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化学增幅抗蚀剂用光产酸源 被引量:12
1
作者 杨凌露 张改莲 余尚先 《化学通报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第7期474-478,共5页
对化学增幅抗蚀剂体系的组成及化学增幅作用做了阐述。介绍了化学增幅作用中的关键组分———光产酸源和酸增殖剂的发展概况 ,并对重氮盐、盐、有机多卤化物、磺酸酯类化合物等产酸源的产酸机理、适用光源分别进行了阐述。从目前国际... 对化学增幅抗蚀剂体系的组成及化学增幅作用做了阐述。介绍了化学增幅作用中的关键组分———光产酸源和酸增殖剂的发展概况 ,并对重氮盐、盐、有机多卤化物、磺酸酯类化合物等产酸源的产酸机理、适用光源分别进行了阐述。从目前国际发展的趋势来看 ,硫盐和磺酸酯类的光产酸源占据主要地位 ,有机多卤化物中的三嗪化合物还有少量应用。 展开更多
关键词 化学增幅 抗蚀剂 光产酸源 光化学反应 酸增殖剂 集成电路
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248nm深紫外光刻胶 被引量:9
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作者 郑金红 黄志齐 侯宏森 《感光科学与光化学》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期346-356,共11页
本文从化学增幅技术的产生,深紫外248nm胶主体树脂及PAG发展历程、溶解抑制剂、存在的工艺问题及解决途径多个方面综述了深紫外248nm胶的发展与进步.
关键词 化学增幅 KRF激光 深紫外光刻 248 nm光刻胶 主体树脂 酸催化 光致产酸剂
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一种适用于193nm光刻胶的硫盐光产酸剂的制备与性质 被引量:10
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作者 王文君 李华民 王力元 《感光科学与光化学》 EI CSCD 2005年第1期48-54,共7页
制备了一种阳离子含有萘基,阴离子分别为对 甲苯磺酸、甲磺酸及三氟甲磺酸的硫盐.它们有高的热解温度和在常用有机溶剂中较好的溶解性.测定了此类光产酸剂在水溶液及聚乙二醇固体膜层中的紫外吸收特性.结果表明,阴离子不含苯基时,在19... 制备了一种阳离子含有萘基,阴离子分别为对 甲苯磺酸、甲磺酸及三氟甲磺酸的硫盐.它们有高的热解温度和在常用有机溶剂中较好的溶解性.测定了此类光产酸剂在水溶液及聚乙二醇固体膜层中的紫外吸收特性.结果表明,阴离子不含苯基时,在193nm处有很好的透明性.考察了其在低压汞灯照射下的光解性质,在254nm附近的吸收峰随光解进行迅速减弱.此类光产酸剂适用于氟化氩激光(193nm)等的化学增幅型光致抗蚀剂. 展开更多
关键词 光产酸剂 光致抗蚀剂 化学增幅 硫鎓盐
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化工放大技术方法的研究 被引量:9
4
作者 任夫健 凌永社 王庆志 《现代化工》 CAS CSCD 北大核心 2011年第S1期1-3,5,共4页
化学品的生产需从实验室规模放大到工业规模。介绍了3种常用的放大方法——逐级经验放大、数学模拟放大和"量纲分析"放大,以及2种特殊类型反应器——环流反应器和微型反应器的放大,总结了它们各自的特点、应用方法、优劣势及... 化学品的生产需从实验室规模放大到工业规模。介绍了3种常用的放大方法——逐级经验放大、数学模拟放大和"量纲分析"放大,以及2种特殊类型反应器——环流反应器和微型反应器的放大,总结了它们各自的特点、应用方法、优劣势及适用范围。 展开更多
关键词 化工放大 逐级经验 数学模拟 量纲分析 环流反应器 微型反应器
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光刻胶成膜剂:发展与未来 被引量:7
5
作者 朋小康 黄兴文 +4 位作者 刘荣涛 张永文 张诗洋 刘屹东 闵永刚 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2021年第9期1079-1090,共12页
随着集成电路制程向着3 nm乃至1 nm推进,光刻胶作为集成电路制造中最为繁杂的光刻工艺所需的重要耗材,愈发显示其重要性及挑战性。光刻胶随曝光光源的进步经历了从紫外到深紫外再到极紫外的发展,本文从成膜剂角度首先综述了紫外光刻胶... 随着集成电路制程向着3 nm乃至1 nm推进,光刻胶作为集成电路制造中最为繁杂的光刻工艺所需的重要耗材,愈发显示其重要性及挑战性。光刻胶随曝光光源的进步经历了从紫外到深紫外再到极紫外的发展,本文从成膜剂角度首先综述了紫外光刻胶及深紫外光刻胶的发展应用情况,接着对极紫外光刻胶的性能需求作了简述,最后重点针对极紫外光刻胶中的分子玻璃体系作了介绍及展望。 展开更多
关键词 紫外光刻胶 深紫外光刻胶 极紫外光刻胶 化学增幅 分子玻璃
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基于总过氧自由基测量的2022北京冬奥会期间北京市地表臭氧来源分析
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作者 姚易辰 王朔 +5 位作者 韦娜娜 叶春翔 张冲 顾学军 赵卫雄 张为俊 《环境科学学报》 CAS CSCD 北大核心 2023年第9期290-297,共8页
2022年2月第24届冬季奥林匹克运动会期间,基于宽带腔增强吸收光谱-化学放大法和化学发光法分别测量总过氧自由基(RO_(2)^(*))和一氧化氮(NO)浓度,并用于计算北京市近地面大气臭氧光化学生成速率(P(O_(3))).结合相关污染物浓度数据及气... 2022年2月第24届冬季奥林匹克运动会期间,基于宽带腔增强吸收光谱-化学放大法和化学发光法分别测量总过氧自由基(RO_(2)^(*))和一氧化氮(NO)浓度,并用于计算北京市近地面大气臭氧光化学生成速率(P(O_(3))).结合相关污染物浓度数据及气象参数对本地臭氧生成特征进行了分析.结果表明:RO_(2)^(*)浓度变化呈明显的日变化规律,观测期间RO_(2)^(*)的日均峰值浓度为8×10^(-12).日间(7:00-18:00)P(O_(3))呈现明显的日变化规律,观测期间平均P(O_(3))最高值为26×10^(-9)·h^(-1),变化范围为(3~26)×10^(-9)·h^(-1).此外,P(O_(3))对NO浓度的变化较为敏感,NO浓度的升高促进了大气化学反应的发生,加快了近地面臭氧的累积. 展开更多
关键词 臭氧 总过氧自由基 臭氧生成速率 化学放大
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Determination of the Amplification Factor for 2-Hydroxy-ethylperoxy Radicals in PERCA
7
作者 Bin QI Yan MA +1 位作者 Xiao Qian LI Xiao Yan TANG 《Chinese Chemical Letters》 SCIE CAS CSCD 2006年第7期957-960,共4页
A new method is proposed to determine the amplification factor for 2-hydroxy ethylperoxy radicals (HOC2H4O2·) in chemical amplifier. The radical source comes from the reaction of excess ethene with HO· rad... A new method is proposed to determine the amplification factor for 2-hydroxy ethylperoxy radicals (HOC2H4O2·) in chemical amplifier. The radical source comes from the reaction of excess ethene with HO· radicals generated in the photolysis of water vapor at the wave length of 185 nm in air in a flow tube. This produces a radical source which contains equal amount of HO2·and HOC2H4O2·. The amplification factor is derived from the slopes of the lines between produced NO2 in chemical amplifier and total initial radical concentrations measured for the source of HO2· and that of the same amount of HO2· and HOC2H4O2· respectively. The amplification factor of HOC2H4O2· was similar to that of HO2·, indicating that HOC2H4O2· can be measured with the same sensitivity as HO2· by chemical amplifier. 展开更多
关键词 2-Hydroxy ethylperoxy radical amplification factor chemical amplification.
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Water effect on peroxy radical measurement by chemical amplification: Experimental determination and chemical mechanism 被引量:1
8
作者 QI Bin LIU Lu +2 位作者 CHAO YuTao WANG ZhuQing YANG HongYan 《Science China Chemistry》 SCIE EI CAS 2008年第3期282-288,共7页
The water effect on peroxy radical measurement by chemical amplification was determined experimentally for HO2 and HO2+OH, respectively at room temperature (298±2) K and atmospheric pressure (1×105 Pa). No s... The water effect on peroxy radical measurement by chemical amplification was determined experimentally for HO2 and HO2+OH, respectively at room temperature (298±2) K and atmospheric pressure (1×105 Pa). No significant difference in water effect was observed with the type of radicals. A theoretical study of the reaction of HO2·H2O adduct with NO was performed using density functional theory at CCSD(T)/6-311 G(2d, 2p)//B3LYP/6-311 G(2d, 2p) level of theory. It was found that the primary reaction channel for the reaction is HO2·H2O+NO→HNO3+H2O (R4a). On the basis of the theoretical study, the rate constant for (R4a) was calculated using Polyrate Version 8.02 program. The fitted Arrenhnius equation for (R4a) is k = 5.49×107 T 1.03exp(?14798/T) between 200 and 2000 K. A chemical model incorporated with (R4a) was used to simulate the water effect. The water effect curve obtained by the model is in accordance with that of the experiment, suggesting that the water effect is probably caused mainly by (R4a). 展开更多
关键词 peroxy RADICAL chemical amplification water effect model DENSITY FUNCTIONAL THEORY
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一种新型酞菁类光蚀刻记录材料的光生酸性质研究 被引量:1
9
作者 黄蕾 宾月景 +1 位作者 黄新 张复实 《感光科学与光化学》 EI CSCD 2007年第2期142-146,共5页
通过研究对甲苯磺酸酯空心酞菁的性质,发现该化合物在紫外光照射下可生酸,是一种光生酸剂.由于酞菁类化合物本身具有光催化氧化反应的性能,因此这类光生酸剂在光蚀刻技术中将有很好的应用潜能.
关键词 化学增幅抗蚀剂 光生酸剂 光催化 酞菁
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248 nm深紫外光刻胶用成膜树脂的研究进展 被引量:2
10
作者 魏孜博 马文超 邱迎昕 《影像科学与光化学》 CAS 2020年第3期430-435,共6页
综述了用于248 nm化学增幅型深紫外光刻胶的不同种类和结构的成膜树脂,以及所使用单体的研发进展,包括聚甲基丙烯酸甲酯及其衍生物、聚对羟基苯乙烯及其衍生物、N取代的马来酰亚胺衍生物,以及其他聚合物等,对不同结构成膜树脂的曝光条... 综述了用于248 nm化学增幅型深紫外光刻胶的不同种类和结构的成膜树脂,以及所使用单体的研发进展,包括聚甲基丙烯酸甲酯及其衍生物、聚对羟基苯乙烯及其衍生物、N取代的马来酰亚胺衍生物,以及其他聚合物等,对不同结构成膜树脂的曝光条件、对光刻胶性能的影响进行了介绍。 展开更多
关键词 光刻胶 成膜树脂 化学增幅型 曝光
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化学增幅抗蚀剂用光产酸剂——硫鎓盐的合成方法 被引量:2
11
作者 王文君 《中国环境管理干部学院学报》 CAS 2005年第2期55-58,共4页
介绍了国内外光致抗蚀剂的研究进展、化学增幅光致抗蚀剂用光产酸剂———硫鎓盐的主要合成方法,同时介绍了193nm光致抗蚀剂所使用的光产酸剂及其合成方法,指出合成193nm光致抗蚀剂用光产酸剂的重要性。
关键词 光产酸剂 193nm 光致抗蚀剂 化学增幅 硫鎓盐
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单组分化学增幅型光致抗蚀剂LB膜的制备及光刻应用 被引量:1
12
作者 王筠 杨志广 +1 位作者 杨欢欢 李铁生 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2015年第8期228-230,共3页
合成了光致产酸剂N-对甲苯磺酸酯马来酰亚胺(TsOMI),及其与十二烷基甲基丙烯酰胺(DDMA)、对叔丁氧基苯乙烯碳酸酯(t-BOCSt)聚合得到三元共聚物。研究了该聚合物分子在气/液界面的成膜性,LB膜的光敏性和光刻性能。结果表明:该聚合物分子... 合成了光致产酸剂N-对甲苯磺酸酯马来酰亚胺(TsOMI),及其与十二烷基甲基丙烯酰胺(DDMA)、对叔丁氧基苯乙烯碳酸酯(t-BOCSt)聚合得到三元共聚物。研究了该聚合物分子在气/液界面的成膜性,LB膜的光敏性和光刻性能。结果表明:该聚合物分子可在不同材质的基板上制备规整均匀的LB膜,在250nm紫外光照下,LB膜表现出化学增幅作用。以40层该聚合物LB膜为抗蚀层,经紫外曝光20min、显影10s后可得到分辨率为0.75μm(该掩膜所能达到的最大分辨率)的正型LB膜图形,进一步刻蚀得到分辨率为0.75μm的金膜图形。 展开更多
关键词 光致产酸剂 化学增幅 LB膜技术 光刻
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高灵敏化学型非银盐感光材料的研发策略——从银盐感光材料说起 被引量:1
13
作者 陈子辉 李庆喜 张复实 《信息记录材料》 2013年第4期31-35,共5页
本文从银盐感光材料的成像机理出发,探讨了高灵敏化学型非银盐感光材料的2种研发策略:显影放大和链反应。对于一些光化学反应,无论反应产物是能够使反应原料的光活性区域发生移动,还是对某些反应具有高效的催化作用,都有望作为基础设计... 本文从银盐感光材料的成像机理出发,探讨了高灵敏化学型非银盐感光材料的2种研发策略:显影放大和链反应。对于一些光化学反应,无论反应产物是能够使反应原料的光活性区域发生移动,还是对某些反应具有高效的催化作用,都有望作为基础设计出具有显影放大功能的化学型非银盐感光材料。另外,本文从Lambert-Beer定律出发,推导出了发色型感光材料感光灵敏度的估算方法,可用于指导非银盐感光材料的设计及配方优化。 展开更多
关键词 非银盐信息记录材料 银盐感光材料 光谱增感 显影放大 感光灵敏度
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高酸解性聚合物的合成及应用 被引量:1
14
作者 贾越 孔繁荣 王力元 《应用科技》 CAS 2010年第8期53-57,共5页
采用常见的芳香二酸(对苯二甲酸和1,4-萘二甲酸)与1,4-二(2-乙烯氧基乙氧基)苯(1,4-DVEB)聚合,得到了2种新型的芳香酯缩醛聚合物,这些聚合物在各种常用溶剂如丙二醇甲醚醋酸酯(PG-MEA)、二氧六环、乙二醇乙醚中有较好的溶解性,... 采用常见的芳香二酸(对苯二甲酸和1,4-萘二甲酸)与1,4-二(2-乙烯氧基乙氧基)苯(1,4-DVEB)聚合,得到了2种新型的芳香酯缩醛聚合物,这些聚合物在各种常用溶剂如丙二醇甲醚醋酸酯(PG-MEA)、二氧六环、乙二醇乙醚中有较好的溶解性,分子量(Mn)3 000~5 000,热分解温度都大于230℃,用DSC测得其玻璃化转变温度在60℃左右.这2种酯缩醛聚合物在室温即可酸解,因此可与光产酸剂等组成无需后烘加热的正性化学增幅型感光成像材料,可用于高感度PS版或UV-CTP版感光剂. 展开更多
关键词 化学增幅 芳香酯缩醛聚合物 二乙烯基醚 光产酸剂 感度 CTP版材
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一种高感度深紫外正性化学增幅型抗蚀剂的制备
15
作者 吴立萍 胡凡华 +2 位作者 王倩倩 王菁 王力元 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第5期896-901,共6页
聚对羟基苯乙烯和环己基乙烯基醚反应得到缩醛保护的聚合物.该聚合物易溶于常见的有机溶剂,具有较好的热稳定性,在248 nm处透明性良好.该聚合物可与聚对羟基苯乙烯-甲基丙烯酸金刚烷基酯及二砜光产酸剂等组成一种三组分正性化学增幅型... 聚对羟基苯乙烯和环己基乙烯基醚反应得到缩醛保护的聚合物.该聚合物易溶于常见的有机溶剂,具有较好的热稳定性,在248 nm处透明性良好.该聚合物可与聚对羟基苯乙烯-甲基丙烯酸金刚烷基酯及二砜光产酸剂等组成一种三组分正性化学增幅型深紫外光致抗蚀剂,初步研究了该抗蚀剂的感光成像性能.采用Kr F激光(248 nm)曝光,在较低的后烘温度下,显影得到分辨率为180 nm的线条图形.显影后的留膜率在99%以上.在光致抗蚀剂体系中引入对羟基苯乙烯-金刚烷基甲基丙烯酸酯共聚物,可提高光刻胶材料的玻璃化转变温度,有利于其实际应用. 展开更多
关键词 光致抗蚀剂 深紫外 化学增幅 聚对羟基苯乙烯 缩醛
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量热分析化学放大方法及技术
16
作者 郑艺华 《分析测试学报》 CAS CSCD 北大核心 2018年第3期375-380,共6页
该文从提高选择性、灵敏度和分析性能的角度,在富集、缓冲液放大、非水溶液体系、级联反应等方面评述了量热分析化学热焓放大的原理、方法以及关键技术,其中,富集是通过集聚提升待测物浓度来提高反应焓变;缓冲液放大利用缓冲液的质子焓... 该文从提高选择性、灵敏度和分析性能的角度,在富集、缓冲液放大、非水溶液体系、级联反应等方面评述了量热分析化学热焓放大的原理、方法以及关键技术,其中,富集是通过集聚提升待测物浓度来提高反应焓变;缓冲液放大利用缓冲液的质子焓变增强反应焓变;非水溶液体系可从热容量的角度提升量热灵敏度;级联反应由系列反应或循环完成,最终焓变是系列反应焓变的叠加,达到热焓放大目的。通过结合最新的研究成果和应用进一步阐明化学放大方法实现热焓放大能有效改善和提高量热分析系统的信噪比和降低检出限,并大大加强量热分析方法在现场、实际试样分析测试中的固有应用优势。同时,对当前存在的问题、挑战及未来的研究方向进行了探讨,并展望了其发展趋势和前景。 展开更多
关键词 化学放大 量热分析 富集 质子化反应 级联反应 综述
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化学放大法测量大气过氧自由基的技术进展
17
作者 陈杨 赵卫雄 +4 位作者 徐学哲 阳成强 林晓晓 盖艳波 张为俊 《大气与环境光学学报》 CAS CSCD 2017年第4期241-253,共13页
大气过氧自由基(RO_2)是大气化学过程中的关键中间体自由基,在对流层光化学反应中占有重要地位,因此,对相关测量技术的研究具有极其重要的意义。化学放大法是RO_2测量中最常用的方法之一,是一种间接测量方法,通过在反应系统中加入过量... 大气过氧自由基(RO_2)是大气化学过程中的关键中间体自由基,在对流层光化学反应中占有重要地位,因此,对相关测量技术的研究具有极其重要的意义。化学放大法是RO_2测量中最常用的方法之一,是一种间接测量方法,通过在反应系统中加入过量的CO、NO气体,将低浓度、不易测量的过氧自由基通过链式反应转化为高浓度、易测量的NO_2进行测量,NO_2测量的准确性对化学放大法很重要。对化学放大法进行了总结,并着重分析了其中用于NO_2测量的方法,分析了现有方法的优点与不足,并对未来的发展作了展望。 展开更多
关键词 过氧自由基 化学放大法 NO2测量技术
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酸分解高分子的新进展 被引量:1
18
作者 余尚先 顾江楠 《高分子通报》 CAS CSCD 1990年第4期205-212,共8页
本文综述了80年代酸分解高分子的进展,并对其作了详细分类。以其不同的结构特征阐明了它们的酸解机理。本文还对酸解高分子用于成像材料、特别是化学增幅抗蚀剂的前景作了展望。
关键词 酸分解高分子 化学增幅 抗蚀剂
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叔丁酚酚醛树脂化学增幅抗蚀剂
19
作者 刘劲松 顾江楠 余尚先 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1993年第1期107-112,共6页
以叔丁酚改性酚醛树脂与双叔丁氧碳酸酐为原料,合成了一种化学增幅感光性高分子,摸索出这类合成反应的最佳条件,进而配制出一系列化学增幅抗蚀剂组成物,并对其感光性能及光解动力学进行了研究。
关键词 叔丁酚 酚醛树脂 化学增幅 抗蚀剂
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ArF激光光致抗蚀剂的研究进展 被引量:2
20
作者 余尚先 杨凌露 张改莲 《感光科学与光化学》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期61-71,共11页
本文对近10年来有关ArF激光(193nm)光致抗蚀剂的研究开发情况进行了调研,对193nm光致抗蚀剂组成物的各个组分进行了归纳综述.从本文可以看出,利用193nm成像技术可以刻画线幅很细(<0.13μm)的图像,能适应信息技术的发展对于光致抗蚀... 本文对近10年来有关ArF激光(193nm)光致抗蚀剂的研究开发情况进行了调研,对193nm光致抗蚀剂组成物的各个组分进行了归纳综述.从本文可以看出,利用193nm成像技术可以刻画线幅很细(<0.13μm)的图像,能适应信息技术的发展对于光致抗蚀剂高分辨率的要求.但若想将193nm成像技术在实践中推广应用,还有诸多问题需待研究解决. 展开更多
关键词 ArF激光 光致抗蚀剂 化学增幅 矩阵树脂 光产酸源 集成电路 光刻蚀 氟化氪
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