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掺硼金刚石阳极电催化降解新兴抗生素类污染物研究进展 被引量:3
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作者 翟重渊 赵丹荻 +3 位作者 何亚鹏 黄惠 陈步明 郭忠诚 《化工进展》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第12期6615-6626,共12页
抗生素类药物是目前水环境中出现的一类新兴有机污染物,具有难自然降解、环境刺激性、生物毒性及耐药性等特点,高效去除抗生素类污染物是近年来环境工作者重点探讨的内容。掺硼金刚石(boron-doped diamond,BDD)电极由于自身优异的物理... 抗生素类药物是目前水环境中出现的一类新兴有机污染物,具有难自然降解、环境刺激性、生物毒性及耐药性等特点,高效去除抗生素类污染物是近年来环境工作者重点探讨的内容。掺硼金刚石(boron-doped diamond,BDD)电极由于自身优异的物理和化学性质,被认作为目前电催化氧化水中有机污染物最为理想高效的阳极材料,但关于BDD阳极在新兴抗生素类污染物的研究情况尚未进行及时的总结。本文首先论述了BDD阳极在电催化氧化有机污染物的降解过程和基于强氧化性物种的电催化氧化机理,进而分析了BDD阳极在电催化降解水中新兴抗生素类污染物的研究进展,探讨了影响抗生素类污染物电催化降解过程的关键影响因素,总结了BDD阳极材料的开发情况,同时,总结了以BDD阳极电催化氧化为基础发展而来的其他水处理联合方法,最后,进一步展望了BDD阳极在未来电催化降解抗生素类污染物存在的问题及未来的重点发展方向。 展开更多
关键词 掺硼金刚石 电催化氧化 抗生素类污染物 降解机理 过程动力学
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p型半导体金刚石研究现状 被引量:4
2
作者 王生艳 李尚升 +2 位作者 刘书强 宋东亮 朱淑俊 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2015年第S1期243-247,共5页
在普通金刚石中掺入某些杂质元素可以使其具有更为优异的物理和机械性能。掺入硼元素可以使普通金刚石具有p型半导体特性。目前,对于p型半导体金刚石膜材料研究较多,而对于高温高压下合成的p型半导体金刚石单晶体材料研究相对较少。本... 在普通金刚石中掺入某些杂质元素可以使其具有更为优异的物理和机械性能。掺入硼元素可以使普通金刚石具有p型半导体特性。目前,对于p型半导体金刚石膜材料研究较多,而对于高温高压下合成的p型半导体金刚石单晶体材料研究相对较少。本文介绍了p型含硼半导体金刚石膜材料及高温高压下合成掺硼金刚石单晶体材料的研究现状。由此指出具备p型半导体特性的Ⅱb型金刚石大单晶是适合硼重掺杂的首选材料。重掺硼的Ⅱb型金刚石大单晶具备大尺寸及优良的半导体特性必将大大拓宽p型半导体金刚石的应用范围。 展开更多
关键词 掺硼 P型半导体 金刚石
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高温刻蚀硼掺杂金刚石电极材料的形貌与电化学性能 被引量:3
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作者 刘婷 苗冬田 +1 位作者 魏秋平 马莉 《粉末冶金材料科学与工程》 EI 北大核心 2020年第2期164-170,共7页
采用热丝化学气相沉积法在硅表面制备硼掺杂金刚石电极薄膜,在800℃热处理氧化刻蚀后,得到表面具有不规则孔隙结构的多孔硼掺杂金刚石薄膜电极,研究热处理刻蚀时间对电极表面形貌及材料内sp^3相碳与sp^2相碳的比例(sp^3/sp^2)的影响。... 采用热丝化学气相沉积法在硅表面制备硼掺杂金刚石电极薄膜,在800℃热处理氧化刻蚀后,得到表面具有不规则孔隙结构的多孔硼掺杂金刚石薄膜电极,研究热处理刻蚀时间对电极表面形貌及材料内sp^3相碳与sp^2相碳的比例(sp^3/sp^2)的影响。结果表明,热处理的最佳时间为30min,热处理后电极的电化学活性面积是未经热处理电极的2.14倍。用硼掺杂金刚石电极对以活性蓝19作为目标有机物废水进行降解,经过热处理的电极对活性蓝19色度移除率是未经热处理电极的2.43倍,废水中的化学需氧量移除率是未经热处理电极的1.89倍,且达到相同化学需氧量移除率的能耗低于未处理电极的能耗。该刻蚀技术未造成硼掺杂金刚石电极表面污染,适用于大面积刻蚀以提高电极比表面积,在水处理领域具有广阔的应用前景。 展开更多
关键词 热丝化学气相沉积法 硼掺杂金刚石 刻蚀 热处理 活性蓝19
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Preparation of Large-Scale Double-Side BDD Electrodes and Their Electrochemical Performances 被引量:1
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作者 吴海兵 徐锋 +3 位作者 刘召志 周春 卢文壮 左敦稳 《Transactions of Nanjing University of Aeronautics and Astronautics》 EI CSCD 2015年第6期674-680,共7页
Boron doped diamond(BDD)performs well in electrochemical oxidation for organic pollutants thanks to its wide electrochemical window and superior chemical stability.We presented a method to obtain well-adherent large-s... Boron doped diamond(BDD)performs well in electrochemical oxidation for organic pollutants thanks to its wide electrochemical window and superior chemical stability.We presented a method to obtain well-adherent large-scale BDD/Nb electrode by the modified hot filament chemical vapor deposition system(HFCVD).SiC particles were sand blasted to enhance the adhesion of BDD coating.The BDD coating was then deposited on both sides of Nb which was placed vertically and closely with filament grids on both sides.The BDD/Nb electrodes had no deformation because the thermal deformations of the BDD films on both sides of the Nb substrate conteracted each other during cooling process after deposition.The surface morphology and purity of the BDD/Nb electrode were analyzed by Raman and scanning elestron microscope(SEM)techniques.Scratch test was used to investigate the adhesion of BDD films.The electrochemical performances were measured by cyclic voltammetry test.The BDD electrode at the B/C ratio of 2 000×10^(-6) held a higher oxygen evolution potential thanks to its high sp3 carbon content.Accelerated life test illustrated that the sandblasting pretreatment obviously enhanced the adhesion of BDD coating which resulted in a longer service duration than the un-sandblasted one. 展开更多
关键词 hot filament chemical vapor deposition(CVD) boron doped diamond large-scale double side elec-trode electrochemical performances
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硼掺杂金刚石微电极的制备及其多巴胺电化学检测应用 被引量:2
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作者 郭曜华 李灿 +2 位作者 魏秋平 马莉 周科朝 《矿冶工程》 CAS CSCD 北大核心 2019年第5期114-118,共5页
采用热丝化学气相沉积法在经电化学刻蚀的钨丝上制备高质量硼掺杂金刚石(BDD)薄膜,利用体视显微镜和二维显微移动操作平台辅助封装硼掺杂金刚石(BDD)微电极,将微电极长度控制在50μm左右。采用扫描电子显微镜、Raman显微激光光谱仪和电... 采用热丝化学气相沉积法在经电化学刻蚀的钨丝上制备高质量硼掺杂金刚石(BDD)薄膜,利用体视显微镜和二维显微移动操作平台辅助封装硼掺杂金刚石(BDD)微电极,将微电极长度控制在50μm左右。采用扫描电子显微镜、Raman显微激光光谱仪和电化学工作站分别表征BDD微电极的形貌、成分及电催化性能。封装后的BDD微电极保留了BDD平板电极的电化学优异特性,在对多巴胺的电化学检测应用中,在0.05~100μmol/L浓度范围内具有良好的线性响应,检测灵敏度高达2.89×104 nA·μL/(mol·cm2),检测限低至34 nmol/L(S/N=3),基本实现在体检测的应用要求。BDD微电极在高电阻环境多巴胺检测中同样具有应用潜力。 展开更多
关键词 硼掺杂金刚石 微电极 多巴胺 电化学传感器 电极封装 化学气相沉积
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硼掺杂对微波等离子体化学气相沉积制备金刚石薄膜高择优取向生长的影响 被引量:2
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作者 谷继腾 杨扬 +1 位作者 唐永炳 张文军 《集成技术》 2017年第4期61-69,共9页
硼(B)掺杂金刚石薄膜因其优异的电化学性能在电化学传感领域获得了广泛的应用。文章采用微波等离子体化学气相沉积法制备硼掺杂金刚石薄膜,通过硼/碳(B/C)比例和工艺参数的调节,成功制备了具备(100)择优取向的金刚石薄膜,分析了B元素影... 硼(B)掺杂金刚石薄膜因其优异的电化学性能在电化学传感领域获得了广泛的应用。文章采用微波等离子体化学气相沉积法制备硼掺杂金刚石薄膜,通过硼/碳(B/C)比例和工艺参数的调节,成功制备了具备(100)择优取向的金刚石薄膜,分析了B元素影响(100)晶面形成的机理,并进一步探讨了衬底温度、碳源浓度对金刚石薄膜微观形貌的影响。实验发现:B/C比例浓度对金刚石薄膜形貌的影响要大于温度、CH_4浓度等其他参数,尤其当B/C=4 000 ppm时,形成的四面体形状金刚石颗粒质量最好,晶棱清晰可见,晶面光滑平整;当B/C浓度恒定时,温度与CH_4浓度对金刚石薄膜的影响都是通过影响二次形核密度实现的。研究表明,通过适合的硼掺杂比例可以实现高择优取向金刚石薄膜电极的制备。 展开更多
关键词 择优取向 微观形貌 硼掺杂金刚石 二次形核
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硼掺杂金刚石薄膜电极在酸碱盐中的电化学性质研究 被引量:2
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作者 许青波 王传新 +4 位作者 代凯 钟艳 王旭杰 王涛 王升高 《真空与低温》 2018年第5期309-314,共6页
通过热丝化学气相沉积技术,在P型单晶衬底上制备了掺硼金刚石薄膜电极。采用扫描电子显微镜和X射线衍射分析了丙酮流量对硼掺杂金刚石薄膜电极的表面形貌的影响,采用循环伏安法分析硼掺杂金刚石薄膜电极在不同浓度的酸碱盐电解液中的电... 通过热丝化学气相沉积技术,在P型单晶衬底上制备了掺硼金刚石薄膜电极。采用扫描电子显微镜和X射线衍射分析了丙酮流量对硼掺杂金刚石薄膜电极的表面形貌的影响,采用循环伏安法分析硼掺杂金刚石薄膜电极在不同浓度的酸碱盐电解液中的电化学特性。结果表明,硼掺杂金刚石薄膜质量随着丙酮流量的增加而先提高后下降的趋势,并且硼掺杂金刚石薄膜电极在不同电解质中存在不同的电化学窗口,中性溶液中的电化学窗口最宽在3.2 V以上,具有极强的电化学氧化性能。 展开更多
关键词 硼掺杂金刚石 电化学 循环伏安法 热丝化学气相沉积
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高压合成含硼金刚石及电化学性能机理分析 被引量:2
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作者 唐威 《机械管理开发》 2010年第4期19-21,共3页
含硼金刚石不仅具有金刚石的优异的机械、物理化学性能,其导电性有大幅度提高,是很有发展潜力的功能材料。文章以H3BO3-石墨层间化合物(GICs)为碳源,高温高压合成含硼金刚石,利用XRF、SEM等方法分析了含硼金刚石的组成及形貌。以此含硼... 含硼金刚石不仅具有金刚石的优异的机械、物理化学性能,其导电性有大幅度提高,是很有发展潜力的功能材料。文章以H3BO3-石墨层间化合物(GICs)为碳源,高温高压合成含硼金刚石,利用XRF、SEM等方法分析了含硼金刚石的组成及形貌。以此含硼金刚石制备粉末微电极,测定循环伏安曲线及交流阻抗谱,分析电化学性能机理。 展开更多
关键词 高压合成 含硼金刚石 粉末微电极 循环伏安 交流阻抗
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Study on Ti/BDD Film Electrode with Ta Interlayer
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作者 Xin Yonglei Liu Feng +1 位作者 Wang Juntao Li Xiangbo 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第S1期247-249,共3页
Boron doped diamond(BDD)thin films have been deposited on Ti substrate with Ta interlayer by MP-CVD(microwave plasma chemical vapor deposition),and Ta interlayer was deposited by magnetron sputtering.The physical and ... Boron doped diamond(BDD)thin films have been deposited on Ti substrate with Ta interlayer by MP-CVD(microwave plasma chemical vapor deposition),and Ta interlayer was deposited by magnetron sputtering.The physical and electrochemical behaviors of the Ti/Ta/BDD electrode and its application in electrochemical oxidation of wastewater containing 2,4-dichlorophenol were studied.Raman spectroscopy and field emission scanning electron microscopy(FESEM)demonstrates that the films obtained exhibit well-defined diamond features.XRD spectroscopy shows no TiC in the BDD film with Ta interlayer.Electrochemical measurement shows the BDD electrode behaves low background current and wide working potential window up to 4 V.Further,the removal efficiency of chemical oxygen demand(COD)of the BDD electrodes were evaluated by the electrochemical oxidation of 2,4-dichlorophenol. 展开更多
关键词 microwave plasma chemical vapor deposition boron doped diamond TA WASTEWATER treatment electrochemical oxidation
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Fabrication, Characterization and Optical Properties of TiO2 Nanotube Arrays on Boron-doped Diamond Film Through Liquid Phase Deposition
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作者 YUAN Jujun LI Hongdong +5 位作者 WANG Qiliang CHENG Shaoheng ZHANG Xianke YU Huajun ZHU Xiurong XIE Yingmao 《Chemical Research in Chinese Universities》 SCIE CAS CSCD 2014年第1期18-22,共5页
TiO2 nanotube(TiNT) arrays were deposited on boron-doped diamond films by a liquid-phase deposition method with ZnO nanorod arrays as the template.The different morphologies of TiNTs have been obtained by controllin... TiO2 nanotube(TiNT) arrays were deposited on boron-doped diamond films by a liquid-phase deposition method with ZnO nanorod arrays as the template.The different morphologies of TiNTs have been obtained by controlling the morphology of ZnO template.The X-ray diffraction and energy-dispersive X-ray analysis show that the ZnO nanorod array template has been removed in the TiNTs formation process.The crystalline quality of the TiNTs is improved by increasing the annealing temperature.The band gap of the TiNTs is about 3.25 eV estimated by the UV-Vis absorption spectroscopy,which is close to the value of bulk TiO2.In the photoluminescence spectrum,a broad visible emission in a range of ca.550-750 nm appears due to the surface oxygen vacancies and defects. 展开更多
关键词 TiO2 nanotube array boron doped diamond Lquid phase deposition Optical property
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新型碳系头皮脑电干式电极的制备及性能分析
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作者 张利剑 明东 贾正伟 《中国生物医学工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2022年第3期380-384,共5页
为研究碳系材料干电极性能,采用化学气相沉积技术,制备掺硼金刚石(BDD)及垂直生长多孔石墨烯薄膜,以SEM、TEM、XPS及Raman等手段进行形貌与结构的表征,并对比这两种碳系干电极在采集脑电信号时的响应特征。在眨眼、咬牙、睁闭眼范式下... 为研究碳系材料干电极性能,采用化学气相沉积技术,制备掺硼金刚石(BDD)及垂直生长多孔石墨烯薄膜,以SEM、TEM、XPS及Raman等手段进行形貌与结构的表征,并对比这两种碳系干电极在采集脑电信号时的响应特征。在眨眼、咬牙、睁闭眼范式下采集脑电信号,石墨烯和BDD电极与商用Ag/AgCl湿电极的相关度均不低于95%。研究表明,该BDD电极是由大量金刚石晶体紧密堆垛而成,其(100)和(111)晶面硼掺杂水平的差异造成(111)晶面具有更高的导电效果,构成不同取向“5~10μm微电极”集合,即使不依赖液体导电层,也能与头皮紧密接触而传递电子;直立石墨烯阵列起到电极与头皮之间固态导电介质的作用,其三维多级孔隙结构构筑长程导电网,而开放的多级孔表面则构筑短程离子传输通道,可有效降低电极与头皮之间的界面阻抗。实验验证了二者作为干式脑电传感电极使用的可行性。 展开更多
关键词 脑电 掺硼金刚石 垂直石墨烯 干电极
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金刚石薄膜电极在离子水洗衣机中的应用研究 被引量:1
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作者 温高杰 常明 《天津理工大学学报》 2010年第2期1-4,共4页
离子水洗衣机的电解装置一般采用金属氧化物涂层阳极(DSA——Dimensionally Stable Anode),本论文研究采用硼掺杂金刚石薄膜(BDD)电极做离子水洗衣机的电解阳极,通过分析其特性曲线,表征参数,并和DSA电解电极对比性能,同时做一些洗涤实... 离子水洗衣机的电解装置一般采用金属氧化物涂层阳极(DSA——Dimensionally Stable Anode),本论文研究采用硼掺杂金刚石薄膜(BDD)电极做离子水洗衣机的电解阳极,通过分析其特性曲线,表征参数,并和DSA电解电极对比性能,同时做一些洗涤实验来验证其洗涤效果,以此来展现硼掺杂金刚石薄膜电极具有更加稳定和良好的电化学特性,所以更适合于用做离子水洗衣机的电解装置.此外,离子水洗衣机主要是把水电解成碱性离子水来洗涤衣物,BDD电极可以做到不用离子隔膜分离出碱性离子水就可以达到洗净衣物的效果. 展开更多
关键词 硼掺杂金刚石薄膜 电解电极 离子水发生器 离子水洗衣机
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掺硼金刚石膜微电极的电化学性能 被引量:1
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作者 游学为 芶立 《超硬材料工程》 CAS 2018年第1期34-38,共5页
掺硼金刚石膜(BDD)具有良好的力学性质、生物相容性和表面抗污染性,有望在体内植入中保持长期的稳定性。以液态硼酸三甲酯为硼源,采用光刻工艺和选择性生长法制备线宽为200μm和100μm的BDD膜叉指微电极,所制备的微电极边界清晰规整、... 掺硼金刚石膜(BDD)具有良好的力学性质、生物相容性和表面抗污染性,有望在体内植入中保持长期的稳定性。以液态硼酸三甲酯为硼源,采用光刻工艺和选择性生长法制备线宽为200μm和100μm的BDD膜叉指微电极,所制备的微电极边界清晰规整、薄膜质量良好,图形区薄膜的选择性高。采用电化学工作站表征电极在电解质溶液中的循环伏安行为和阻抗特性,结果表明:掺硼金刚石膜电极的尺寸和形状对电化学窗口和背景电流影响较小。200μm和100μm的叉指电极相邻微带电极间扩散方式分别是线性扩散和半球形稳态扩散,100μm叉指电极的CV曲线趋近于半球形稳态扩散的S形。掺硼金刚石膜微电极只有一个时间常数,将利于物质的快速和准确检出。 展开更多
关键词 微波等离子体 掺硼金刚石膜 微电极 电化学性能
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不同氧化程度的掺硼金刚石膜电极的电化学性能及电荷转移速率研究 被引量:1
14
作者 于鹏 邢璇 王婷 《北京大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期911-918,共8页
通过阳极电化学氧化法,制备不同氧化程度的掺硼金刚石膜(BDD)电极,并对其进行表征。分别采用循环伏安法和Mott-Schottky曲线,研究不同氧化程度的BDD电极的电化学性质和电荷转移速率。扫描电子显微镜和拉曼光谱分析表明,氧化后的BDD电极... 通过阳极电化学氧化法,制备不同氧化程度的掺硼金刚石膜(BDD)电极,并对其进行表征。分别采用循环伏安法和Mott-Schottky曲线,研究不同氧化程度的BDD电极的电化学性质和电荷转移速率。扫描电子显微镜和拉曼光谱分析表明,氧化后的BDD电极形貌和晶型结构几乎未发生变化,但EDX能谱分析发现BDD表面氧含量明显增加。循环伏安法和Mott-Schottky曲线阳极电流法研究发现,电荷转移速率随氧化程度的增大而逐渐增大。接触角实验进一步证实,随着BDD电极氧化程度的增加,接触角减小,电极表面亲水性逐渐增大,因此以阳极电流方式表示的电荷转移速率增大。然而,Mott-Schottky曲线以氧化还原电位差方式表示的电荷转移速率随氧化程度的增大,先增大,后减小,这是由于在不同的氧化时间下,表面基团的种类及其各成分在总含氧量中所占比例不同,因此产生的电荷转移速率也不相同。 展开更多
关键词 掺硼金刚石膜 氧化程度 电荷转移速率 平带电压
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Clicking cyclophane to boron doped diamond surfaces
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作者 WANG Mei 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2013年第23期2898-2902,共5页
"Click chemistry" was used to covalently attach acetylene-bearing cyclophane to azide-terminated BDD surfaces. The azide termination was obtained through an esterification reaction between 4-azidobenzoic aci... "Click chemistry" was used to covalently attach acetylene-bearing cyclophane to azide-terminated BDD surfaces. The azide termination was obtained through an esterification reaction between 4-azidobenzoic acid and the terminal hydroxyl groups of oxidized BDD surfaces. The resulting surfaces were characterized using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), water contact angle and electrochemical measurements. As a result, alkyne-functionalized cyclophane can undergo click chemistry to conveniently attach these units onto a preformed azide-functionalized BDD surface. 展开更多
关键词 金刚石表面 环番 掺硼 电化学测定 X射线光电子能谱 叠氮化物 共价连接 酯化反应
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金刚石膜电极对有机污染物的电催化特性 被引量:26
16
作者 赵国华 李明利 +2 位作者 吴薇薇 李荣斌 何贤昶 《环境科学》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期163-167,共5页
研究了化学气相沉积法 (CVD)制备得到的掺硼金刚石膜电极的物理性质和电化学性能 .用扫描电子显微镜 (SEM )法表征了金刚石膜的表面微观结构 ,采用循环伏安法和交流阻抗法研究了电极的电化学性质 .结果表明 ,金刚石薄膜表面形态为复晶结... 研究了化学气相沉积法 (CVD)制备得到的掺硼金刚石膜电极的物理性质和电化学性能 .用扫描电子显微镜 (SEM )法表征了金刚石膜的表面微观结构 ,采用循环伏安法和交流阻抗法研究了电极的电化学性质 .结果表明 ,金刚石薄膜表面形态为复晶结构 ,颗粒大小均匀 ,掺硼后使电极具有良好的导电性能 .金刚石膜电极具有很宽的电势窗口 ,在酸性、中性和碱性 3种介质中分别为 4 3V、4 0V和 3 0V .同时 ,金刚石膜电极的背景电流非常低 ,为 - 9× 1 0 -6~ 5× 1 0 -7A .在铁氰化钾电解液中 ,金刚石膜电极表面在反应过程中始终保持良好的活性 ,在表面进行的电化学反应具有良好的准可逆性 ,其电极动力学主要是受扩散过程所控制 .金刚石膜电极对有机污染物的催化氧化作用具有选择性 .与铂电极和石墨电极相比 ,金刚石膜电极对苯酚、硝基苯等芳香化合物的催化氧化强烈 ,氧化过程较为简单、彻底 . 展开更多
关键词 掺硼金刚石膜电极 电催化 循环伏安法 交流阻抗法
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掺硼金刚石膜电极表面产生羟基自由基的原位ESR研究 被引量:12
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作者 耿榕 赵国华 +1 位作者 刘梅川 雷燕竹 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2010年第6期1493-1498,共6页
建立了原位电化学-电子顺磁共振(ESR)方法,系统研究了掺硼金刚石(BDD)膜电极表面在水溶液中的羟基自由基(·OH)产生规律.结果表明,在高于析氧电位时,·OH的生成速率随着阳极电位的升高、电流密度的增加而增大,增加速率逐渐减缓... 建立了原位电化学-电子顺磁共振(ESR)方法,系统研究了掺硼金刚石(BDD)膜电极表面在水溶液中的羟基自由基(·OH)产生规律.结果表明,在高于析氧电位时,·OH的生成速率随着阳极电位的升高、电流密度的增加而增大,增加速率逐渐减缓.与此同时,与氢终端的BDD膜电极相比,氧终端的BDD膜电极表面因具有较好的亲水性而具有更高的·OH产生能力.在电化学氧化处理有机废水的过程中,电极表面处于氧终端的状态,有利于·OH产生并保持较高的活性.溶液pH值也在一定程度上影响·OH生成反应,酸性溶液中,BDD膜电极表面的·OH产生能力强于在中性或碱性溶液中.进一步研究发现,BDD膜电极表面还可能生成O3-·0自由基.本研究为深入探索BDD膜电极表面·OH的产生机制提供了研究手段,为阐述BDD膜电极电极在污染物处理中高效性的本质提供了有效的证据. 展开更多
关键词 电化学氧化 掺硼金刚石膜电极 羟基自由基 电子顺磁共振 自旋捕捉技术 5 5-二甲基-1-吡咯啉-N-氧化物
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Ta衬底B掺杂金刚石薄膜电极极化特性 被引量:8
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作者 高成耀 常明 李晓伟 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期479-483,共5页
研究了热丝化学气相沉积(HFCVD)方法在Ta衬底上制备B掺杂金刚石(BDD/Ta)薄膜电极的极化特性。扫描电镜(SEM)和Raman光谱显示,BDD/Ta薄膜电极具有较好的成膜质量。电化学测试表明,BDD/Ta薄膜电极具有比常规电极如Pt、IrO2和RuO2更宽的电... 研究了热丝化学气相沉积(HFCVD)方法在Ta衬底上制备B掺杂金刚石(BDD/Ta)薄膜电极的极化特性。扫描电镜(SEM)和Raman光谱显示,BDD/Ta薄膜电极具有较好的成膜质量。电化学测试表明,BDD/Ta薄膜电极具有比常规电极如Pt、IrO2和RuO2更宽的电势窗口,在Na2SO4溶液中的电势窗口为4.1V(-1.8V~+2.3V vs SCE),电势窗口受沉积C源浓度和支持电解液PH值的影响。BDD/Ta薄膜电极在[Fe(CN)6]3-/4-体系中电化学反应具有良好的准可逆性,其动力学主要是受扩散过程所控制。紫外-可见吸收光谱显示,BDD/Ta薄膜电极能够有效阳极电催化降解苯酚,降解过程中化学需氧量(COD)去除率达98.6%。 展开更多
关键词 B掺杂金刚石(BDD) 电极材料 化学气相沉积(CVD) 循环伏安 交流阻抗 电化学高级氧化技术
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不同基底BDD电极对模拟染料废水的降解脱色试验 被引量:8
19
作者 邢剑飞 王珺 +3 位作者 李侃 王亚林 应迪文 贾金平 《净水技术》 CAS 2013年第1期55-59,98,共6页
在Si、Ta、SiC、Ti四种不同的基底上通过热丝化学气相沉积法分别生长了掺硼金刚石(BDD)薄膜。试验对BDD膜层的微观形貌、电极的电化学性能进行了研究。四种基底的BDD电极均具有较宽的电位窗口;Ta-BDD和SiC-BDD晶体形貌完整;Ta-BDD和Ti-... 在Si、Ta、SiC、Ti四种不同的基底上通过热丝化学气相沉积法分别生长了掺硼金刚石(BDD)薄膜。试验对BDD膜层的微观形貌、电极的电化学性能进行了研究。四种基底的BDD电极均具有较宽的电位窗口;Ta-BDD和SiC-BDD晶体形貌完整;Ta-BDD和Ti-BDD具有较好的膜基附着力,具有较长的寿命。试验表明,使用12 h后,Ta-BDD与Ti-BDD仍具有良好的电解性能,微观形貌完整,而Si-BDD和SiC-BDD分别使用4h和6 h后,膜层便开始脱落。试验测定了Ta-BDD电极对活性艳红X-3B模拟染料废水的降解脱色效果,考察了不同条件(槽电压、电解质浓度、电解质种类及pH)对脱色效果的影响。结果表明:在酸性介质中,当硫酸钠浓度为2.5 g/L时,经过120 min电解,模拟废水中的染料可脱除至1%以下。NaCl作为支持电解质时,相比于Na2SO4对废水色度的脱除具有更强的作用。 展开更多
关键词 掺硼金刚石 薄膜电极 电化学氧化 染料废水 活性艳红X-3B
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掺硼浓度与沉积气压对Ti/BDD微观结构和电化学氧化性能影响规律研究
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作者 刘典宏 尹钊 +3 位作者 陈峰磊 马莉 李静 魏秋平 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2024年第2期151-160,共10页
探究在热丝化学气相沉积生长硼掺杂金刚石的过程中,掺硼浓度与沉积气压对钛基硼掺杂金刚石薄膜的微观结构与电化学氧化性能的影响,并以四环素作为模拟污染物进行电化学氧化降解实验。使用扫描电子显微镜、拉曼光谱、紫外分光光度计以及... 探究在热丝化学气相沉积生长硼掺杂金刚石的过程中,掺硼浓度与沉积气压对钛基硼掺杂金刚石薄膜的微观结构与电化学氧化性能的影响,并以四环素作为模拟污染物进行电化学氧化降解实验。使用扫描电子显微镜、拉曼光谱、紫外分光光度计以及电化学工作站对电极表面形貌、成分以及电化学性能进行表征。结果表明:随着掺硼浓度与沉积气压的增大,金刚石薄膜表面晶粒明显细化,生长速率下降;然而随着沉积气压的升高,金刚石的晶粒质量逐渐降低,但硼原子掺杂则会提高金刚石晶粒质量;在高掺硼浓度和低沉积气压的条件下,金刚石薄膜表面的硼原子浓度更高;高掺硼浓度和低沉积气压下所生成的较大晶粒尺寸和更高硼原子浓度的硼掺杂金刚石电极具有更优越的电化学性能、更高的降解效率以及更低的降解能耗。 展开更多
关键词 钛基硼掺杂金刚石薄膜电极 电化学氧化 掺硼浓度 沉积气压 四环素
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