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四激光束干涉光刻制造纳米级孔阵的理论分析 被引量:13
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作者 张锦 冯伯儒 郭永康 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期398-401,共4页
为提供一个在大范围内曝光出深亚微米甚至纳米级周期性密集图形的廉价的方法 ,研究了四激光束干涉光刻的原理 ,分析了干涉曝光的结果 ,并进行了计算机模拟 用现有的光源 ,如4 4 2nm、365nm、2 4 8nm、193nm激光 ,曝光得到的图形的临界... 为提供一个在大范围内曝光出深亚微米甚至纳米级周期性密集图形的廉价的方法 ,研究了四激光束干涉光刻的原理 ,分析了干涉曝光的结果 ,并进行了计算机模拟 用现有的光源 ,如4 4 2nm、365nm、2 4 8nm、193nm激光 ,曝光得到的图形的临界尺寸容易做到 180~ 70nm 具有实际上无限制的焦深和容易实现的大视场 适合硅基CCDs。 展开更多
关键词 纳米级孔阵 四激光束干涉光刻 微细加工光学技术 干涉曝光 计算机模拟 半导体制造业
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表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文) 被引量:5
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作者 董启明 郭小伟 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第5期558-564,共7页
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻... 表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持. 展开更多
关键词 干涉光刻 表面等离子体激元 克莱舒曼结构
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2-μm single longitudinal mode GaSb-based laterally coupled distributed feedback laser with regrowth-free shallow-etched gratings by interference lithography 被引量:7
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作者 杨成奥 张宇 +6 位作者 廖永平 邢军亮 魏思航 张立春 徐应强 倪海桥 牛智川 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第2期181-185,共5页
We report a type-I Ga Sb-based laterally coupled distributed-feedback(LC-DFB) laser with shallow-etched gratings operating a continuous wave at room temperature without re-growth process. Second-order Bragg gratings... We report a type-I Ga Sb-based laterally coupled distributed-feedback(LC-DFB) laser with shallow-etched gratings operating a continuous wave at room temperature without re-growth process. Second-order Bragg gratings are fabricated alongside the ridge waveguide by interference lithography. Index-coupled LC-DFB laser with a cavity of 1500 μm achieves single longitudinal mode continuous-wave operation at 20℃ with side mode suppression ratio(SMSR) as high as 24 dB.The maximum single mode continuous-wave output power is about 10 mW at room temperature(uncoated facet). A low threshold current density of 230 A/cm^2 is achieved with differential quantum efficiency estimated to be 93 mW/A. The laser shows a good wavelength stability against drive current and working temperature. 展开更多
关键词 laterally coupled distributed feedback laser LC-DFB interference lithography GASB second-order Bragg grating
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入射光束角度及强度偏差对多光束干涉光刻结果的影响 被引量:7
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作者 马丽娜 张锦 +5 位作者 蒋世磊 孙国斌 杨国锋 杭凌侠 弥谦 计玮 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第10期45-51,共7页
建立了多光束干涉光刻干涉场内光强分布的数学模型,仿真计算了双光束、三光束、四光束干涉曝光情况下,入射光束存在角度偏差以及各入射光强不同时的干涉图样,并与理想状态的模拟结果进行对比.结果表明:光束入射角度偏差主要影响干涉图... 建立了多光束干涉光刻干涉场内光强分布的数学模型,仿真计算了双光束、三光束、四光束干涉曝光情况下,入射光束存在角度偏差以及各入射光强不同时的干涉图样,并与理想状态的模拟结果进行对比.结果表明:光束入射角度偏差主要影响干涉图样的形状和周期;入射光的光强不同是降低图形对比度的主要因素.利用402nm波长激光光源进行多光束干涉光刻实验.设定激光器输出功率32mW,每两束光夹角为16°,通过控制曝光、显影工艺,双光束干涉光刻产生周期为1.4μm的光栅、点阵和孔阵结构,三光束干涉光刻产生周期为1.7μm的六边形图形阵列.该模型可为利用干涉光刻技术制备微细周期结构,提高光刻图形质量,提供一定的理论参考. 展开更多
关键词 多光束干涉 干涉光刻 周期结构 角度偏差 光强偏差 干涉光强分布
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基于数字微镜器件亚微米制备技术研究 被引量:7
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作者 陆锦洪 谢向生 +1 位作者 张培晴 周建英 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第4期600-604,共5页
为了实时、便捷的改变光刻图案以用于微纳光子器件制备,使用数字微镜器件构建了一套无掩模亚微米尺度制备系统.基于阿贝成像原理分析了周期结构在相干光照明下的成像过程,并用数值模拟以及空间滤波实验证明了这个过程.使用此实验系统制... 为了实时、便捷的改变光刻图案以用于微纳光子器件制备,使用数字微镜器件构建了一套无掩模亚微米尺度制备系统.基于阿贝成像原理分析了周期结构在相干光照明下的成像过程,并用数值模拟以及空间滤波实验证明了这个过程.使用此实验系统制作出了周期为900nm的二维结构以及周期为数十微米的带缺陷结构.实验表明,使用数字微镜器件可以方便的制作出亚微米尺度的图案. 展开更多
关键词 干涉光刻 傅里叶光学 微纳光子器件 阿贝成像原理 数字微镜器件
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The theoretic analysis of maskless surface plasmon resonant interference lithography by prism coupling 被引量:5
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作者 方亮 杜惊雷 +4 位作者 郭小伟 王景全 张志友 罗先刚 杜春雷 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2008年第7期2499-2503,共5页
The use of an attenuated total reflection-coupling mode of prism coated with metal film to excite the interference of the surface plasmon polaritons (SPPs) was proposed for periodic patterning with a resolution of s... The use of an attenuated total reflection-coupling mode of prism coated with metal film to excite the interference of the surface plasmon polaritons (SPPs) was proposed for periodic patterning with a resolution of subwavelength scale. High intensity of electric field can be obtained because of the coupling between SPPs and evanescence under a resonance condition, which can reduce exposure time and improve contrast. In this paper, several critical parameters for maskless surface plasmon resonant lithography are described, and the preliminary simulation based on a finite difference timedomain technique agrees well with the theoretical analysis, which demonstrates this scheme and provides the theoretical basis for further experiments. 展开更多
关键词 surface plasmon polaritons (SPPs) ENHANCEMENT interference lithography RESOLUTION
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三光束激光干涉光刻的实现方法 被引量:6
7
作者 刘国强 张锦 周崇喜 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第12期3250-3254,共5页
分析了多光束空间分布产生的误差对图形的影响,通过计算优化得到三光束产生的干涉图形在整个面内有着更好的图形稳定性。利用氦镉激光光源通过特定的光学系统形成空间分布近似旋转对称的三束光,对光致抗蚀剂进行干涉曝光,制作出了周期60... 分析了多光束空间分布产生的误差对图形的影响,通过计算优化得到三光束产生的干涉图形在整个面内有着更好的图形稳定性。利用氦镉激光光源通过特定的光学系统形成空间分布近似旋转对称的三束光,对光致抗蚀剂进行干涉曝光,制作出了周期600nm、高度350nm的蜂窝状点阵,测量结果表明该系统具有很好的图形重复性和稳定性,同时降低了对于光学光路的精密性要求。 展开更多
关键词 干涉光刻 三光束 图形稳定性 周期性点阵
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基于傅里叶变换光学系统的动态多光束干涉光刻 被引量:2
8
作者 叶燕 马亚骐 +3 位作者 宋志 路畅 许宜申 陈林森 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第8期265-277,共13页
变参量微纳结构在二维平面内交叉、分段排布可以实现超表面器件的多路复用和多功能集成。为实现交叉、分段变参量微纳结构的干涉制备,提出了孔径光阑与相位元件联合调制的傅里叶变换光学系统。利用透镜的傅里叶变换特性和相位元件衍射... 变参量微纳结构在二维平面内交叉、分段排布可以实现超表面器件的多路复用和多功能集成。为实现交叉、分段变参量微纳结构的干涉制备,提出了孔径光阑与相位元件联合调制的傅里叶变换光学系统。利用透镜的傅里叶变换特性和相位元件衍射光线的几何传播特性,阐明了傅里叶成像面上交叉、分段分布的多干涉光场的生成方法与调控规律。同时,针对目标分布的变参量微纳结构,反演设计了多像素孔径光阑与基于光栅和变参量光栅的相位元件,实验获得了交叉、分段分布的多干涉光场。将多干涉光场与微缩投影结合可制备分段排布的纳米光栅。将动态调控的多干涉光场分时复用可制备分段排布的变参量纳米光栅。 展开更多
关键词 光学设计 相位调制 4f光学系统 空间变参量 干涉光刻
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基于电介质波导耦合的超分辨干涉光刻研究
9
作者 李小甜 张文鹏 +3 位作者 周毅 温中泉 陈刚 梁高峰 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第12期409-414,共6页
基于电介质波导耦合理论,本课题组提出了一种超分辨干涉光刻方法。该方法通过构建非对称波导实现了倏逝波的增强传输和干涉调控。同时,通过优化设计电介质光栅,利用波导耦合效应,形成了单一衍射级次的选频传输,获得了光场强度大、均匀... 基于电介质波导耦合理论,本课题组提出了一种超分辨干涉光刻方法。该方法通过构建非对称波导实现了倏逝波的增强传输和干涉调控。同时,通过优化设计电介质光栅,利用波导耦合效应,形成了单一衍射级次的选频传输,获得了光场强度大、均匀性好、特征尺寸约为48.75 nm(约为0.12λ)的干涉图形。基于此方法设计的超分辨光刻器件膜层结构简单,降低了近场光刻器件的结构复杂度,提高了光利用效率。该方法为倏逝波调控提供了新思路,也拓展了超分辨光刻器件的设计原理。 展开更多
关键词 波导 电介质光栅 超分辨 干涉光刻
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可见光波段亚波长防伪光栅的实验研究 被引量:4
10
作者 陈永利 赵达尊 +2 位作者 张静方 朱军 王晓利 《北京理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期139-142,共4页
研究可见光波段亚波长防伪光栅的制做.给出了用2θ夹角一次光刻、2θ夹角摆动δ角两次光刻和2θ夹角旋转β角两次光刻等干涉光刻工艺设计和构建可见光波段亚波长光栅微结构的基本原理.优化设计的干板表面曝光量分布函数可用于构建特定... 研究可见光波段亚波长防伪光栅的制做.给出了用2θ夹角一次光刻、2θ夹角摆动δ角两次光刻和2θ夹角旋转β角两次光刻等干涉光刻工艺设计和构建可见光波段亚波长光栅微结构的基本原理.优化设计的干板表面曝光量分布函数可用于构建特定面形分布的光栅微结构.制作了可见光波段的1维和2维亚波长光栅微结构,给出了其SEM和AFM实验数据和理论分析图形,检验了微结构的彩色防伪光变效果.实验结果表明:该干涉光刻工艺能够构建出表面光滑、深度较大的复杂光栅微结构,并能展现出一定的彩色光变效果. 展开更多
关键词 亚波长光栅微结构 防伪光变图像 高频光栅构建 干涉光刻
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13.4nm软X射线干涉光刻透射光栅的优化设计 被引量:3
11
作者 朱伟忠 吴衍青 +3 位作者 陈敏 王纳秀 邰仁忠 徐洪杰 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第7期1225-1230,共6页
基于严格的矢量耦合波方法,结合纳米级光栅实际制作工艺,定量分析了在13.4 nm软X射线(TE偏振)正入射条件下,光栅材料、厚度、占空比、梯形浮雕底角大小等因素对光栅一级衍射效率的影响。结果表明,在此波段处,Si3N4、Cr、Au浮雕的相位作... 基于严格的矢量耦合波方法,结合纳米级光栅实际制作工艺,定量分析了在13.4 nm软X射线(TE偏振)正入射条件下,光栅材料、厚度、占空比、梯形浮雕底角大小等因素对光栅一级衍射效率的影响。结果表明,在此波段处,Si3N4、Cr、Au浮雕的相位作用对光栅衍射起重要影响,其中非金属材料Si3N4比金属材料Cr、Au的相位作用更明显。最后优化得到了用Si(或Si3N4)做衬底的Si3N4、Cr、Au光栅,分析结果显示,其一级衍射效率优于目前用于13.4 nm软X射线干涉光刻的Cr、Si3N4复合光栅。 展开更多
关键词 干涉光刻 软X射线透射光栅 严格耦合波方法 复折射率 衍射效率
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干涉条纹相位锁定系统 被引量:3
12
作者 鲁森 杨开明 +2 位作者 朱煜 王磊杰 张鸣 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第1期1-7,共7页
干涉曝光系统中干涉条纹的相位漂移会导致曝光对比度降低,为了有效抑制相位漂移,利用声光调制器对干涉光频率进行实时调制。分析了条纹漂移的特点,指出了主要干扰源是0~5 Hz的空气扰动。应用数值分析法得到了条纹漂移量与曝光对比度的... 干涉曝光系统中干涉条纹的相位漂移会导致曝光对比度降低,为了有效抑制相位漂移,利用声光调制器对干涉光频率进行实时调制。分析了条纹漂移的特点,指出了主要干扰源是0~5 Hz的空气扰动。应用数值分析法得到了条纹漂移量与曝光对比度的关系曲线,并以此为依据提出了条纹锁定精度的目标值。针对所要达到的锁定精度,给出了系统硬件的选型方法,搭建了基于RTX的干涉条纹相位锁定系统。利用闭环辨识的方法得到了系统的参数模型,完成了反馈控制器的设计,最终实现了实时锁定条纹相位的功能。实验结果表明,在400Hz的控制频率下,干涉锁定系统能够有效抑制0~5Hz的低频扰动,干涉条纹相位漂移的3σ值可以控制在±0.04个条纹周期内,满足干涉光刻的曝光对比度要求。 展开更多
关键词 干涉曝光 相位锁定 曝光对比度 声光调制器 RTX
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大面积金纳米线光栅的制备 被引量:3
13
作者 李响 庞兆广 张新平 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第12期1850-1854,共5页
利用激光干涉光刻和金纳米颗粒胶体溶液制备了宽度在100nm以下且总面积达到平方厘米量级的金纳米线光栅结构.制备过程中,首先在表面镀有厚度约为200nm的铟锡氧化物薄膜的面积为1cm×1cm的玻璃基片表面旋涂光刻胶,然后利用紫外激光... 利用激光干涉光刻和金纳米颗粒胶体溶液制备了宽度在100nm以下且总面积达到平方厘米量级的金纳米线光栅结构.制备过程中,首先在表面镀有厚度约为200nm的铟锡氧化物薄膜的面积为1cm×1cm的玻璃基片表面旋涂光刻胶,然后利用紫外激光干涉光刻制备光刻胶纳米光栅结构.有效控制干涉光刻过程中的曝光量、显影时间,获得小占空比的光刻胶光栅.再以光刻胶纳米光栅作为模板,旋涂金纳米颗粒胶体溶液.充分利用金纳米颗粒胶体溶液在光刻胶表面浸润性差的特点,限制旋涂后留存在光刻胶光栅槽中金纳米颗粒的数量,从而达到限制金纳米线宽度的目的.最后在250℃将样品进行退火处理5min.获得了周期为400nm且占空比小于1:4的金纳米线光栅结构,其有效面积为1cm2.以波导共振模式与粒子等离子共振模式间耦合作用为特征的光谱学响应特性验证了波导耦合金属光子晶体的成功制备,为小传感体积新型生物传感器的开发提供了性能良好的金属光子晶体芯片. 展开更多
关键词 干涉光刻 金纳米颗粒胶体 波导耦合金属光子晶体 粒子等离子共振模式 角分辨调谐特性
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SPPs光刻曝光显影模拟研究 被引量:2
14
作者 郑宇 王景全 +2 位作者 李敏 牛晓云 杜惊雷 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期792-796,共5页
基于薄层抗蚀剂的曝光模型,建立了普遍适应于表面等离子体激元光刻的抗蚀剂曝光模型.选用AZ1500和AR3170两种抗蚀剂对表面等离子体激元干涉光刻曝光显影过程进行计算对比,获得表面等离子体激元光刻显影的最终轮廓.由此得出工艺优化的条... 基于薄层抗蚀剂的曝光模型,建立了普遍适应于表面等离子体激元光刻的抗蚀剂曝光模型.选用AZ1500和AR3170两种抗蚀剂对表面等离子体激元干涉光刻曝光显影过程进行计算对比,获得表面等离子体激元光刻显影的最终轮廓.由此得出工艺优化的条件,对表面等离子体激元光刻的进一步工作和实验开展有着重要的意义. 展开更多
关键词 SPPs光刻 干涉光刻 曝光潜像 显影轮廓
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用双光束干涉制作二维光子晶体 被引量:2
15
作者 李景娟 张新平 +3 位作者 翟天瑞 王丽 江少林 王越 《大学物理》 北大核心 2012年第5期54-57,共4页
利用双光束干涉,在光敏材料上制作光子晶体结构.通过改变两束光之间的夹角可以改变制备样品的周期.改变曝光次数以及两次曝光时干涉条纹的夹角可以分别得到一维、二维正方晶格以及二维三角晶格结构的光子晶体.
关键词 双光束干涉 干涉光刻 光子晶体制作
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相位调制实现变参量光栅结构的干涉光刻 被引量:1
16
作者 路畅 许峰川 +2 位作者 许宜申 陈林森 叶燕 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第15期1836-1844,共9页
几何相位的超表面透镜不同于传统折射透镜,相位波前的调制并不依赖于传播过程的累积相位,而是通过空间变化的单元结构改变局域偏振态,引入共轭的附加相位使光束聚焦。为了实现几何相位超透镜变参量结构的干涉制备,提出了空间变参量相位... 几何相位的超表面透镜不同于传统折射透镜,相位波前的调制并不依赖于传播过程的累积相位,而是通过空间变化的单元结构改变局域偏振态,引入共轭的附加相位使光束聚焦。为了实现几何相位超透镜变参量结构的干涉制备,提出了空间变参量相位元件调制的傅里叶变换光学系统,利用4f光路的傅里叶变换原理以及相位元件衍射光线的几何传播特性,分析了相位元件空频、取向以及分布区域等对系统成像面光场特性的影响,阐明了空间变参量相位元件分段调制入射光,同时生成多个干涉光场实现变取向、变周期微米结构的制备方法。在此基础之上,利用设计制备的变参量相位元件,生成了圆、环分布下变参量干涉光场,制备了变取向、变周期,半径为1892μm的微米光栅结构,光栅取向为0°,125°,235°,周期分别为7.22,6.51,5.78μm。该系统光路简单,易与投影曝光相集成,为基于空间变参量结构单元的几何相位超透镜的制备提供了一种新的途径。 展开更多
关键词 干涉光刻 4f光学系统 空间变参量 相位调制
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制作光纤光栅的相移掩模-双光束干涉曝光方法 被引量:1
17
作者 冯伯儒 张锦 +1 位作者 宗德蓉 蒋世磊 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2003年第1期5-7,共3页
介绍将无铬相移掩模技术和双光束干涉曝光技术用于制作纳米级图形光纤光栅的基本原 理和实验系统设计。提出一种用可移动反射镜使写入光束扫描固定在一起的相移掩模和光纤组合体制作光纤光栅的方法,既便于系统调整,增强曝光能量,又可方... 介绍将无铬相移掩模技术和双光束干涉曝光技术用于制作纳米级图形光纤光栅的基本原 理和实验系统设计。提出一种用可移动反射镜使写入光束扫描固定在一起的相移掩模和光纤组合体制作光纤光栅的方法,既便于系统调整,增强曝光能量,又可方便制作高分辨力、长尺寸光纤光栅,无论是周期光栅,还是非周期光栅。 展开更多
关键词 光纤光栅 相移掩模 双曝光技术 干涉光刻 PSM 微光刻技术
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波导耦合纳米光栅结构的光学滤波和角分辨调谐特性 被引量:1
18
作者 宋娇阳 冯胜飞 +2 位作者 张新平 刘红梅 宋晏蓉 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第9期6542-6548,共7页
利用干涉光刻技术制备了波导耦合纳米光栅结构,系统研究了其波导共振模式的角分辨调谐特性及其对光栅参数、入射光偏振特性的依赖关系,并作了相应的理论模拟.特别研究了光栅周期和厚度对波导共振模式角分辨调谐速率的影响.实验结果对于... 利用干涉光刻技术制备了波导耦合纳米光栅结构,系统研究了其波导共振模式的角分辨调谐特性及其对光栅参数、入射光偏振特性的依赖关系,并作了相应的理论模拟.特别研究了光栅周期和厚度对波导共振模式角分辨调谐速率的影响.实验结果对于器件进一步应用于滤波、生物传感技术具有重要的指导意义. 展开更多
关键词 波导耦合光栅 干涉光刻 角分辨 调谐速率
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干涉高斯光诱导的表面等离子激元驻波场的分析 被引量:2
19
作者 黄频波 邹文栋 +1 位作者 郭斐 江茂清 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第10期219-224,共6页
考虑到实际入射光强的空间分布不均匀,基于Kretschmann模型并采用角谱方法分析模拟了两束高斯光干涉诱导表面等离子激元(SPP)驻波场。与理想平面波不同,高斯光诱导的SPP干涉条纹幅值大小不等,分布复杂,这表明光强空间非均匀程度会严重... 考虑到实际入射光强的空间分布不均匀,基于Kretschmann模型并采用角谱方法分析模拟了两束高斯光干涉诱导表面等离子激元(SPP)驻波场。与理想平面波不同,高斯光诱导的SPP干涉条纹幅值大小不等,分布复杂,这表明光强空间非均匀程度会严重地影响到曝光深度的分布。还分析了金属薄膜的厚度、损耗以及光刻胶的介电常数对SPP驻波场的影响,并得出不恰当的金属板厚和细微损耗都会极大削弱SPP驻波场,而如果光刻胶的介电常数过大则有可能产生不了表面等离子体共振的结论。 展开更多
关键词 相干光学 干涉光刻 高斯光 表面等离子激元
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多束SPPs干涉成像模拟研究 被引量:1
20
作者 郑宇 杨黠 +1 位作者 李群华 杜惊雷 《四川理工学院学报(自然科学版)》 CAS 2010年第1期91-94,共4页
多束SPPs干涉光刻是一种可突破衍射极限的新型纳米加工方法。在分析SPPs激励和传输机理基础上,建立多束SPPs干涉成像模型,编制了能快速准确地计算多束SPPs干涉光刻成像的仿真软件。并在此基础上对多束SPPs的干涉像进行了模拟,发现如果... 多束SPPs干涉光刻是一种可突破衍射极限的新型纳米加工方法。在分析SPPs激励和传输机理基础上,建立多束SPPs干涉成像模型,编制了能快速准确地计算多束SPPs干涉光刻成像的仿真软件。并在此基础上对多束SPPs的干涉像进行了模拟,发现如果将两束光增加到四束或八束光激发SPPs干涉,则可获得二维分布的周期性光斑点阵,在制作纳米光子晶体材料方面有很强的应用前景。随着入射SPPs的增加,当棱锥棱数足够多近似于一个圆锥时,干涉场会形成一系列的同心圆结构,可考虑实现纳米级波带片的制作。 展开更多
关键词 多束SPPs 干涉光刻 光子晶体 模拟研究
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