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离子辅助沉积中离子束流密度的作用 被引量：16
1
作者 张大伟 洪瑞金 +3 位作者 范树海 王英剑 邵建达 范正修 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期477-480,共4页
测量了EndHall离子源在不同条件下的离子束流密度,在不同离子束流密度下进行了Ar离子辅助沉积ZrO2薄膜的实验,研究了离子束流密度对薄膜折射率、晶相的影响根据动量传递模型分析了离子束流密度对薄膜折射率的作用;
关键词 离子辅助 离子束流密度 热尖峰 晶相
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氧化钽薄膜表面形貌和光学性能的研究 被引量：9
2
作者 郭培涛 薛亦渝 +2 位作者 张光勇 王汉华 马中杰 《真空》 CAS 北大核心 2007年第5期32-35,共4页
本文采用电子束蒸发配以Kaufman离子源产生的氧离子辅助沉积了Ta2O5薄膜,用原子力显微镜(AFM)表征了薄膜的表面形貌、表面粗糙度,探讨了Ta2O5薄膜在此工艺下的表面质量。用分光光度计测试了不同厚度下薄膜的透射率,计算出了其折射率。... 本文采用电子束蒸发配以Kaufman离子源产生的氧离子辅助沉积了Ta2O5薄膜,用原子力显微镜(AFM)表征了薄膜的表面形貌、表面粗糙度,探讨了Ta2O5薄膜在此工艺下的表面质量。用分光光度计测试了不同厚度下薄膜的透射率,计算出了其折射率。实验及分析结果表明:所制备的Ta2O5薄膜表面平整度高,是弱吸收薄膜,随薄膜厚度的增加短波截止波长向长波方向略有漂移;折射率随膜厚的变化不大,此制备工艺的可重复性强,制备薄膜性能稳定;薄膜表面粗糙度随膜厚的增加而增加,但是增加不大,所制备Ta2O5薄膜是理想光学薄膜;离子束的加入,使得薄膜表明形貌变化更加复杂,打破了热蒸发制备薄膜的柱状生长模式。 展开更多
关键词 Ta2O5薄膜 离子束辅助 AFM 表面形貌 光学性能
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氧离子束辅助沉积氧化铪薄膜的激光损伤阈值研究 被引量：5
3
作者 张大伟 吕玮阁 +1 位作者 邵建达 范正修 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期31-32,共2页
电子枪蒸发制备了氧化铪薄膜,对氧离子束辅助和未辅助两种情况下的样品进行了折射率、吸收、激光损伤阈值等属性的测试,结果表明,氧离子束辅助沉积的样品与未辅助沉积的样品相比具有高的折射率和高的吸收,以及稍低的激光损伤阈值。经过... 电子枪蒸发制备了氧化铪薄膜,对氧离子束辅助和未辅助两种情况下的样品进行了折射率、吸收、激光损伤阈值等属性的测试,结果表明,氧离子束辅助沉积的样品与未辅助沉积的样品相比具有高的折射率和高的吸收,以及稍低的激光损伤阈值。经过分析发现,薄膜的激光损伤阈值是影响薄膜抗激光特性的不利因素和有利因素竞争的结果,离子束辅助沉积技术在引入结构致密等有利因素的同时,也引入了吸收增加等不利因素。 展开更多
关键词 离子束辅助沉积 氧化铪 激光损伤阈值 微弱吸收
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偏压对中频反应磁控溅射AlN薄膜结构与性能的影响
4
作者 林松盛 刘兰兰 +2 位作者 曾德长 代明江 胡芳 《真空》 CAS 2012年第6期28-31,共4页
采用离子束辅助中频反应磁控溅射技术在单晶硅及YG6硬质合金基体上沉积AlN薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、显微硬度计、薄膜结合强度划痕试验仪等对薄膜结构及性能进行表征,着重研究了偏压对中频反应溅射沉积AlN薄膜... 采用离子束辅助中频反应磁控溅射技术在单晶硅及YG6硬质合金基体上沉积AlN薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、显微硬度计、薄膜结合强度划痕试验仪等对薄膜结构及性能进行表征,着重研究了偏压对中频反应溅射沉积AlN薄膜结构和性能的影响。研究结果表明:所制备的AlN薄膜是由AlN相和Al相组成的,偏压的增大,有利于薄膜结晶度的提高,AlN沿(100)晶面择优取向增强;同时,随着偏压的增加,所沉积的AlN薄膜致密度和膜/基结合力均显著提高,而膜层沉积速率和膜基复合硬度则呈降低的规律。 展开更多
关键词 ALN薄膜 偏压 中频反应磁控溅射 离子束辅助
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离子束辅助真空电弧沉积TiO_(2-x)N_x薄膜及抗菌性能研究
5
作者 成晓玲 胡社军 +2 位作者 胡永俊 谢光荣 魏志钢 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第6期570-574,共5页
采用离子束辅助真空电弧沉积技术在玻璃衬底上制备了氮掺杂的TiO_2薄膜样品,通过X射线衍射(XRD)、XPS以及UV-Vis分光光度计等测试手段对离子束辅助沉积样品的结构、表面成分及抗菌活性进行了分析,研究了经离子束辅助沉积氮掺杂的TiO_2... 采用离子束辅助真空电弧沉积技术在玻璃衬底上制备了氮掺杂的TiO_2薄膜样品,通过X射线衍射(XRD)、XPS以及UV-Vis分光光度计等测试手段对离子束辅助沉积样品的结构、表面成分及抗菌活性进行了分析,研究了经离子束辅助沉积氮掺杂的TiO_2薄膜的抗菌性能。结果表明:离子束辅助沉积的氮掺杂的TiO_3薄膜为非晶态结构,热处理后向锐钛矿转变,出现(101)面的择优取向。离子束流越大,TiO_(2-x)N_x薄膜红移的越少;抗菌活性随着离子束流的增加而减弱,但离子束辅助沉积的掺氮TiO_2薄膜抗菌活性均比传统真空电弧沉积的薄膜抗菌活性高。离子束辅助沉积的掺氮TiO_2薄膜对大肠杆菌、金黄色葡萄球菌自然光照的抑菌率的抗菌率均可达99.9%以上。 展开更多
关键词 二氧化钛 薄膜 离子束辅助 氮掺杂 抗菌特性
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离子束辅助蒸发对ZnS,MgF_2及Al膜层性能的影响
6
作者 王红萍 闫席珍 《太原科技》 2008年第12期92-93,共2页
通过实验数据证明了离子束辅助蒸发对ZnS,MgF2及Al膜层折射率、牢固度及环境耐受性的影响,并简要分析了产生这些影响的原因。
关键词 离子束辅助 膜层 光学薄膜材料
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热障涂层制备技术研究进展 被引量：26
7
作者 牟仁德 何利民 +1 位作者 陆峰 陶春虎 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2007年第5期1-4,共4页
随着燃气涡轮发动机进口工作温度的提高,热障涂层技术受到了广泛的关注。综述了热障涂层研究及应用中的几种主要制备技术,包括等离子喷涂、电子束物理气相沉积、离子束辅助沉积、化学气相沉积等。介绍了上述几种制备技术的沉积原理,分... 随着燃气涡轮发动机进口工作温度的提高,热障涂层技术受到了广泛的关注。综述了热障涂层研究及应用中的几种主要制备技术,包括等离子喷涂、电子束物理气相沉积、离子束辅助沉积、化学气相沉积等。介绍了上述几种制备技术的沉积原理,分析了各自的特点,并从涂层显微结构、涂层寿命、应用范围等方面进行了对比,认为离子束辅助沉积和化学气相沉积技术在未来高性能新型热障涂层制备中具有较大的发展潜力。 展开更多
关键词 热障涂层 等离子喷涂 离子束辅助沉积 化学气相沉积
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离子束合成TiO_2薄膜对医用NiTi合金表面的改性 被引量：19
8
作者 刘敬肖 杨大智 +2 位作者 徐久军 陈吉华 蔡英骥 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期445-450,共6页
采用离子束增强沉积法制备ＴｉＯ２薄膜，对医用ＮｉＴｉ合金进行表面改性处理．系统研究了薄膜的表面组成、结构、形貌及耐蚀性、亲水性等与血液相容性相关的表面性质．ＮｉＴｉ合金表面沉积ＴｉＯ２薄膜后、抗模拟体液的腐蚀性提高，... 采用离子束增强沉积法制备ＴｉＯ２薄膜，对医用ＮｉＴｉ合金进行表面改性处理．系统研究了薄膜的表面组成、结构、形貌及耐蚀性、亲水性等与血液相容性相关的表面性质．ＮｉＴｉ合金表面沉积ＴｉＯ２薄膜后、抗模拟体液的腐蚀性提高，凝血时间延长．为进一步提高ＴｉＯ２薄膜的抗凝血性，对ＴｉＯ２薄膜的进一步表面改性－表面结合肝素分子进行了初步尝试，结果表明，薄膜表面组成发生变化，表面亲水性进一步提高。 展开更多
关键词 NITI合金 TIO2薄膜 表面性质 表面改性 血管内支架 材料 离子束增强沉积法 镍钛合金 二氧化钛 经皮穿刺介入冠状动脉成形术
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硫化锌透镜中长波红外宽带增透膜的研制 被引量：26
9
作者 于天燕 朱福荣 +1 位作者 刘定权 张凤山 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第2期270-273,共4页
硫化锌(ZnS)透镜由于其透光区域较宽,便于光学系统的装校而被经常应用于红外光学系统中,但是其作为基底,镀制中长波红外增透膜却具有相当大的难度,尤其是牢固度的问题.根据任务要求研制的增透膜是在3.5～3.9 μm的中波红外波段及9～12 ... 硫化锌(ZnS)透镜由于其透光区域较宽,便于光学系统的装校而被经常应用于红外光学系统中,但是其作为基底,镀制中长波红外增透膜却具有相当大的难度,尤其是牢固度的问题.根据任务要求研制的增透膜是在3.5～3.9 μm的中波红外波段及9～12 μm的长波红外波段,平均透射率大于90%.由于长波红外区可选用的宽透射区材料较少,所以兼顾材料的选用、光谱特性及可靠性满足使用要求等几方面考虑,最终采用氟化钇(YF3)作为低折射率材料,经过多次实验,采用混蒸、离子辅助等工艺方法以及选取合适的基底温度,通过对其他工艺环节的不断改进,解决了在ZnS透镜上镀制宽带增透膜,由YF3膜层严重的应力作用而导致膜层龟裂的问题,最终研制成功符合使用要求,并且可靠性和光谱特性皆优的中长波红外增透膜. 展开更多
关键词 光学薄膜 红外增透膜 硫化锌透镜 氟化钇 应力作用 离子辅助
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氧化钛薄膜的血液相容性机理探讨 被引量：12
10
作者 张峰 李昌荣 +2 位作者 王向晖 郑志宏 柳襄怀 《生物医学工程学杂志》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第2期146-150,共5页
考察了影响氧化钛薄膜血液相容性的因素，提出了对血液相容性机理的看法，认为血液相容性是表面能和功函数共同作用的结果。表面能决定蛋白质吸附，而功函数决定蛋白质分解，并给出了一个表面能区域。指出一个良好血液相溶性材料，不仅... 考察了影响氧化钛薄膜血液相容性的因素，提出了对血液相容性机理的看法，认为血液相容性是表面能和功函数共同作用的结果。表面能决定蛋白质吸附，而功函数决定蛋白质分解，并给出了一个表面能区域。指出一个良好血液相溶性材料，不仅要有合适的表面能，还要有较小的功函数。 展开更多
关键词 氧化钛薄膜 血液相容性 离子束增强沉积
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离子束辅助沉积技术及其进展 被引量：17
11
作者 傅永庆 朱晓东 +1 位作者 徐可为 何家文 《材料科学与工程》 CAS CSCD 1996年第3期22-32,共11页
本文介绍了离子束辅助沉积技术的基本原理，主要工作特点，设备及主要影响因素。综述了利用该技术在制备各种新型膜层方面研究的新进展。并指出该技术的不足及未来发展方向。
关键词 离子束辅助沉积 薄膜
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刀具涂层的研究进展及最新制备技术 被引量：24
12
作者 王铁钢 张姣姣 阎兵 《真空科学与技术学报》 CSCD 北大核心 2017年第7期727-738,共12页
刀具涂层是机械加工行业实现高效率、高精度、高柔性和绿色制造的有效途径,其优异的综合性能不仅可延长刀具的使用寿命,而且能大幅度提升机械加工效率和零件的表面加工质量,尤其针对钛合金、高温合金等难加工材料的切削,极大降低了加工... 刀具涂层是机械加工行业实现高效率、高精度、高柔性和绿色制造的有效途径,其优异的综合性能不仅可延长刀具的使用寿命,而且能大幅度提升机械加工效率和零件的表面加工质量,尤其针对钛合金、高温合金等难加工材料的切削,极大降低了加工成本。文章概述了刀具涂层的特点、类别及刀具涂层材料的应用,总结了化学气相沉积技术、物理气相沉积技术、物理化学气相沉积技术的原理及优缺点。阐述了刀具涂层的发展历程,即从常用涂层到纳米复合涂层、功能梯度涂层等新型涂层,并对新型刀具涂层和最新制备技术的发展做了简单的分析与介绍。 展开更多
关键词 刀具涂层 磁控溅射 电弧离子镀 离子束辅助沉积 切削性能
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用离子束溅射淀积的氧化物薄膜的折射率 被引量：19
13
作者 顾培夫 李海峰 +2 位作者 章岳光 刘旭 唐晋发 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期290-293,共4页
介绍了用于波长为 15 5 0nm光通讯波分复用 /解复用滤光片的离子束溅射的Ta2 O5和SiO2 薄膜在法里珀罗多层膜中的折射率的实时拟合方法及拟合结果 ,给出了它们的淀积时间、淀积速率和计算的光学厚度 。
关键词 离子束溅射淀积 氧化物薄膜 折射率 滤光片 光通信 波分复用器/解复用器
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离子束辅助沉积Al_2O_3薄膜的微观状态及其物理特性研究 被引量：13
14
作者 张庆瑜 赵文军 +3 位作者 王平生 王亮 徐久军 朱剑豪 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2003年第2期123-128,共6页
本文利用透射电子显微镜、原子力显微镜、X光电子能谱等微观分析手段 ,系统研究了氧离子束辅助离子束沉积方法制备的Al2 O3 薄膜的化学成分、微观结构、表面形貌及其随退火温度的变化 ,并对Al2 O3 薄膜折射率、显微硬度和膜基结合强度... 本文利用透射电子显微镜、原子力显微镜、X光电子能谱等微观分析手段 ,系统研究了氧离子束辅助离子束沉积方法制备的Al2 O3 薄膜的化学成分、微观结构、表面形貌及其随退火温度的变化 ,并对Al2 O3 薄膜折射率、显微硬度和膜基结合强度等物理特性及其随沉积温度的变化进行了详细研究。研究发现 :用离子束辅助沉积制备的薄膜基本满足Al2 O3 的标准成分配比 ;在沉积温度低于 5 0 0℃制备的Al2 O3 薄膜以非晶Al2 O3 相a Al2 O3 为主 ;Al2 O3 薄膜的表面粗糙度、折射率、显微硬度随沉积温度的增加而增加 ;当沉积温度高于 2 0 0℃时 ,薄膜与基体间的膜基结合强度将随沉积温度的增加而下降。分析表明 :薄膜表面形貌与晶体内部的结构相变有关 ,薄膜的退火相变途径为a Al2 O380 0℃ γ Al2 O310 0 0℃ γ Al2 O3 +α Al2 O312 0 0℃ α Al2 O3 。 展开更多
关键词 离子束辅助沉积 A12O3薄膜 微观结构 表面形貌 物理特性 氧化铝薄膜
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离子辅助制备碳化硅改性薄膜 被引量：21
15
作者 陈红 高劲松 +5 位作者 宋琦 王彤彤 申振峰 王笑夷 郑宣鸣 范镝 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期381-385,共5页
介绍了一种利用霍尔型离子源辅助电子束蒸发,在反应烧结碳化硅(RB-SiC)材料上制备硅改性薄膜的方法,研究了不同沉积速率下薄膜改性后的抛光效果。对样品进行了表面散射及反射的测量。通过样品的显微照片可知,硅膜层在沉积速率增大的条... 介绍了一种利用霍尔型离子源辅助电子束蒸发,在反应烧结碳化硅(RB-SiC)材料上制备硅改性薄膜的方法,研究了不同沉积速率下薄膜改性后的抛光效果。对样品进行了表面散射及反射的测量。通过样品的显微照片可知,硅膜层在沉积速率增大的条件下结构趋于疏松。在精细抛光镀制有硅改性薄膜的反应烧结碳化硅样品后,表面散射系数减小到1.46%,反射率接近抛光良好的微晶玻璃。温度冲击实验和表面拉力实验表明:硅膜无龟裂和脱落,性质稳定,与碳化硅基底结合良好。 展开更多
关键词 反应烧结碳化硅 表面改性 离子辅助沉积 霍尔源 表面散射系数
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硒化锌基底2～16μm超宽带硬质红外增透膜的研制 被引量：18
16
作者 潘永强 杭凌侠 +1 位作者 梁海锋 田刚 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期1201-1204,共4页
硒化锌材料具有较宽的透光区,使其在红外区有着广泛的应用,然而其作为基底,镀制超宽带增透膜却有相当大的难度,尤其是膜层强度问题。设计出了硒化锌基底上2～16μm的多层超宽带增透膜,并采用离子束辅助沉积工艺在硒化锌基底上进行了多... 硒化锌材料具有较宽的透光区,使其在红外区有着广泛的应用,然而其作为基底,镀制超宽带增透膜却有相当大的难度,尤其是膜层强度问题。设计出了硒化锌基底上2～16μm的多层超宽带增透膜,并采用离子束辅助沉积工艺在硒化锌基底上进行了多次实验,并对所使用的氟化钇(YF_3)和硒化锌膜料进行了分析,发现YF_3在3400和1640 cm^(-1)两个波数处的吸收峰。通过将低折射率层改为氟化钡和氟化钇的组合层后,在硒化锌基底上成功镀制出了多层宽带增透膜并采用脉冲电弧离子镀技术在多层薄膜的表面镀制了一定厚度的类金刚石(DLC)薄膜,增强了膜层的强度。最终使硒化锌基底上镀制的超宽带增透膜在2～16μm范围内的平均透射比大于93%,峰值透射比大于97%,并且膜层的强度较好。 展开更多
关键词 光学薄膜 超宽带增透膜 离子束辅助沉积 硒化锌 类金刚石薄膜
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端部霍尔离子源工作特性及等离子体特性研究 被引量：14
17
作者 潘永强 朱昌 +1 位作者 陈智利 杭凌侠 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2003年第1期57-60,共4页
研制了一种用于离子束辅助沉积光学薄膜的端部霍尔等离子体离子源 ,论述了该源的工作原理以及伏安特性。着重研究了用五栅网探针测试该源所发射的离子能量的原理和方法 ,并对测量结果进行了分析、比较。
关键词 离子束辅助沉积 光学薄膜 端部霍尔等离子体 离子源 工作原理 束流密度
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电子束物理气相沉积技术研究进展 被引量：16
18
作者 张传鑫 宋广平 +2 位作者 孙跃 赵轶杰 赫晓东 《材料导报（纳米与新材料专辑）》 EI CAS 2012年第2期124-126,146,共4页
电子束物理气相沉积是真空蒸发技术的一种,具有蒸发速率高和无污染的特点,目前广泛应用于材料表面涂层的制备。将离子束辅助和等离子辅助与电子束物理气相沉积技术相结合,可以提高蒸发粒子入射能量和扩散能力,改善由于电子束物理气相沉... 电子束物理气相沉积是真空蒸发技术的一种,具有蒸发速率高和无污染的特点,目前广泛应用于材料表面涂层的制备。将离子束辅助和等离子辅助与电子束物理气相沉积技术相结合,可以提高蒸发粒子入射能量和扩散能力,改善由于电子束物理气相沉积工艺本身存在阴影效应和扩散能力低而引起的沉积材料的不致密等不足。介绍了电子束物理气相沉积技术的概况,并展望了该技术的未来应用及发展前景。 展开更多
关键词 电子束物理气相沉积 离子束辅助沉积 等离子辅助沉积
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0.6～1.55μm可见/近红外超宽带增透膜的研制 被引量：18
19
作者 杨道奇 付秀华 +2 位作者 耿似玉 杨永亮 潘永刚 《中国光学》 EI CAS 2012年第3期270-276,共7页
针对可见/近红外宽谱段光谱仪探测器窗口的使用要求,选择TiO2、M1和SiO2分别作为高、中、低折射率镀膜材料,通过不同方案对膜系进行了优化设计和比较。采用电子束蒸发兼离子束辅助沉积技术,通过不断调整工艺参数,得到了光学性能优良、... 针对可见/近红外宽谱段光谱仪探测器窗口的使用要求,选择TiO2、M1和SiO2分别作为高、中、低折射率镀膜材料,通过不同方案对膜系进行了优化设计和比较。采用电子束蒸发兼离子束辅助沉积技术,通过不断调整工艺参数,得到了光学性能优良、制备重复性好、牢固度强且致密的可见近红外宽带增透膜。该增透膜在(650±10)nm、900～1 100 nm和(1470±10)nm三波段内平均透过率≥99%,在620～1 550 nm宽波段内整体平均透射率≥97%,满足了光谱仪探测器窗口的实际使用要求。 展开更多
关键词 光学薄膜 宽带增透膜 电子束蒸发 离子束辅助沉积
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离子束辅助薄膜沉积 被引量：13
20
作者 张宇峰 张溪文 +1 位作者 任兆杏 韩高荣 《材料导报》 EI CAS CSCD 2003年第11期40-43,共4页
离子束辅助沉积(IBAD)是在气相沉积的同时辅以离子束轰击的薄膜制备方法,可在低温下合成致密、均匀的薄膜。介绍了IBAD技术的概况,列举了具体应用领域,描述了射频ICP离子源辅助电子束蒸发,最后对IBAD的前景加以评论。
关键词 离子束辅助薄膜沉积 IBAD 薄膜制备 等离子体 光学性能
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