其次,使用PSpice仿真获得运放的固有频率特性,分析工作带宽下运放有限开环增益的影响;然后,对运放反馈网络的影响进行分析;最后,分析运放输出噪声的影响。计算表明,在最坏情况下该压电陶瓷驱动电路中由运算放大器引起的系统误差小于130mV,满足系统误差分配的要求。试制了系统样机并进行了验证实验,实验结果表明由运放引起的系统误差不超过100mV,与理论分析的结果符合。 展开更多
关键词 光刻物镜 压电陶瓷 驱动电路 误差分析 亚微米
下载PDF
上一页 1 2 8 下一页 到第
使用帮助 返回顶部