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反铁磁性交换作用对稀磁半导体(DMS)居里温度的影响 被引量:7
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作者 胡作启 陈飞 《磁性材料及器件》 CAS CSCD 2007年第4期21-24,共4页
DMS的居里温度与空穴载流子浓度有着极大的关系。基于局域空穴模型,本文定量地分析了反铁磁性交换作用对DMS居里温度的影响。结果表明反铁磁性交换作用对居里温度的影响与磁性离子浓度ni和空穴浓度nc的比值有着密切关系.当ni/nc>100... DMS的居里温度与空穴载流子浓度有着极大的关系。基于局域空穴模型,本文定量地分析了反铁磁性交换作用对DMS居里温度的影响。结果表明反铁磁性交换作用对居里温度的影响与磁性离子浓度ni和空穴浓度nc的比值有着密切关系.当ni/nc>10000 时,反铁磁性交换作用对居里温度的影响十分显著;当 ni/nc<10时,反铁磁性交换作用对居里温度的影响将会明显减弱,随着空穴浓度的增加,空穴对反铁磁性交换作用有强的抑制作用。 展开更多
关键词 稀磁半导体 居里温度 反铁磁性交换作用
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Co掺杂SiC稀磁半导体薄膜的磁与电阻率特性 被引量:2
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作者 李响 安玉凯 +3 位作者 肖庆 段岭申 吴忠华 刘技文 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第7期1038-1041,共4页
采用射频磁控溅射法制备了不同Co掺杂浓度的SiC薄膜。X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、Hall以及电阻率-温度(-ρT)曲线测试结果表明,Co掺杂SiC薄膜具有4H-SiC(100)晶体结构和典型的半导体导电特征,未发现Co金属团簇以及其它CoSi... 采用射频磁控溅射法制备了不同Co掺杂浓度的SiC薄膜。X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、Hall以及电阻率-温度(-ρT)曲线测试结果表明,Co掺杂SiC薄膜具有4H-SiC(100)晶体结构和典型的半导体导电特征,未发现Co金属团簇以及其它CoSi第二相化合物生成,显示了Co原子以替位掺杂的形式进入了SiC晶格;电流-电压(I-V)特性测试发现,Co掺杂SiC薄膜是一种非均匀掺杂;PPMS磁性测量表明,Co掺杂SiC薄膜具有明显的室温铁磁性,饱和磁化强度随着Co掺杂浓度的增加而增加,其铁磁性的来源符合缺陷机制的束缚磁极子(BMP)机制。 展开更多
关键词 SIC 稀磁半导体(dms) CO掺杂 铁磁性
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过渡金属掺杂CuGaS_2的磁学性质
3
作者 曾志钦 《漳州师范学院学报(自然科学版)》 2005年第3期71-76,共6页
应用基于自旋极化的第一性原理系统地对3d过渡金属(TM=V、Cr、Mn、Fe、Co和Ni)掺杂CuGaS2的磁学性质进行理论计算.通过对过渡金属对CuGaS2掺杂,在铁磁状态下取代不同离子(Cu和Ga)结合能的比较,我们发现:过渡金属在CuGaS2中比较容易占据G... 应用基于自旋极化的第一性原理系统地对3d过渡金属(TM=V、Cr、Mn、Fe、Co和Ni)掺杂CuGaS2的磁学性质进行理论计算.通过对过渡金属对CuGaS2掺杂,在铁磁状态下取代不同离子(Cu和Ga)结合能的比较,我们发现:过渡金属在CuGaS2中比较容易占据Ga的位置.通过对稀磁半导体(DMS)磁性稳定性的研究,可以发现到:在Cr、Mn掺杂的CuGaS2中,DMS表现为铁磁状态,其居里温度将可能高于(Ga,Mn)As,其他过渡金属掺杂时,DMS则表现为反铁磁状态.并验算了一条判断DMS磁性状态的简单规律. 展开更多
关键词 稀磁半导体(dms) 居里温度(TC) 过渡金属(TM)
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Analysis of magnetic mechanisms of 3d-doped ZnO diluted magnetic semiconductors by an abnormal peak on M-T curve 被引量:1
4
作者 PENG YingZi THOMAS Liew +1 位作者 YE ZhiZhen ZHANG YinZhu 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2007年第20期2742-2746,共5页
The crystallographic structures and magnetic properties of a Zn0.95Co0.05O thin film deposited on a C-sapphire substrate using a dual-beam pulsed laser deposition method were characterized. It was shown from crystallo... The crystallographic structures and magnetic properties of a Zn0.95Co0.05O thin film deposited on a C-sapphire substrate using a dual-beam pulsed laser deposition method were characterized. It was shown from crystallographic analysis that the film belongs to the wurtzite structure with the C-axis aligned with that of the substrate. Magnetic hysteresis loops were observed till up to room temperature. A small peak around 55 K was noticed on the magnetization vs. temperature curve. The corresponding temperature of the small peak is close to that of ‘the abnormal peak’ reported by X.M. Zhang et al. From the results obtained, no correlation was found between the abnormal peak and the quantum effects. The magnetic behaviors in the Zn0.95Co0.05O film cannot be explained by the ferromagnetism in diluted magnetic semiconductors. The magnetic mechanisms in ZnO-based diluted magnetic semiconductors are also discussed. 展开更多
关键词 弱磁半导体 抗磁性 氧化锌 性能
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非极性a面p型GaN∶Mn薄膜的结构、形貌和铁磁性质
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作者 孙莉莉 闫发旺 +4 位作者 张会肖 王军喜 曾一平 王国宏 李晋闽 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期127-128,139,共3页
采用离子注入和快速退火技术制备了稀磁非极性a面p型GaN∶Mn薄膜。通过高分辨X射线衍射、原子力显微镜和超导量子干涉仪等测试手段,对样品的结构、形貌和磁性质进行了分析。测试分析结果表明,在退火过程中生成了对样品的铁磁性质起重要... 采用离子注入和快速退火技术制备了稀磁非极性a面p型GaN∶Mn薄膜。通过高分辨X射线衍射、原子力显微镜和超导量子干涉仪等测试手段,对样品的结构、形貌和磁性质进行了分析。测试分析结果表明,在退火过程中生成了对样品的铁磁性质起重要贡献的Mn3Ga相,快速退火过程可以有效恢复离子注入过程对样品的损伤,所得非极性GaN∶Mn退火样品具有室温铁磁特性。 展开更多
关键词 稀磁半导体 非极性a面p-GaN 离子注入 室温铁磁性
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过渡金属掺杂的I-III-VI_2黄铜矿电磁性质的第一性原理研究
6
作者 曾永志 陆培民 《福州大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2008年第4期517-522,共6页
应用自旋极化的第一性原理对过渡金属(TM=V、Cr、Mn、Fe、Co和N i)掺杂的CuGaSe2和CuGaS2进行研究.计算结果表明:Cr和Mn掺杂的I-III-VI2稀磁半导体(DMS)表现为铁磁性质,而V、Fe、Co和Ni掺杂时表现为反铁磁性质.对稀磁半导体的磁矩研究,... 应用自旋极化的第一性原理对过渡金属(TM=V、Cr、Mn、Fe、Co和N i)掺杂的CuGaSe2和CuGaS2进行研究.计算结果表明:Cr和Mn掺杂的I-III-VI2稀磁半导体(DMS)表现为铁磁性质,而V、Fe、Co和Ni掺杂时表现为反铁磁性质.对稀磁半导体的磁矩研究,其结果符合一条简单的规律:当磁性离子3d的t2g轨道完全被占据时,磁性离子的磁矩比理论的期望值小;当磁性离子3d的t2g轨道处于全空时,磁性离子的磁矩比理论的期望值大;而当磁性离子3d的t2g轨道处于部分被占据时,磁性离子的磁矩与理论值的差距主要取决于晶体的对称性和磁性离子的状态. 展开更多
关键词 稀磁半导体 过渡金属 磁矩
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Mn离子注入Si材料的结构分析及磁学性质
7
作者 郭立平 欧阳中亮 +4 位作者 彭国良 叶舟 黎明 彭挺 潘杨 《武汉大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2009年第6期656-660,共5页
采用剂量分别为1×1016(1E16),3×1016(3E16)和5×1016cm-2(5E16)的Mn离子注入方法制备Si基稀磁半导体样品.利用透射电子显微镜(TEM)和交变梯度磁强计(AGM)对不同剂量的样品退火前后的结构和磁学特性的变化进行了表征.实验... 采用剂量分别为1×1016(1E16),3×1016(3E16)和5×1016cm-2(5E16)的Mn离子注入方法制备Si基稀磁半导体样品.利用透射电子显微镜(TEM)和交变梯度磁强计(AGM)对不同剂量的样品退火前后的结构和磁学特性的变化进行了表征.实验发现,退火前,只有5E16样品出现球状偏析物,其直径在5 nm左右,但也有个别直径15 nm左右的大团簇.N2环境下800℃退火5 min部分修复了1E16样品注入区域的晶格损伤,并使该剂量样品出现偏析物,直径多在10 nm左右.衍射花样分析表明该偏析物为具有晶面间距0.333,0.191和0.163 nm的微晶,这说明该微晶最有可能是MnSi1.7.退火前,样品饱和磁化强度随注入剂量增大而显著增强,但从3E16到5E16增速放缓,退火使低剂量样品磁性大幅减弱,说明偏析物不利磁性增强. 展开更多
关键词 离子注入 Si基稀磁半导体(dms) 透射电子显微镜(TEM) 衍射花样
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Annealing effect on structural and magnetic properties of Tb and Cr co-implanted AIGaN
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作者 Chun-Hai YIN Chao LIU +1 位作者 Dong-Yan TAO Yi-Ping ZENG 《Frontiers of Materials Science》 SCIE CSCD 2012年第4期366-370,共5页
Unintentionally doped AIGaN layers, which were co.implanted with 400 keV Tb+ ions and 200keV Cr+ ions at doses of 1.5×1015cm-2, have been rapid thermally annealed at 800℃ and 900℃ for 5 min in flowing N2, Com... Unintentionally doped AIGaN layers, which were co.implanted with 400 keV Tb+ ions and 200keV Cr+ ions at doses of 1.5×1015cm-2, have been rapid thermally annealed at 800℃ and 900℃ for 5 min in flowing N2, Compared with Tb implanted AIGaN sample, the Tb and Cr co-implanted sample revesls a larger magnetic signal. In this work, the annealing effect on the structural and magnetic properties of Tb and Cr co-implanted AIGaN thin films have been studied. XRD and raman scattering results indicate that no second phase presents in thetin films and mast of the implantation induced defects can be removed by post-implantation annealing. Superconducting quantum interference device (SQUID) measurements show clear room temperature ferromagnetic behavior and an increase in the saturation magnetization as a result of annealing. The saturation magnetization of the 900℃ annealed sample is about 15 times higher than that of the 800℃ annealed sample. 展开更多
关键词 diluted magnetic semiconductor dms). room temperature ferromagne-tism ion implantation ltl-ride thin film
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C掺杂AlN的电子结构和光学性质的第一性原理研究 被引量:6
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作者 王腊节 聂招秀 《原子与分子物理学报》 CAS 北大核心 2019年第1期116-122,共7页
采用基于密度泛函理论(DFT)的平面波超软赝势法,研究了C掺杂铅锌矿AlN的电子结构、磁性和光学性质.结果表明,C掺杂AlN产生了自旋极化,在带隙中引入杂质带形成受主能级,实现p型掺杂,同时表现出较强的半金属铁磁性,半金属能隙为0.315eV,... 采用基于密度泛函理论(DFT)的平面波超软赝势法,研究了C掺杂铅锌矿AlN的电子结构、磁性和光学性质.结果表明,C掺杂AlN产生了自旋极化,在带隙中引入杂质带形成受主能级,实现p型掺杂,同时表现出较强的半金属铁磁性,半金属能隙为0.315eV,理论上可实现100%的自旋载流子注入.掺杂后体系的介电函数虚部和光吸收系数在低能区出现新的峰值,吸收边向低能方向延展,能量损失明显减少. 展开更多
关键词 C掺杂AlN 铁磁性 稀磁半导体(dms) 光学性质 第一性原理
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生长温度对Mn掺杂ZnO纳米棒铁磁性的影响 被引量:6
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作者 闫海龙 钟向丽 +3 位作者 王金斌 黄贵军 丁书龙 周功程 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期58-61,共4页
用化学气相沉积法(CVD),在生长温度为600、650和700℃条件下,未采用任何催化剂制备了Mn掺杂ZnO纳米棒。研究发现,随着生长温度的升高,样品中O空位的浓度逐渐增加。低浓度的O空位可以增强Mn掺杂ZnO纳米棒的铁磁性,但O空位浓度过高时,Mn掺... 用化学气相沉积法(CVD),在生长温度为600、650和700℃条件下,未采用任何催化剂制备了Mn掺杂ZnO纳米棒。研究发现,随着生长温度的升高,样品中O空位的浓度逐渐增加。低浓度的O空位可以增强Mn掺杂ZnO纳米棒的铁磁性,但O空位浓度过高时,Mn掺杂ZnO纳米棒表现出超顺磁性或反铁磁性。在3个样品中,650℃的样品具有最好的室温铁磁性,其饱和磁化强度为0.85μB/Mn,矫顽力为50Oe。 展开更多
关键词 稀磁半导体(dms) 晶体缺陷 化学气相沉积(CVD) 阴极射线发光(CL)
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稀磁半导体Zn_(1-x)Ni_xO,Zn_(1-2x)Mn_xNi_xO及Zn_(1-2x)Co_xNi_xO纳米晶体的制备与磁性研究
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作者 高茜 祁阳 姜星星 《纳米科技》 2011年第4期59-63,共5页
利用溶胶-凝胶法制备了一系列的稀磁半导体材料如Zn1-xNixO、n1-2xMnxNixO及Zn1-2xCoxNixO晶体粉末,通过震荡样品磁强计(VSM)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和能量色散谱(EDS)分别对样品的磁性、晶相结构、形貌和成... 利用溶胶-凝胶法制备了一系列的稀磁半导体材料如Zn1-xNixO、n1-2xMnxNixO及Zn1-2xCoxNixO晶体粉末,通过震荡样品磁强计(VSM)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和能量色散谱(EDS)分别对样品的磁性、晶相结构、形貌和成分进行了表征分析,讨论了获得本征铁磁性Zn1-xNixO样品的制备条件,比较了Mn、Co共掺杂对Zn1-xNixO磁性的影响,给出了Ni在ZnO中的固溶度以及实际掺杂浓度与名义掺杂浓度的关系。 展开更多
关键词 稀磁半导体(dms) 溶胶-凝胶法 Zn1-xNixO 室温铁磁性
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3d过渡金属掺杂II-IV-V_2黄铜矿半导体的电磁性质
12
作者 林琦 《宁德师专学报(自然科学版)》 2006年第4期374-377,共4页
利用自旋局域密度泛函的第一性原理对3d过渡金属(TM=V、Cr、Mn、Fe、Co和N i)掺杂的II-IV-V2(CdGeP2和ZnGeP2)黄铜矿半导体进行系统计算.结果发现:V-、Cr-和N i-掺杂的CdGeP2和ZnGeP2将出现铁磁状态(FM),而Mn-、Fe-以及Co-掺杂的CdGeP2... 利用自旋局域密度泛函的第一性原理对3d过渡金属(TM=V、Cr、Mn、Fe、Co和N i)掺杂的II-IV-V2(CdGeP2和ZnGeP2)黄铜矿半导体进行系统计算.结果发现:V-、Cr-和N i-掺杂的CdGeP2和ZnGeP2将出现铁磁状态(FM),而Mn-、Fe-以及Co-掺杂的CdGeP2和ZnGeP2将出现反铁磁状态(AFM). 展开更多
关键词 稀磁半导体(dms) 过渡金属 双交换作用 铁磁状态
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