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题名液态金属离子源静电透镜离子枪的实验研究
被引量：3
- 1
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作者
彭永生
刘心红
陆家和
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机构
清华大学电子工程系
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出处
《真空科学与技术》
CSCD
1994年第4期270-275,共6页
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文摘
液态金属离子源（LMIS）的亚微米聚焦离子束（FIB）在现代分析技术和微细加工等领域有很多应用。介绍一种计算机控制的快速、灵活、准确的束斑测量方法；并报导用这种方法对采用Orloff—Swanson静电透镜离子枪的FIB性能的研究结果，包括源尖对中对束斑的影响、各电极电位对束斑的影响及束斑与束流的关系等。通过仔细的源尖位置调节，在束能13keV，束流1．0nA时，FIB束斑在亚微米范围。
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关键词
液态金属离子源
静电透镜离子枪
实验
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Keywords
liquid metal ion source (lmis), ion gun, Beam current, Beam size,Submicrometer
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分类号
TN405.985
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名单级透镜聚焦离子束系统的研究
被引量：3
- 2
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作者
俞学东
毕建华
陆家和
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机构
清华大学电子工程系
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出处
《微细加工技术》
1994年第3期6-16,共11页
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文摘
建立了一台简单实用的单级透镜聚焦离子束（ＦＩＢ）系统。该系统采用优越的Ｃａ￣＋液态金属离子源（ＬＭＩＳ）和单级Ｏ－Ｓ透镜，在束能为２０ｋｅＶ、束流为３００ｐＡ时，束径达到０．３μｍ。改进了束斑的测量方法。研究了影响束斑的各种因素。该系统既可用来作为扫描离子显微镜，又可作为亚微米加工工具。文中给出了在该系统上得到的样品显微图像和刻蚀图形的结果。
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关键词
聚焦离子束
液态金属离子源
微细加工
单级透镜
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Keywords
Focused ion Beam (FIB)
liquid metal ion source(lmis)
micro fabrication
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分类号
TN305.3
[电子电信—物理电子学]
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题名可变束流二级透镜聚焦离子束系统的设计
被引量：1
- 3
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作者
俞学东
毕建华
陆家和
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机构
清华大学电子工程系
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出处
《微细加工技术》
1994年第4期18-35,共18页
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文摘
本文介绍了一种具有高速消隐和可变束流的二级透镜聚焦离子束（ＦＩＢ）系统的设计原理和方法。在这种新的二级透镜ＦＩＢ系统中，采用了束径束流的双工作模式和一种新的电可调无级可变束径束流方案，使二级系统既可用于需要大束流的ＴＯＦ─ＳＩＭＳ和刻蚀粗加工，又可用于需要小束径的高分辨扫描离子显微镜和刻蚀精加工以及ＦＩＢ暴光、变蚀等其它微细加工。设计中提出了逐级可测试性设计原则，解决了多级系统中对中调整和测试的困难。计算了透镜系统的离子光学性能和各种参数对束径束流的影响。最后对系统进行了初步的调试，束斑达到０．１μｍ，得到了预期的结果。
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关键词
聚焦离子束
液态金属离子源
微细加工
透镜
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Keywords
Focused ion Beam(FIB)
liquid metal ion source(lmis)
micro-fabrication
high speed blanking
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分类号
TN305.3
[电子电信—物理电子学]
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题名Au-Si-Be液态金属离子源发展综述
被引量：1
- 4
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作者
康文运
应根裕
汪健如
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机构
清华大学电子工程系
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出处
《真空科学与技术》
CSCD
北大核心
1998年第1期26-32,共7页
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文摘
对Au－Si－Be液态金属离子源的发展进行了较详细的介绍，包括源的结构、发射特性，以及不同的合金配比、源工作温度、环境气体、系统真空度对源发射稳定性的影响。
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关键词
液态金属
离子源
半导体
离子流
金-硅-铍
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Keywords
liquid metal ion source (lmis), Emission characteristics, ions current
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分类号
TN305.3
[电子电信—物理电子学]
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题名液态金属离子源发射尖的制备工艺与技术
- 5
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作者
马向国
顾文琪
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机构
中国科学院电工研究所
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出处
《微细加工技术》
2004年第4期11-15,共5页
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文摘
发射尖是液态金属离子源(LMIS)的关键部件之一,其性能的优劣直接影响到整个离子源的工作稳定性。通过对系统软件和硬件的设计,开发了一套发射尖自动腐蚀装置,该装置可以对发射尖腐蚀过程中的速度和深度以及腐蚀电压进行控制,实现发射尖腐蚀工艺的重复性、可靠性,从而为液态金属离子源以及聚焦离子束系统的研制、开发提供了一个有效的辅助工具。
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关键词
聚焦离子束
液态金属离子源(lmis)
发射尖
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Keywords
focused ion beam
liquid metal ion source(lmis)
emit needle
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分类号
TN305.3
[电子电信—物理电子学]
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题名液态金属离子源发射尖的制备工艺与技术
- 6
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作者
马向国
顾文琪
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机构
中国科学院电工研究所
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出处
《微纳电子技术》
CAS
2005年第3期142-144,共3页
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文摘
发射尖是液态金属离子源的关键部件之一,其性能的优劣直接影响到整个离子源的工作稳定性。本文通过对源尖腐蚀的多次实验,开发了一套发射尖腐蚀装置,该装置可以对发射尖插入腐蚀液的深度加以控制,并能在腐蚀完成后自动切断回路电流,实现了发射尖腐蚀工艺的重复性和可靠性,从而为液态金属离子源以及聚焦离子束系统的研制开发提供了一个有效的辅助工具。
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关键词
聚焦离子束
液态金属离子源
发射尖
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Keywords
focused ion beam
liquid metal ion source (lmis)
emit needle
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分类号
TN405
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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